HPLC法測定鹵米松乳膏中有關物質

安明，常珍，呂寧，郎昌野，孫靜芬

鹵米松是一種強效外用糖皮質激素類固醇藥物，具有抗炎、抗過敏、抗增生、收縮毛細血管和止癢等作用。目前臨床使用的鹵米松主要劑型為乳膏劑，其適應證為對皮質類固醇治療有效的非感染性炎癥性皮膚病，如脂溢性皮炎、接觸性皮炎、異位性皮炎、局限性神經(jīng)性皮炎、濕疹、白癜風、尋常型銀屑病和扁平苔蘚等。鹵米松乳膏因使用方便、起效迅速、療效顯著，而得到廣泛的臨床應用，并有大量文獻報道[1-7]。但鹵米松及鹵米松乳膏相關的質量研究報道卻極少，僅有 1 篇鹵米松原料藥有關物質研究和 1 篇鹵米松乳膏含量測定的文獻[8-9]，尚未見到對鹵米松乳膏有關物質進行系統(tǒng)研究的報道。隨著近年來國家藥監(jiān)部門對藥品質量控制的加強和質量標準的提高，外用制劑的有關物質研究成為質控重點之一。因此，系統(tǒng)研究鹵米松乳膏的有關物質，并建立嚴格的控制標準，對于保證藥品質量和臨床用藥安全具有重要意義。

本文參照相關文獻方法[8,10]，建立了鹵米松乳膏有關物質檢測的高效液相色譜（HPLC）分析方法，并對方法學進行了全面系統(tǒng)的驗證。在此基礎上，對多個批次的鹵米松乳膏自制品進行了有關物質檢測，并與原研品進行了比較。

1 材料與方法

1.1 材料

LC-20A 型高效液相色譜儀（包括 LC-20AT型二元高壓梯度泵、SIL-20AC 型自動進樣器、CTO-20AC 型柱溫箱、SPD-20A 型紫外檢測器、Labsolution 工作站）為日本島津公司產(chǎn)品；Ultimate 3000 型高效液相色譜儀（包括集成式四元泵、自動進樣器、柱溫箱、二極管陣列檢測器和變色龍工作站）為美國賽默飛世爾科技有限公司產(chǎn)品；MS105DU 型電子天平為美國梅特勒托利多公司產(chǎn)品。

鹵米松乳膏自制品（批號：171201、171202、171203）由湖南明瑞制藥有限公司生產(chǎn)；鹵米松乳膏原研品（批號：6171131、6171119）為香港澳美制藥廠產(chǎn)品；鹵米松對照品（純度：95.9%）、雜質A（純度：80.48%）、雜質 B（純度：95.12%）、雜質 C（純度：97.86%）、雜質 D（純度：97.37%）、雜質 E（純度：97.50%）、雜質 F（純度：96.94%）、雜質 G（純度：99.02%）、雜質 H（純度：99.75%）、雜質 I（純度：99.27%）、雜質 J（純度：92.41%）、雜質 K（純度：99.56%）均由湖南明瑞制藥有限公司標定；HPLC 級乙腈為美國 Honeywell 公司產(chǎn)品；GR 級冰醋酸為美國阿拉丁公司產(chǎn)品；水為超純水。

1.2 方法

1.2.1 色譜條件 色譜柱：Agilent ZORBAX SB-C18 色譜柱（4.6 mm × 250 mm，5 μm）；流動相：以 0.03% 冰醋酸為流動相 A，乙腈為流動相 B，按表1 所列條件進行梯度洗脫；流速：0.8 ml/min；檢測波長：238 nm；柱溫：35 ℃；進樣體積：20 μl。

表1 鹵米松乳膏有關物質檢查色譜條件的梯度洗脫程序Table 1 Gradient elution procedure of chromatographic condition for the determination of the related substances in halomethasone ointment

