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      傳輸線插入損耗建模與仿真

      2023-04-07 02:25:56姜自發(fā)吳善巧金麗蓮
      中國新技術(shù)新產(chǎn)品 2023年1期
      關(guān)鍵詞:插入損耗銅箔傳輸線

      姜自發(fā) 吳善巧 金麗蓮

      (1.浙江大華技術(shù)股份有限公司中央研究院,浙江 杭州 310053;2.浙江省視覺物聯(lián)融合應(yīng)用重點(diǎn)實(shí)驗室,浙江 杭州 310053)

      0 引言

      為了滿足日益增長的數(shù)據(jù)存儲、數(shù)據(jù)傳輸與交換的需求[1],信號傳輸速率迭代升級越來越快,高速Serdes 得到廣泛應(yīng)用。

      對PCB 板級的傳輸線來說,信號在傳輸線上傳播的過程中的能量損失即是損耗。信號頻率越高,損耗越明顯,這個損耗通常也稱之為插入損耗。

      插入損耗在通信及射頻電路設(shè)計是一個重要的指標(biāo),在剛開始設(shè)計時,射頻工程師會提前預(yù)估電路或系統(tǒng)的插入損耗,然后才開始設(shè)計和選型。在天線應(yīng)用中,較低的電路插入損耗可以降低天線饋線的能量損耗,同時可提高其輻射單元的效率和擴(kuò)大其信號覆蓋范圍。

      插入損耗無論是射頻電路還是串行Serdes 鏈路,重點(diǎn)關(guān)注損耗的關(guān)鍵因素,提前預(yù)估傳輸線損耗很重要,這里主要討論P(yáng)CB 上傳輸線的插入損耗。

      1 有損傳輸線

      有損傳輸線在頻域的傳輸形式,相當(dāng)于單位長度電阻、電感、電容、電抗等無數(shù)級互聯(lián)在一起,也就是RGLC 模型。

      傳輸線的特征阻抗如公式(1)所示。

      式中:Zo為傳輸線特征阻抗;R為傳輸線上的導(dǎo)體損耗,G為傳輸線上的介質(zhì)損耗。

      傳輸線的損耗可以近似式(2)[2]。

      式中:αn為損耗,Np;RL為傳輸線單位長度電阻;GL為傳輸線單位長度電導(dǎo);Zo為傳輸線特征阻抗,Ω。

      通常我們都習(xí)慣于將奈培轉(zhuǎn)換為用電壓比值(dB/單位長度)來表示單位長度損耗,傳輸線單位長度損耗dB/單位長度:

      式中:αdB為損耗,dB/長度;RL為導(dǎo)線單位長度串聯(lián)電阻;GL為傳輸線單位長度電導(dǎo);Zo為傳輸?shù)奶卣髯杩梗瑔挝皇铅浮?/p>

      1.1 介質(zhì)損耗

      介電損耗是指電介質(zhì)在交變電場中消耗部分電能而使電介質(zhì)本身發(fā)熱的現(xiàn)象。PCB 中的帶狀線的介質(zhì)損耗可以用公式(4)進(jìn)行計算[3]:

      式中:α介質(zhì)損耗為介質(zhì)損耗;F為頻率,GHz;df為介質(zhì)損耗系數(shù);dk為介質(zhì)介電常數(shù)。

      1.2 導(dǎo)體損耗

      導(dǎo)體損耗又分為直流損耗和交流損耗兩部分。

      在高頻的信號傳輸中,直流損耗相比交流損耗小很多,基本可以忽略。導(dǎo)體到傳輸交流信號時,導(dǎo)體電流是變化的,導(dǎo)體電流變化的頻率升高時,導(dǎo)體內(nèi)部電流趨于表面,電流流過導(dǎo)體橫截面面積變小了,這就是趨膚效應(yīng)。在高頻信號傳輸時,導(dǎo)體中的流過電流的橫截面的厚度約等于趨膚深度δ[2]。

