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      X80 管線鋼表面摻氟類(lèi)金剛石薄膜在完井液中的腐蝕行為研究

      2023-12-16 08:05:02姚子健任毅陳東旭李靜周艷文
      鞍鋼技術(shù) 2023年6期
      關(guān)鍵詞:等效電路耐蝕性電化學(xué)

      姚子健,任毅,陳東旭,李靜,周艷文

      (1. 遼寧科技大學(xué)材料與冶金學(xué)院,遼寧 鞍山 114051)2. 海洋裝備用金屬材料及其應(yīng)用國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,遼寧 鞍山 114009)

      隨著我國(guó)工業(yè)的快速發(fā)展, 石油天然氣的需求日益增加,我國(guó)開(kāi)始大規(guī)模鋪設(shè)輸油管道。 X80管線鋼由于具有高強(qiáng)度、高韌性、良好的焊接性,被廣泛用作輸油管道用材[1]。石油在開(kāi)采過(guò)程中常會(huì)混入CaCl2、MgCl2等雜質(zhì),長(zhǎng)期接觸會(huì)對(duì)管道內(nèi)壁產(chǎn)生嚴(yán)重點(diǎn)蝕[2-3]。Wang 等人[4]研究了露天條件下X80 鋼在NaCl 溶液中發(fā)生的點(diǎn)蝕行為,發(fā)現(xiàn)不同pH 條件下生成的腐蝕產(chǎn)物膜對(duì)氯離子都有很低的耐蝕性, 并且點(diǎn)蝕程度受氯化物濃度影響不顯著。Ilman[5]報(bào)道了一起海底輸油管道漏油事故,發(fā)現(xiàn)氯離子引起的點(diǎn)蝕和侵蝕流的共同作用增加了沿流動(dòng)方向的腐蝕速率, 管道內(nèi)壁形成淚滴狀凹坑導(dǎo)致泄露。

      類(lèi)金剛石(Diamond-like Carbon,DLC)涂層是一種常用的表面改性方法,涂覆在管道內(nèi)壁可以有效減緩管道內(nèi)壁腐蝕。作為一種具有網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)的非晶態(tài)碳膜,內(nèi)部碳原子主要以sp2雜化鍵(石墨結(jié)構(gòu))和sp3雜化鍵(金剛石結(jié)構(gòu))結(jié)合,這使得DLC薄膜兼顧了石墨和金剛石的特性, 具有高的硬度、低介電常數(shù)、優(yōu)異的減摩抗磨性能和良好的化學(xué)惰性,在不同領(lǐng)域都有應(yīng)用前景[6]。 但是沉積過(guò)程中DLC 薄膜內(nèi)部會(huì)產(chǎn)生較大內(nèi)應(yīng)力,使膜-基結(jié)合強(qiáng)度下降,這限制了DLC 薄膜在復(fù)雜環(huán)境中的應(yīng)用。為了改善DLC 薄膜的綜合性能, 常會(huì)在薄膜中摻雜N、Si、F 等元素,有研究表明[7],添加適量的氟可以降低內(nèi)應(yīng)力,提高對(duì)基體的結(jié)合強(qiáng)度。

      本文利用等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積技術(shù),以X80 管線鋼為襯底進(jìn)行摻氟DLC(F-DLC)薄膜的制備,對(duì)薄膜表面形貌和機(jī)械性能進(jìn)行分析,并利用電化學(xué)技術(shù)研究Cl-對(duì)F-DLC 薄膜的腐蝕行為,探討了摻氟量對(duì)腐蝕過(guò)程的影響。

      1 實(shí)驗(yàn)方法

      1.1 實(shí)驗(yàn)材料

      實(shí)驗(yàn)使用X80 管線鋼。 將試樣切割為長(zhǎng)度15 mm、寬度10 mm、厚度5 mm 的長(zhǎng)方體,再依次使用240#、600#、1000#、1500#、2000#的金相砂 紙打磨, 利用拋光機(jī)將工作面拋光至鏡面, 超聲清洗0.5 h 后干燥備用。