1.2.2 溶液配制 供試品溶液：取鹵米松乳膏內(nèi)容物適量（約相當于鹵米松 5 mg），置具塞錐形瓶中，加乙腈:水:冰醋酸（75:25:0.03）10 ml 和氯化鈉 0.2 g，60 ℃ 水浴振搖使鹵米松溶解，置冰浴中放置 30 min，取出搖勻，放至室溫，取上清液3000 r/min 離心 1 min 后，經(jīng) 0.22 μm 濾膜濾過，取續(xù)濾液作為供試品溶液。

對照溶液：精密量取供試品溶液 1 ml，置100 ml 量瓶中，以乙腈:0.03% 冰醋酸溶液（50:50）稀釋至刻度，搖勻，作為對照溶液（1.0%）。

靈敏度溶液：精密量取對照溶液 1 ml，置 20 ml量瓶中，以乙腈:0.03% 冰醋酸溶液（50:50）稀釋至刻度，搖勻，作為靈敏度溶液（0.05%）。

系統(tǒng)適用性溶液：取鹵米松對照品、雜質 A、雜質 C、雜質 F、雜質 G、雜質 J 對照品各適量，精密稱定，加乙腈:0.03% 冰醋酸溶液（50:50）溶解并定量稀釋制成約含鹵米松 0.5 mg/ml、各雜質 2.5 μg/ml 的溶液，作為系統(tǒng)適用性溶液。

1.2.3 測定法 參照高效液相色譜法（《中國藥典》2020年版四部通則 0512）試驗，采用上述色譜條件，取系統(tǒng)適用性溶液 20 μl 注入液相色譜儀，按鹵米松、雜質 G、雜質 J、雜質 F、雜質 C、雜質 A 的順序依次出峰，上述各峰之間的分離度均應符合要求。取靈敏度溶液 20 μl 注入液相色譜儀，主成分峰高的信噪比應大于 10。再取對照溶液和供試品溶液各 20 μl，注入液相色譜儀，記錄色譜圖。供試品溶液色譜圖中如有雜質峰（扣除相對鹵米松保留時間 0.35 倍之前的苯氧基乙醇峰及其他輔料峰），采用加校正因子的自身對照法進行計算，雜質 A、C、F、G、J 峰面積均不得大于對照溶液主峰面積的 0.5 倍（0.5%）；其他單個雜質峰面積不得大于對照溶液主峰面積的 0.5 倍（0.5%）；各雜質峰面積和不得大于對照溶液主峰面積的 2 倍（2.0%）。供試品溶液色譜圖中小于靈敏度溶液中主峰面積的峰忽略不計（0.05%）。鹵米松及各雜質結構式見圖1，相對校正因子見表2。

表2 鹵米松乳膏各有關物質相對校正因子及可接受限度Table 2 Relative correction factor and acceptable limit of various related substances in halomethasone ointment

圖1 鹵米松及鹵米松乳膏中各有關物質結構式Figure 1 Structural formula of halomethasone and various related substances in halomethasone ointment

1.2.4 專屬性 鹵米松乳膏有關物質標準中，已知雜質規(guī)定了雜質 A、雜質 C、雜質 F、雜質 G、雜質 J。專屬性試驗應考察溶劑、空白輔料對測定有無干擾；鹵米松主峰與相鄰雜質峰之間，以及各雜質峰相互之間是否能夠很好地分離。各溶液配制方法如下：

溶劑1：乙腈:0.03%冰醋酸溶液（50:50）。

溶劑2：乙腈:水:冰醋酸（75:25:0.03）。

空白輔料溶液：取鹵米松乳膏自制品處方比例空白輔料約 10 g，精密稱定，置 50 ml 具塞錐形瓶中，加 10 ml 溶劑 2 和氯化鈉 0.2 g，水浴 60 ℃振搖使鹵米松溶解，置冰浴中放置 30 min，取出搖勻，放至室溫，取上清液離心 1 min（3000 r/min）后，經(jīng) 0.22 μm 濾膜濾過，取續(xù)濾液，即得。