      式中:F為頻率;μ為磁導(dǎo)率;σ為電導(dǎo)率。

      因此導(dǎo)體的交流電阻如公式(6)所示。

      式中:Rac_cond為導(dǎo)體交流電阻,ρ為電阻率。W為傳輸線寬。實(shí)際情況是電流并不完全局限于單一的趨附深度的,因此從Rdc到Rac之間的過渡更多是漸進(jìn)的,并不連續(xù)。如果希望用相對平滑的曲線來描述其更為真實(shí)的情況,就可以用平方根函數(shù)來表述。

      式中:Rtotal為總電阻,Rdc為直流電阻,Rac為交流電阻。

      PCB 中微帶線傳輸線,傳輸線有趨附效應(yīng),信號電流趨于表面,GND 回流電流主要在信號線下方3 倍參考高度H的區(qū)域內(nèi);回流平面的電流密度變化隨著距離信號中心越遠(yuǎn)電流密度越?。痪嚯x信號中心3 h 以上的區(qū)域電流密度只有中心電流密度的10%[4]。

      式中:J(d)為電流密度函數(shù)。

      如果將距離信號中心3 h 以外的電流忽略,那么回流地上的交流電阻如公式(8)所示。

      式中:Rac_ground為傳輸線地平面上的交流回路電阻;ωeff傳輸線中有效線寬;h為傳輸線距離參考帶高度;f為傳輸線上信號帶頻率,μ為磁導(dǎo)率。

      信號線的交流阻抗如公式(9)所示。

      傳輸線上總的交流電阻Rac,micro如公式(10)所示。

      對帶狀線來說,等效于2 個微帶線并聯(lián),帶狀線總交流電阻Rac_strip如公式(11)所示。

      通過上面得到傳輸線的交流電阻,可以通過公式(12)求解其導(dǎo)體損耗。

      式中:a導(dǎo)體損耗為導(dǎo)體損耗;Zo(f)為當(dāng)前頻率下的特征阻抗;Rac_Strip(f)為當(dāng)前頻率下的帶狀線單位長度交流電阻;Length為帶狀線長度。

      1.3 粗糙銅銅箔導(dǎo)體損耗建模

      實(shí)際生活中使用的銅箔,無論是壓延銅還是電解銅,其表面都不是很光滑的,銅箔表面有微小的顆料凸起,帶有毛糙的,用電子顯微鏡觀察其表面,呈現(xiàn)不規(guī)則顆料狀的凸起。

      在PCB 在生產(chǎn)加工過程中,銅箔表面需要進(jìn)行粗化處理,以加強(qiáng)銅箔與PCB 基材間的結(jié)合力。粗糙的銅箔表面會增加傳輸線的導(dǎo)體損耗,且隨著頻率的增大,由于趨附效應(yīng)的影響導(dǎo)體損耗急劇增加。

      銅箔表面的粗糙度有很多種測量方法和衡量標(biāo)準(zhǔn)。通常用輪廓算數(shù)偏差Rq、十點(diǎn)最大高度值Rz或統(tǒng)計均方根RMS來表示[4]。

      受PCB 的傳輸線的導(dǎo)體銅箔表面粗糙度的影響,其導(dǎo)體損耗比光滑銅箔的導(dǎo)體損耗大很多,如果直接用理想導(dǎo)體損耗進(jìn)行計算,會與實(shí)際情況偏差較大,為糾正該偏差,需要對其粗糙銅箔導(dǎo)體損耗進(jìn)行建模。

      銅箔表面粗糙度對傳輸信號損耗的模型有很多,其中Hammerstad(哈默斯模型) 模型、Hemispherical 模型(半球模型)、Huray 模型[4]。這3 個在業(yè)界用得比較多,對低粗糙度的傳輸線模擬結(jié)果比較接近實(shí)測,具有比較好的模擬預(yù)測效果。當(dāng)Hammerstad 模型的頻率高于 5 GHz 時,模擬結(jié)果與實(shí)際偏差開始變大,已不能準(zhǔn)確模擬預(yù)測結(jié)果。