      1.2 薄膜制備

      實(shí)驗(yàn)采用PECVD-1000 型真空鍍膜機(jī), 圖1為PECVD 設(shè)備示意圖。 在試樣表面制備F-DLC薄膜時(shí),先打開(kāi)機(jī)械泵和分子泵,將真空度抽到2×10-3Pa,隨后向真空腔中通入100 mL/min 氬氣30 min,清除腔體內(nèi)殘余空氣,除氣完成后調(diào)節(jié)氬氣流量為45 mL/min,保持腔體壓強(qiáng)為2 Pa,在試樣上施加2 600 V 脈沖電壓30 min,對(duì)試樣表面進(jìn)行高壓清洗,以去除表面雜質(zhì)與氧化物,清洗完成后通入一定流量比的C2H2和CF4進(jìn)行F-DLC 薄膜的制備,制備時(shí)間120 min,脈沖電壓1 800 V,脈沖寬度15 μs。 本實(shí)驗(yàn)摻氟氣體流量比RF=CF4/(C2H2+CF4),具體工藝參數(shù)如表1。

      表1 摻氟DLC 薄膜沉積的工藝參數(shù)Table 1 Process Parameters for Fluorine-doped DLC Film Deposition

      圖1 PECVD 設(shè)備示意圖Fig. 1 Schematic Diagram for PECVD Equipment

      1.3 薄膜表征方法

      使用型號(hào)為CSPM 5500 型原子力顯微鏡(AFM)對(duì)薄膜表面三維形貌進(jìn)行表征。使用MST-4000 型號(hào)的劃痕儀對(duì)F-DLC 薄膜的結(jié)合力進(jìn)行表征, 通過(guò)薄膜破裂時(shí)的聲信號(hào)突變所受的加載力來(lái)確定膜與基體的結(jié)合力, 該實(shí)驗(yàn)的終止加載力為100 N,載荷加速度為100 N/min,劃痕長(zhǎng)度為5 mm。 使用MS-T3000 型摩擦磨損儀測(cè)量薄膜的摩擦系數(shù),摩擦副為直徑4 mm 的氧化鋯球,載荷300 g,磨損半徑3 mm。

      1.4 電化學(xué)測(cè)試

      采用Vertex. C. EIS 型電化學(xué)工作站對(duì)薄膜耐腐蝕性能進(jìn)行檢測(cè),使用工作電極、對(duì)電極(鉑片)、參比電極(飽和甘汞電極,SCE)的三電極體系。 電化學(xué)阻抗譜的測(cè)量頻率范圍是0.01~1 MHz, 振幅為10 mV,測(cè)量結(jié)束后使用Zview 軟件對(duì)阻抗譜進(jìn)行擬合。動(dòng)電位極化曲線的電位掃描范圍是相對(duì)于開(kāi)路電位-200~400 mV,掃描速度為1.6 mV/s。 腐蝕介質(zhì)選擇質(zhì)量分?jǐn)?shù)33%的CaCl2溶液。

      2 實(shí)驗(yàn)結(jié)果與討論

      2.1 不同摻氟量下F-DLC 薄膜的表面形貌

      利用PECVD 制備F-DLC 的過(guò)程中, 隨著CF4含量的增加, 腔體內(nèi)氟離子的數(shù)量增加,氟離子與碳?xì)渥杂苫械臍浣Y(jié)合形成易揮發(fā)的HF[8-9],留下許多懸掛鍵。 這些懸掛鍵與氣相中的氟離子結(jié)合,使碳氟鍵的含量增加。 當(dāng)CF4含量繼續(xù)增加, 氟離子會(huì)對(duì)基體表面造成刻蝕效應(yīng),使得碳氟鍵聚集,形成氟碳團(tuán)簇,使表面粗糙度增大。 因此,隨著摻氟量的增加,薄膜表面粗糙度增大。