各雜質對照品貯備液（500 μg/ml）：取鹵米松雜質 A、雜質 B、雜質 C、雜質 D、雜質 E、雜質 F、雜質 G、雜質 H、雜質 I、雜質 J、雜質 K對照品各約 10 mg，精密稱定，分別置不同 20 ml量瓶中，加溶劑 1 溶解并稀釋至刻度，搖勻，即得。

混合雜質對照品貯備液 1（10 μg/ml）：分別精密量取上述各雜質對照品貯備液（500 μg/ml）各1 ml，置同一 50 ml 量瓶中，加溶劑 1 稀釋至刻度，搖勻，即得。

混合雜質對照品貯備液 2（25 μg/ml）：分別精密量取上述雜質 A、雜質 C、雜質 F、雜質 G、雜質 J、雜質 K 對照品貯備液（500 μg/ml）各1 ml，置同一 20 ml 量瓶中，加溶劑 1 稀釋至刻度，搖勻，即得。

系統(tǒng)適用性溶液：取鹵米松工作對照品約10 mg，精密稱定，置 20 ml 量瓶中，精密加入 2 ml混合雜質對照品貯備液 1（10 μg/ml），加溶劑 1 溶解并稀釋至刻度，搖勻，即得。

自制品溶液：取鹵米松乳膏自制品（批號：171201）約 10 g，精密稱定，置 50 ml 具塞錐形瓶中，然后按上述空白輔料溶液配制方法操作，即得。

自制品 + 混合雜質對照品溶液（0.5%）：取鹵米松乳膏自制品約 10 g，精密稱定，置 50 ml 具塞錐形瓶中，加 1 ml 混合雜質對照品貯備液 2、9 ml 溶劑 2 和氯化鈉 0.2 g，然后按上述空白輔料溶液配制方法操作，即得。

原研品溶液：取鹵米松乳膏原研品（批號：6171131）約 10 g，精密稱定，置 50 ml 具塞錐形瓶中，然后按上述空白輔料溶液配制方法操作，即得。

自制品自身對照溶液：精密量取自制品溶液1 ml，置 100 ml 量瓶中，加溶劑 1 稀釋至刻度，搖勻，即得。

靈敏度溶液：精密量取自制品自身對照溶液1 ml，置 20 ml 量瓶中，加溶劑 1 稀釋至刻度，搖勻，即得。

精密量取上述溶液各 20 μl，分別注入液相色譜儀，記錄色譜圖。

1.2.5 干擾性 干擾性試驗應考察供試品溶液色譜圖中主峰是否為純峰，以及高溫、強酸、強堿、氧化、光照等破壞條件下降解的供試品溶液相對于未破壞供試品溶液物料平衡率是否在 90% ～ 110%之間，各峰之間是否能夠充分分離?？瞻纵o料溶液、自制品未破壞溶液、原研品未破壞溶液配制方法同1.2.4 專屬性項下各溶液。

取鹵米松乳膏自制品約 10 g，精密稱定，平行數(shù)份，分別：①置 50 ml 具塞錐形瓶中，置高溫120 ℃ 烘箱中，放置 16 h 后取出，冷卻至室溫（高溫破壞）；②置 50 ml 石英量瓶中，在 4500 Lx 光照強度下放置 24 h 后取出（光照破壞）；③置50 ml 石英量瓶中，在 200 μW/cm2紫外光照強度下放置 24 h 后取出（紫外光照破壞）；④置 50 ml具塞錐形瓶中，加入 1 mol/L 鹽酸 1 ml，放置24 h 后，立即加入 1 mol/L 氫氧化鈉溶液 1 ml 中和（強酸破壞）；⑤置 50 ml 具塞錐形瓶中，加1 mol/L 氫氧化鈉溶液 1 ml，放置 16 h 后，立即加入 1 mol/L 鹽酸 1 ml 中和（強堿破壞）；⑥置50 ml 具塞錐形瓶中，加入 30% 雙氧水 1 ml，放置 24 h（氧化破壞）。然后，分別按照 1.2.4 專屬性項下自制品溶液配制方法操作（其中強氧化破壞樣品中加入溶劑 9 ml，強酸和強堿破壞樣品中加入溶劑 8 ml，其余破壞樣品中均加入溶劑 10 ml），分別作為相應破壞條件的自制品溶液。