      Huray(休雷模型)模型是 Huray(休雷)等在Hemispherical模型的基礎(chǔ)上,通過電磁場分析理論并根據(jù)麥克斯韋方程對電磁場進(jìn)行計算。Huray 等認(rèn)為可以將粗糙銅箔表面的結(jié)構(gòu)看作是由一堆各種尺寸的小銅球在光滑的表面堆積構(gòu)成的,信號從粗糙銅箔表面進(jìn)行傳輸受其電磁波的反射駐波與吸收共同作用。

      如果能夠?qū)υ揌uray 模型進(jìn)行理想化統(tǒng)一,將模型進(jìn)一步優(yōu)化,這樣就不需要SEM 工具進(jìn)行測量,直接根據(jù)銅箔粗糙度進(jìn)行建模求解,假設(shè)粗糙的銅箔表面全部是由直徑(2r)一致的14 個小銅球按規(guī)則堆積排布而成小山丘。

      圖1 等體積單位小球排布圖

      14 個均勻小球排布下,按照Huray 變式可以得到優(yōu)化后的粗糙銅箔導(dǎo)體損耗系數(shù),如公式(13)所示。

      式中:Ksr為電導(dǎo)損耗系數(shù);Aflat為正方形面積;r為均勻銅球半徑;Hrms為銅箔粗糙度。有損傳輸線的損耗是導(dǎo)體損耗和介質(zhì)損耗的和,其輻射損耗和反射損耗很小,一般忽略。所以傳輸線的總損耗如公式(14)所示。

      1.4 有損傳輸線損耗模型修正

      生產(chǎn)廠家為增加銅箔與PCB 樹脂之間的黏結(jié)力,一般來說,銅牙大的朝板內(nèi),銅牙較小的朝外側(cè);這樣銅箔毛面與介質(zhì)粘結(jié)會使兩者的結(jié)合力更強(qiáng),銅箔更不易脫落。所以通常銅箔的毛面朝向介質(zhì)內(nèi)光面朝外,經(jīng)高溫壓合制成芯板。等式(13)中Hrms是銅箔的粗糙度的均方根等效值,對于一根帶狀線來說,其傳輸線銅箔內(nèi)外表面的銅箔粗糙度是不同的,如果直接用銅箔的最大粗糙度進(jìn)行仿真計算,傳輸線的插入損耗的仿真結(jié)果要比實(shí)際偏差很多,特別是對于HTE銅箔適用性偏差較大。為保證仿真精度與準(zhǔn)確性,將Hrms與實(shí)際銅箔粗糙度進(jìn)行等效換算。常見銅箔HTE 和HVLP 兩類銅箔不同厚度的粗糙度見表1[5]。

      表1 銅箔粗糙度

      傳輸線的銅箔粗糙度Hrms應(yīng)該是毛面與光面兩者綜合的效果,需要取其均值。因此,銅箔等效粗糙度Hrms=(Rz(光)+Rz(毛))/2,銅箔光面一般用Rq進(jìn)行計量,為統(tǒng)一到Rz這種計量方式,即將其統(tǒng)一等效為Rz有效值進(jìn)行計算,Rz(光)=k×Rq(K為常數(shù)),從以往多次試驗結(jié)果總結(jié)來看,k=8 比較與實(shí)際等效值比較吻合。

      式中:Rz(eff)為銅箔粗糙度Rz的有效值。

      2 傳輸線損耗模型實(shí)測驗證

      2.1 設(shè)計驗證的PCB

      采用帶狀傳輸線,PCB 疊構(gòu)設(shè)計為多層板,PCB 銅厚1oz(34μm),分別采用普通FR4、低損兩種材料制作,PCB疊構(gòu)設(shè)計及其布線參數(shù)見表2。