      圖2 是不同摻氟量下F-DLC 薄膜的AFM 掃描結(jié)果。 從圖2 中可以看出, 隨著RF的增加,F(xiàn)DLC 薄膜的表面粗糙度增大。RF為0.5 時(shí),薄膜的表面粗糙度最大,為6.02 nm,薄膜表面顆粒尺寸較大。

      2.2 不同摻氟量下F-DLC 薄膜的結(jié)合強(qiáng)度

      圖3 為不同摻氟量下F-DLC 薄膜劃痕儀測(cè)試結(jié)果。從圖3 中可以看出,不摻雜氟元素時(shí)制備的DLC 薄膜結(jié)合力為4.97 N。 隨著摻氟量的增加,F(xiàn)-DLC 薄膜與基體的結(jié)合強(qiáng)度明顯提高。摻氟量RF為0.5 時(shí), 薄膜與基體的結(jié)合力最大,為13.26 N。 薄膜與基體的結(jié)合強(qiáng)度與薄膜中的內(nèi)應(yīng)力有關(guān),當(dāng)薄膜內(nèi)有較大內(nèi)應(yīng)力時(shí),會(huì)降低膜-基結(jié)合力。 隨著氟元素的加入,氟原子與薄膜中氫原子結(jié)合產(chǎn)生HF 揮發(fā)性氣體, 降低薄膜中氫的含量,調(diào)控非晶碳基網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu),使薄膜內(nèi)應(yīng)力降低。此外,氟原子的尺寸更大,取代氫原子會(huì)降低薄膜的原子密度,從而降低了非晶碳基網(wǎng)絡(luò)的剛度,導(dǎo)致內(nèi)應(yīng)力的下降。

      2.3 不同摻氟量下F-DLC 薄膜的摩擦磨損

      圖4 為不同摻氟量下F-DLC 薄膜摩擦系數(shù)曲線。 從圖4 中可以看出,隨著摻氟量的增加,薄膜表面的摩擦系數(shù)增大。有研究表明[10],DLC 薄膜的摩擦系數(shù)與薄膜中氫的含量有關(guān), 薄膜中氫的存在減少了薄膜中C=C 雙鍵的形成,使C=C 雙鍵引起的摩擦表面之間的黏著作用減弱, 降低薄膜的摩擦系數(shù),而氟的加入會(huì)降低薄膜中氫的含量。此外,摻雜氟元素后,薄膜表面粗糙度會(huì)增大,使摩擦表面之間的機(jī)械互鎖程度增大, 薄膜的摩擦系數(shù)增大,磨損率增加,耐磨性降低。

      圖4 不同摻氟量下F-DLC 薄膜摩擦系數(shù)曲線Fig. 4 Friction Coefficient Curves of F-DLC Films with Different Content of Fluorine Doping

      2.4 不同摻氟量下F-DLC 薄膜的耐蝕性能

      圖5 是不同摻氟量下制備的F-DLC 薄膜動(dòng)電位極化曲線。

      圖5 不同摻氟量下制備的F-DLC 薄膜動(dòng)電位極化曲線Fig. 5 Potentiodynamic Polarization Curves of F-DLC Films Prepared with Different Content of Fluorine Doping

      表2 為不同摻氟量下F-DLC 薄膜的腐蝕電流密度和腐蝕電位擬合結(jié)果。由表2 可以看出,氟元素的加入會(huì)改善DLC 薄膜的耐蝕性能,當(dāng)RF小于0.3 時(shí),隨著RF的增加,薄膜的腐蝕電位升高;RF=0.3 時(shí),腐蝕電位升高至-384.7 mV;當(dāng)RF繼續(xù)增加至0.5 時(shí),與未摻氟的DLC 薄膜相比,腐蝕電位降至-540.7 mV,腐蝕電流密度升高了一個(gè)數(shù)量級(jí)。這表明過(guò)量摻雜氟會(huì)降低DLC 薄膜的耐蝕性能。