原研品和空白輔料各破壞條件溶液的配制方法與自制品相應破壞條件的溶液相同。

精密量取上述溶液各 20 μl，分別注入液相色譜儀，記錄色譜圖。

1.2.6 線性與范圍 取鹵米松對照品適量，加溶劑溶解并稀釋制成適當濃度的主成分對照品溶液；分別取雜質 A、C、F、G、J、K 對照品，加溶劑溶解并稀釋制成系列濃度的各雜質對照品溶液。取各溶液 20 μl，注入液相色譜儀，記錄色譜圖。以濃度 C（μg/ml）為橫坐標，以峰面積 A 為縱坐標，進行線性回歸，求出線性方程。

1.2.7 定量限與檢測限 取上述線性與范圍項下各溶液，以溶劑逐步稀釋，精密量取 20 μl，注入液相色譜儀，記錄色譜圖，按峰高約為基線噪音10 倍和 3 倍分別作為定量限（S/N ≥ 10）和檢測限（S/N ≥ 3）。

1.2.8 精密度

⑴重復性：按照專屬性項下方法分別配制自制品溶液和自制品自身對照溶液。按照專屬性項下空白輔料溶液配制方法，僅將其中 10 ml 溶劑 2 替換為 1 ml 混合雜質對照品貯備液 2（25 μg/ml）+9 ml 溶劑 2，制得混合雜質對照品溶液。分別精密量取上述溶液各 20 μl，分別注入液相色譜儀，記錄色譜圖。以 6 份自制品溶液中雜質含量（采用加校正因子的自身對照法計算）的 RSD 考察方法的重復性。

⑵中間精密度：不同操作人員采用不同儀器于不同日期照重復性項下方法進行自制品溶液（6 份）和自制品自身對照溶液的配制。以 12 份自制品中雜質含量（采用加校正因子的自身對照法計算）的 RSD 考察方法的中間精密度。

1.2.9 準確度 按“1.2.8 精密度”中“重復性”項下方法，配制混合雜質對照品溶液。向鹵米松乳膏自制品中分別加入“1.2.4 專屬性”項下所述混合雜質對照品貯備液 2（25 μg/ml）適量，按自制品溶液配制方法操作，制備成含各已知雜質限度量的 50%、100%、150% 濃度的溶液，作為回收率供試品溶液。分別精密量取該回收率供試品溶液各 0.5 ml，置 50 ml 量瓶中，加溶劑稀釋至刻度，搖勻，作為回收率自身對照溶液。

精密量取上述溶液各 20 μl，分別注入液相色譜儀，記錄色譜圖。按加校正因子的自身對照法計算回收率。

1.2.10 溶液穩(wěn)定性 照專屬性項下方法配制自制品溶液，于室溫條件下放置，在 0、4、8、12、24、36、48 h 分別量取 20 μl，注入液相色譜儀，記錄色譜圖。以各已知雜質、單雜、總雜含量變化及雜質峰個數(shù)考察自制品溶液穩(wěn)定性。

1.2.11 耐用性

⑴校正因子耐用性：考察了更換不同色譜柱（色譜柱 1、2、3）以及微調(diào)柱溫（33、35、37 ℃），流速（0.75、0.8、0.9 ml/min），檢測波長（236、238、240 nm），流動相初始比例（流動相 A:B 分別為63:37、65:35、67:33）等條件，對校正因子結果的影響。