      表2 普通FR4-A、低損材料-B 參數(shù)規(guī)格

      2.2 模型仿真驗證

      普通FR4-A 選用的銅箔為是HTE(高延展性)銅箔,低損材料-B 選用的銅箔是HVLP(超低輪廓)銅箔;銅箔粗糙度分別見表1[5]。

      根據(jù)公式(15),HTE 銅箔的Rz(eff) =5.3μm;HVLP銅箔Rz(eff)=1.55μm。

      普通FR4-A、低損材料-B 其銅箔粗糙度Rz、介電常數(shù)DK、損耗系數(shù)DF參數(shù)見表3。

      表3 dk、df、Rz 參數(shù)設(shè)置

      傳輸上下層介質(zhì)dk和df值有一些差異,傳輸線銅箔上面兩面的銅牙深度也不相同,為保證精度又方便計算,取其均值進(jìn)行計算,對普通FR4-A 其dk=4.12,df=0.0175,Rz=5.3 μm;低損材料-B 其dk=3.56,df=0.004,Rz=1.55 μm。

      分別對PCB 中的長短兩根線利用AFR 方法分別對其進(jìn)行去嵌,得到去嵌后的傳輸線S 參數(shù)(dB)。按照表1、表3 兩個表格參數(shù)進(jìn)行配置,利用前面的仿真模型分別對兩種材料的傳輸線進(jìn)行建模計算,仿真結(jié)果和實(shí)測結(jié)果見表4。

      表4 普通FR4-A 與低損材料-B 仿真與實(shí)測

      從實(shí)測和仿真結(jié)果對比來看,對普通FR4-A 仿真結(jié)果與實(shí)測一致性較好,2 GHz 以下的仿真值比實(shí)測偏大5.12%~7.87%,2 GHz 以上,偏差變小,偏差范圍在0.95%~2.89%,整體上看,低頻偏差大一些,高頻部分偏差變小,整體一致性較好,仿真結(jié)果與實(shí)測結(jié)果基本吻合,誤差小于5.12%(2GHz 以上)。從實(shí)測和仿真結(jié)果對比來看,對低損材料-B 仿真結(jié)果與實(shí)測一致性比較好,6 GHz 以下仿真值比實(shí)測偏大1.82%~4.03%,6 GHz 以上,偏差變大,偏差范圍在5.73%~8.85%,整體上看,低頻偏差小一些,整體一致性較好,仿真結(jié)果與實(shí)測結(jié)果吻合,高頻部分偏差變大,整體偏差范圍不超過8.85%。

      綜上所述,仿真結(jié)果能夠較好地反映實(shí)際情況,仿真結(jié)果與實(shí)測結(jié)果偏差的原因也是多方面的:例如受生產(chǎn)工藝的影響,蝕刻線寬、層壓厚度、線路層殘銅率引起參考層面厚度變化,還有內(nèi)層棕化處理對銅箔粗糙度影響[8];所處環(huán)境的溫度和濕度變化也會影響板材dk、df的變化,從而引起損耗變化;加上材料本身的頻變特性等因素,這些都會影響傳輸線實(shí)際情況的表現(xiàn),使仿真結(jié)果與實(shí)測結(jié)果出現(xiàn)偏差。

      3 總結(jié)

      從上述建立的傳輸?shù)牟迦霌p耗模型,基本可以較好地表征傳輸線實(shí)際的插入損耗,總誤差小于8.85%,完全可以用于工程實(shí)踐,例如對PCB 上傳輸線(例如數(shù)字電路中Serdes的鏈路傳輸線、射頻天線饋線、射頻信號線等)的插入損耗做預(yù)估仿真,指導(dǎo)設(shè)計。該模型中關(guān)鍵數(shù)據(jù)參數(shù)Rz、dk、df獲得的準(zhǔn)確性直接與仿真精度相關(guān)。當(dāng)前模型dk、df 沒有考慮溫濕度環(huán)境因素的影響,對于溫濕度的影響可以通過測量其dk、df在溫濕度變化下的表現(xiàn),評估其傳輸線在不同環(huán)境下的插入損耗,或者得到環(huán)境因素變化下其插入損耗的變化情況。

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