      表2 不同摻氟量下F-DLC 薄膜的腐蝕電流密度和腐蝕電位擬合結(jié)果Table 2 Fitting Results of Corrosion Current Density and Corrosion Potential of F-DLC Films with Different Content of Fluorine Doping

      為進(jìn)一步研究摻氟量對(duì)DLC 薄膜耐蝕性能的影響,對(duì)不同摻氟量下制備的F-DLC 薄膜進(jìn)行了電化學(xué)阻抗測(cè)試,結(jié)果如圖6 所示。 從圖6(a)、6(b)中可以看出,阻抗譜響應(yīng)均為雙容抗弧,隨著RF的增加,F(xiàn)-DLC 薄膜的容抗弧的半徑先增大后減??;圖6(c)相位角圖表現(xiàn)為兩個(gè)時(shí)間常數(shù);從圖6(d)阻抗模值圖可以看出,隨著RF的增加,薄膜的阻抗模值先增大后減小。

      圖6 不同摻氟量下F-DLC 薄膜電化學(xué)阻抗測(cè)試結(jié)果Fig. 6 Electrochemical Impedance Test Results of F-DLC films with Different Content of Fluorine Doping

      圖7 為不同摻氟量下F-DLC 薄膜的等效電路圖。 圖中,Rs表示溶液電阻,Ω·cm2;Cc表示薄膜電容,F(xiàn)/cm2;Rp表示薄膜孔隙電阻,Ω·cm2;Cdl表示基體與腐蝕介質(zhì)形成的雙電層電容,F(xiàn)/cm2;Rct表示薄膜的電荷轉(zhuǎn)移電阻,Ω·cm2。

      圖7 不同摻氟量下F-DLC 薄膜的等效電路圖Fig. 7 Equivalent Circuit Diagram for F-DLC Films with Different Content of Fluorine Doping

      利用圖7 的等效電路對(duì)電化學(xué)阻抗譜進(jìn)行擬合,擬合結(jié)果見(jiàn)表3。從擬合結(jié)果中可以看出,隨著摻氟量的增加,薄膜電容Cc減小,當(dāng)RF為0.5 時(shí),薄膜電容降至6.94×10-8F/cm2。 有研究表明[11],電化學(xué)阻抗技術(shù)可以表征薄膜中的孔隙率, 薄膜電容越大,薄膜的孔隙率越小。 此外,RF為0.2 時(shí),電荷轉(zhuǎn)移電阻最大為9.07×104Ω·cm2,表明RF為0.2時(shí)薄膜腐蝕速率最低,耐蝕性能最好。

      表3 不同摻氟量下F-DLC 薄膜的等效電路擬合結(jié)果Table 3 Equivalent Circuit Fitting Results of F-DLC Films with Different Content of Fluorine Doping

      通過(guò)電化學(xué)阻抗譜可以發(fā)現(xiàn), 隨著摻氟量的增加,薄膜中的孔隙數(shù)量會(huì)增加,這是因?yàn)榉尤〈鶧LC 薄膜中的氫原子,使可以形成交聯(lián)結(jié)構(gòu)的sp3鍵含量下降,導(dǎo)致薄膜孔隙率增加,薄膜的耐蝕性能下降。普遍認(rèn)為,DLC 薄膜的耐蝕性與薄膜中sp3/sp2雜化鍵比例有關(guān),sp3/sp2雜化鍵比例越大,薄膜的耐蝕性能越好,而薄膜中氫的存在可以穩(wěn)定sp3雜化鍵。 當(dāng)在DLC 薄膜中摻雜氟元素時(shí),一方面,氟原子與薄膜中氫原子結(jié)合產(chǎn)生HF揮發(fā)性氣體,降低薄膜中氫的含量,使sp3雜化鍵向sp2雜化鍵轉(zhuǎn)化,sp3/sp2雜化鍵比例減小, 薄膜中的孔隙數(shù)量增加, 薄膜耐蝕性能降低。 另一方面,氟的加入也會(huì)使薄膜中形成更多的CFX基團(tuán),薄膜表面更加疏水,這提高了薄膜的耐蝕性能。薄膜表面疏水性和薄膜中sp3/sp2雜化鍵比例的競(jìng)爭(zhēng)影響, 使得薄膜的耐蝕性能表現(xiàn)出先增大后減小的規(guī)律。因此,適當(dāng)摻雜氟元素可以明顯改善DLC薄膜的耐蝕性能。