⑵方法耐用性：考察了更換不同色譜柱（色譜柱 1、2、3）以及微調(diào)柱溫（33、35、37 ℃），流速（0.75、0.8、0.9 ml/min），檢測波長（236、238、240 nm），流動相初始比例（流動相 A:B 分別為63:37、65:35、67:33）等條件，對系統(tǒng)分離情況和雜質檢測結果的影響。

1.2.12 樣品有關物質檢測 采用上述經(jīng)過驗證的有關物質檢查方法，對鹵米松乳膏 3 批自制品和 2 批原研品進行檢測。

2 結果

2.1 專屬性

由專屬性試驗結果（圖2 和表3）可知：溶劑和空白輔料對測定無干擾；主峰與相鄰雜質峰之間，以及各已知雜質峰與相鄰峰之間均能很好分離；靈敏度溶液中，主成分峰高信噪比 ＞ 10；自制品中檢出雜質 C、雜質 F 和雜質 J；原研品中檢出雜質 C、雜質 F 和雜質 G；自制品中加入混合雜質對照品后，相應雜質位置檢出雜質峰。結果表明，自制品與原研品雜質譜基本一致，本方法專屬性良好。

表3 鹵米松乳膏有關物質檢查專屬性試驗結果Table 3 Results of specificity test of halomethasone ointment

圖2 鹵米松乳膏有關物質檢查專屬性試驗色譜圖（A：溶劑 1；B：空白輔料溶液；C：系統(tǒng)適用性溶液；D：靈敏度溶液；E：自制品溶液；F：自制品+混合雜質對照品溶液；G：原研品溶液）Figure 2 Chromatograms of specificity test of halomethasone ointment (A: Solvent 1; B: Blank excipient solution; C: System suitability solution; D: Sensitivity solution; E: Self-made preparation solution; F: Self-made preparation + mixed impurities reference solution; G: Reference preparation solution)

2.2 干擾性

由干擾性測定結果（代表性圖譜見圖3）可知，空白輔料在各條件下破壞后，對測定無干擾。各破壞條件下的自制品和原研品經(jīng)二極管陣列（PDA）檢測器測定主峰純度，均為單一峰。自制品和原研品對強酸破壞基本穩(wěn)定，對強堿破壞極不穩(wěn)定，在其他破壞條件下不穩(wěn)定。具體如下：

高溫破壞條件下，自制品雜質 G、J、F、C、其他單個最大雜質和總雜質均有所增加；原研品雜質 G、F、C 及總雜質有所增加。光照破壞條件下，自制品和原研品的雜質 G、F 及總雜質均稍有增加。紫外光照條件下，自制品雜質 A 和總雜質有所增加；原研品雜質 F、A 和總雜質有所增加。強酸破壞條件下，自制品僅總雜質稍有增加；原研品僅雜質 G 和總雜質稍有增加。強堿破壞條件下，自制品和原研品雜質 G、J、F 均稍有增加，均出現(xiàn)新的未知雜質峰（自制品在 RRT 0.54 和 RRT 0.56 處，原研品在 RRT 0.55 和 RRT 0.57 處），總雜質均明顯增加。氧化破壞條件下，自制品雜質J 稍有增加，原研品總雜質稍有增加。

破壞前后物料平衡率計算結果表明，各破壞條件下，破壞前后物料守恒（物料平衡率在 93.9% ～103.4% 之間）?？梢姡痉椒ǜ蓴_性符合相關規(guī)定。

由于空白輔料在各破壞條件下對測定無干擾，原研品與自制品在各破壞條件下結果類似，因此圖3中僅列出自制品未破壞和各破壞條件下色譜圖。

圖3 鹵米松乳膏有關物質檢查干擾性試驗色譜圖（A：空白輔料溶液；B：自制品溶液；C：原研品溶液；D：高溫破壞；E：光照破壞；F：紫外光照破壞；G：強酸破壞；H：強堿破壞；I：氧化破壞）Figure 3 Chromatograms of interference test of halomethasone ointment (A: Blank excipient solution; B: Self-made preparation solution; C: Reference preparation solution; D: High temperature damaged; E: Light damaged; F: Ultraviolet light damaged; G:Strong acid damaged; H: Strong alkali damaged; I: Strong oxidants damaged)

