申請(qǐng)?zhí)? 202310316429.0
【申請(qǐng)日】2023.03.29
【公開(kāi)號(hào)】CN116024570A
【公開(kāi)日】2023.04.28
【分類(lèi)號(hào)】C23C14/28;C23C14/08;C23C24/08;C23C28/00
【申請(qǐng)人】中北大學(xué)
【發(fā)明人】董和磊; 王夢(mèng)竹; 譚秋林; 熊繼軍
【摘 要】本發(fā)明公開(kāi)了一種超高溫曲面金屬基厚/薄膜傳感器絕緣層及其制備方法。本發(fā)明解決了現(xiàn)有金屬基厚/薄膜傳感器絕緣層在高溫環(huán)境下導(dǎo)致傳感器的可靠性降低、制備成本高、制備過(guò)程復(fù)雜的問(wèn)題。一種超高溫曲面金屬基厚/薄膜傳感器絕緣層,包括層疊于曲面合金基底上表面的介質(zhì)/金屬混合漸變過(guò)渡膜層、層疊于介質(zhì)/金屬混合漸變過(guò)渡膜層上表面的自由電子阻擋膜層、層疊于自由電子阻擋膜層上表面的第一介質(zhì)膜層、層疊于第一介質(zhì)膜層上表面的第二介質(zhì)膜層、層疊于第二介質(zhì)膜層上表面的第三介質(zhì)膜層、層疊于第三介質(zhì)膜層上表面的敏感膜層。本發(fā)明適用于曲面金屬基厚/薄膜傳感器。