      2.5 F-DLC 薄膜在CaCl2 溶液中的浸泡實(shí)驗(yàn)

      通過(guò)對(duì)F-DLC 薄膜進(jìn)行電化學(xué)阻抗測(cè)試可以發(fā)現(xiàn),RF=0.2 的F-DLC 薄膜具有最好的耐蝕性能,因此選擇RF=0.2 的F-DLC 進(jìn)行在CaCl2溶液的浸泡15 天的實(shí)驗(yàn), 分析F-DLC 薄膜在Cl-環(huán)境下的腐蝕機(jī)理。 圖8 為CaCl2溶液浸泡15 天后F-DLC薄膜的電化學(xué)阻抗測(cè)試結(jié)果,可以發(fā)現(xiàn),隨著浸泡時(shí)間的增加, 容抗弧半徑表現(xiàn)出先增大后減小的規(guī)律。 在1~4 天內(nèi),阻抗譜均表現(xiàn)出兩個(gè)容抗弧,容抗弧半徑和阻抗模值略有增加, 說(shuō)明此時(shí)FDLC 薄膜對(duì)基體具有較好的保護(hù)作用。 第4 天阻抗譜低頻區(qū)出現(xiàn)感抗弧, 表明發(fā)生了中間產(chǎn)物的吸脫附過(guò)程。 在5~10 天內(nèi),溶液中的離子通過(guò)薄膜中的孔隙與基體接觸,感抗消失,腐蝕過(guò)程受離子侵蝕和腐蝕氧化物的影響。而在10~15 天內(nèi),薄膜的容抗弧半徑急劇減小,相位角曲線下降,溶液滲入到基體表面,加劇了腐蝕的發(fā)生。

      圖8 CaCl2 溶液浸泡15 天后F-DLC 薄膜的電化學(xué)阻抗測(cè)試結(jié)果Fig. 8 Electrochemical Impedance Test Results of F-DLC Films after Being Soaked in CaCl2 Solution for 15 days

      使用圖9 的等效電路對(duì)電化學(xué)阻抗譜進(jìn)行擬合,由于第四天低頻區(qū)出現(xiàn)感抗,所以用圖9(b)的等效電路對(duì)阻抗譜進(jìn)行擬合,其中L 為電感,擬合結(jié)果如表4 所示。可以發(fā)現(xiàn),在1~10 天內(nèi),隨著浸泡時(shí)間的增加,電荷轉(zhuǎn)移電阻Rct逐漸增大,說(shuō)明薄膜對(duì)腐蝕介質(zhì)滲透的阻礙能力增強(qiáng)。 有研究發(fā)現(xiàn)[12],缺陷處的電容越大,孔隙的面積也就越大。第10 天起,基體與腐蝕介質(zhì)形成的雙電層電容Cdl逐漸增大。 到第15 天時(shí)增大了兩個(gè)數(shù)量級(jí),說(shuō)明薄膜的缺陷面積變大,薄膜開(kāi)始破裂。

      表4 CaCl2 溶液浸泡15 天F-DLC 薄膜的等效電路擬合結(jié)果Table 4 Equivalent Circuit Fitting Results of F-DLC Films after Being Soaked in CaCl2 Solution for 15 days