2.3 線性與范圍

線性與范圍測定結果見表4。主成分鹵米松有兩個線性方程，其中方程 1 對應有關物質檢測時供試品濃度的線性，方程 2 對應限度濃度范圍的線性。

表4 鹵米松及各有關物質線性方程Table 4 Linear equation of halomethasone and various related substances by HPLC

結果表明，主成分鹵米松與各已知雜質（雜質A、C、F、G、J、K）在上述濃度范圍內(nèi)，濃度與峰面積線性相關系數(shù)r均 ≥ 0.9992，各雜質和主峰的截距/限度濃度峰面積均 ＜ 10%，各峰響應因子RSD 均 ＜ 10%。因此各雜質濃度與峰面積線性關系均良好。

2.4 定量限與檢測限

由表5 可見，0.0032% 的雜質 A、0.0013% 的雜質 C、0.0009% 的雜質 F、0.0019% 的雜質 G、0.0017% 的雜質 J、0.0018% 的雜質 K 均能被有效檢出；鹵米松的檢測限相當于供試品溶液主成分濃度的 0.003%，表明 0.003% 的未知雜質能被有效檢出?？梢婝u米松及各雜質檢測限完全滿足鹵米松乳膏有關物質檢查標準限度的要求。

表5 鹵米松及各有關物質定量限和檢測限Table 5 Limit of quantitation and detection of halomethasone and various related substances by HPLC

2.5 精密度

2.5.1 重復性 鹵米松乳膏有關物質重復性結果表明：6 份自制品中均未檢出雜質 G 和雜質 K，均在 RRT 約 1.64 處檢出最大單雜，檢出的已知雜質 A、C、F、J、最大單雜及總雜含量的 RSD 分別為 4.48%、3.19%、2.20%、1.59%、6.90%、2.42%，均小于 10%?？梢姳痉椒ㄖ貜托粤己?。

2.5.2 中間精密度 鹵米松乳膏有關物質中間精密度結果表明：12 份自制品中均未檢出雜質 G 和K，均在 RRT 約 1.64 處檢出最大單雜；檢出的已知雜質 C、F、J、最大單雜及其總雜含量的 RSD 分別為 2.61%、3.71%、3.36%、5.29%、3.04%，均小于 10.0%；雜質 A 含量 RSD 為 17.23%，極差小于限度的 20%（限度為 0.5%）。表明本方法中間精密度良好。

2.6 準確度

準確度結果（表6）表明：在 50%、100% 和150% 限度濃度下，制劑中各雜質回收率均在 92% ～105% 之間；各濃度下各雜質回收率 RSD 均小于5.0%?？梢姳痉椒ǜ麟s質回收率較高，準確度良好。

表6 鹵米松乳膏有關物質檢查準確度結果Table 6 Accuracy of various related substances in halomethasone ointment by HPLC

2.7 溶液穩(wěn)定性

溶液穩(wěn)定性結果表明，室溫條件下放置 48 h，各時間點自制品溶液中各雜質均無明顯變化，均未檢出雜質 G 和雜質 K，雜質 A、C、F、J、最大單雜和總雜含量的 RSD 分別為 8.21%、1.47%、2.27%、0.82%、8.39%、2.95%，均小于 10%，說明室溫條件下放置溶液穩(wěn)定性良好。

2.8 耐用性

2.8.1 校正因子耐用性試驗結果 更換色譜柱以及微調(diào)柱溫、流速、檢測波長、流動相初始比例的條件下，各已知雜質和主成分鹵米松的濃度與峰面積線性關系均良好；不同條件下各雜質校正因子的RSD 均小于 10.0%。結果表明本方法校正因子耐用性良好。

2.8.2 方法耐用性試驗結果 更換色譜柱以及微調(diào)柱溫、流速、檢測波長、流動相初始比例的條件下，系統(tǒng)適用性溶液中各峰間分離度均大于 1.5，系統(tǒng)適用性試驗耐用性良好；供試品中均未檢出雜質 G 和雜質 K，檢出的已知雜質 A、C、F、J 和最大單雜及總雜含量 RSD 均小于 10%；在微調(diào)柱溫和流動相比例后，雜質的相對保留時間稍有變化，因此，在質量標準中采用雜質對照品配制系統(tǒng)適用性溶液進行雜質的定位。結果表明本方法耐用性良好。

2.9 樣品有關物質檢測

對鹵米松乳膏 3 批自制品和 2 批原研品進行有關物質檢測，結果見表7。

表7 鹵米松乳膏有關物質檢查結果Table 7 Result of the related substances in halomethasone ointment

由上述結果可知，鹵米松乳膏自制品和原研品雜質譜基本一致，各批次自制品和原研品中各已知雜質、其他最大單個雜質和總雜質含量均在規(guī)定限度內(nèi)，說明各批次樣品有關物質均符合所訂質量標準的規(guī)定。

3 討論

本文參考了鹵米松乳膏國家藥品標準有關物質項下對單個雜質及總雜質的限度規(guī)定，并結合自制鹵米松乳膏所用原料藥的合成路線、結構特點以及制劑處方工藝條件和降解路徑，對鹵米松乳膏的雜質譜進行了全面系統(tǒng)的研究。在此基礎上，進一步完善了鹵米松乳膏有關物質檢測條件，建立了本文所述的有關物質檢查方法。

國家藥品標準中鹵米松乳膏有關物質項下，并未規(guī)定已知雜質采用自身對照法計算雜質含量；而本研究中對多個已知雜質進行了規(guī)定，且采用加校正因子的自身對照法計算各已知雜質含量，使雜質定量更為準確。

本研究中干擾性試驗顯示鹵米松乳膏自制品和原研品在強堿、高溫、光照及氧化條件下均不穩(wěn)定，可降解出雜質 A、C、F、G、J，因此將這幾種已知雜質納入鹵米松乳膏有關物質標準中。雜質K 為鹵米松原料藥的工藝雜質，在鹵米松乳膏干擾性試驗和影響因素試驗中并未降解產(chǎn)生，因此，雖在方法學驗證中對其進行研究，但未將其納入制劑質量標準中。此外，鹵米松原料藥的工藝雜質還包括雜質 D（中間體 2）、雜質 B（中間體 2 的工藝副產(chǎn)物）、雜質 E（中間體 3）、雜質 H（氟米松）、雜質 I（中間體 1），這些雜質在鹵米松乳膏干擾性和影響因素試驗中均不會降解產(chǎn)生，且在原料藥質量標準中已進行規(guī)定，因此鹵米松乳膏有關物質方法中不再進行相關研究，僅在方法學驗證過程中的系統(tǒng)適用性溶液中加入，以確保制劑中如果引入這些工藝雜質，在所建立的色譜條件下能夠有效分離并檢出。

綜上所述，本文建立了鹵米松乳膏有關物質檢查的 HPLC 法，并進行了全面系統(tǒng)的方法學驗證。結果表明，該法專屬性良好，干擾性符合相關規(guī)定，各已知雜質濃度-峰面積之間的線性關系良好，方法精密度、準確度和耐用性均良好，可用于簡便、快速、準確地檢測鹵米松乳膏中的有關物質。

采用該法對鹵米松乳膏 3 批自制品和 2 批原研品進行了有關物質檢查，結果表明，自制品和原研品雜質譜基本一致，自制品中各已知雜質、單個未知雜質和總雜質均低于質量標準規(guī)定的限度。