      圖9 CaCl2 溶液浸泡15 天F-DLC 薄膜的等效電路圖Fig. 9 Equivalent Circuit Diagram for F-DLC Films after Being Soaked in CaCl2 Solution for 15 days

      圖10 為F-DLC 薄膜在CaCl2溶液中浸泡15天的腐蝕機(jī)理圖。

      圖10 在CaCl2 溶液中浸泡15 天F-DLC 薄膜的腐蝕機(jī)理圖Fig. 10 Corrosion Mechanism Diagram for F-DLC Films after Being Soaked in CaCl2 Solution for 15 days

      圖10(a)為浸泡初期,由于摻雜氟元素,薄膜中形成了CFX基團(tuán),使薄膜具有疏水性能,有效延緩了溶液的潤(rùn)濕過(guò)程,薄膜完整,溶液離子不能通過(guò)孔隙與基體表面接觸,可以有效保護(hù)基體,防止腐蝕的發(fā)生。

      圖10(b)、(c)為浸泡中期,溶液逐漸浸入到薄膜孔隙內(nèi),溶液中的Cl-和Ca2+通過(guò)孔隙進(jìn)入到基體表面發(fā)生反應(yīng), 生成的腐蝕產(chǎn)物堵塞住薄膜的孔隙部分,阻止了溶液中的Cl-的滲透,使腐蝕速率降低,其中鈣離子與腐蝕產(chǎn)物結(jié)合形成鈣和鐵氧化物的腐蝕產(chǎn)物膜,阻礙基體與溶液接觸。 隨著浸泡的進(jìn)行,孔隙內(nèi)Cl-濃度升高,Cl-逐漸滲透腐蝕產(chǎn)物膜。

      圖10(d)為浸泡后期,Cl-滲透腐蝕產(chǎn)物膜與基體接觸,隨著腐蝕的進(jìn)行,腐蝕產(chǎn)物頂破薄膜,腐蝕速率加快。

      3 結(jié)論

      利用等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積技術(shù)在X80管線鋼表面制備摻氟量不同的F-DLC 薄膜,對(duì)其形貌、機(jī)械性能及耐腐蝕性能進(jìn)行了表征和分析。在CaCl2溶液中浸泡15 天研究F-DLC 在Cl-環(huán)境下的腐蝕行為。

      (1) 隨著摻氟量的增加, 薄膜表面粗糙度增大, 氟原子與薄膜中的氫結(jié)合形成易揮發(fā)的HF,使薄膜中sp3鍵含量降低, 破壞了薄膜的交聯(lián)結(jié)構(gòu),當(dāng)CF4含量繼續(xù)增加,氟離子會(huì)對(duì)基體表面造成刻蝕效應(yīng),使得碳氟鍵聚集,形成氟碳團(tuán)簇,造成表面粗糙度增大。

      (2) 摻雜氟元素可以有效降低薄膜內(nèi)應(yīng)力,提高薄膜與基體的結(jié)合強(qiáng)度, 但是由于表面粗糙度增加,薄膜的摩擦系數(shù)增加,磨損率增加,耐磨性下降。

      (3) 氟摻入對(duì)DLC 薄膜的耐蝕性有重要影響。 少量的氟摻入能增加CFX鍵含量,提高疏水性能,進(jìn)而提高其耐腐蝕性,然而,高含量的氟摻入會(huì)增加薄膜的缺陷,使薄膜的耐腐蝕性下降。

      (4) 在浸泡實(shí)驗(yàn)中,初期薄膜具有疏水性,可以有效保護(hù)基體,隨著浸泡時(shí)間的增加,腐蝕產(chǎn)物填補(bǔ)薄膜中的孔隙部分,使腐蝕速率降低,浸泡后期Cl-滲透腐蝕產(chǎn)物膜進(jìn)入到基體表面,腐蝕速率加快。

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