淺層吸痰對(duì)機(jī)械通氣新生兒血氧飽和度影響的研究

曾 娟

在機(jī)械通氣氣管插管的護(hù)理中,吸痰是最基本的操作技術(shù),能否有效地清除呼吸道分泌物,將直接影響病人的血氧飽和度及轉(zhuǎn)歸。常規(guī)吸痰方法易造成缺氧、窒息、肺不張、心律失常等并發(fā)癥。近年來臨床開始有選擇性的使用淺層氣管內(nèi)吸引,但相關(guān)的報(bào)道不多。為探討機(jī)械通氣新生兒的有效吸痰方法,減少吸痰對(duì)機(jī)械通氣新生兒血氧飽和度的影響。我院NICU 2007年6月—2010年3月對(duì)機(jī)械通氣新生兒隨機(jī)采用淺層吸痰,并對(duì)吸引后的血氧飽和度進(jìn)行了監(jiān)測(cè),現(xiàn)將結(jié)果報(bào)告如下。

1 資料與方法

1.1 臨床資料 選擇2007年6月—2010年3月我科行機(jī)械通氣的新生兒93例,其中男53例,女40例;早產(chǎn)兒 66例,足月兒27例;疾病類型:早產(chǎn)兒原發(fā)性呼吸暫停42例,機(jī)械通氣新生兒窒息25例,機(jī)械通氣新生兒肺透明膜病11例,機(jī)械通氣新生兒吸入綜合征9例,機(jī)械通氣新生兒顱內(nèi)出血3例,機(jī)械通氣新生兒呼吸衰竭3例。

1.2 方法 將93例隨機(jī)分為對(duì)照組與實(shí)驗(yàn)組。記錄吸痰前、吸痰結(jié)束時(shí)及吸痰后2 min的血氧飽和度。實(shí)驗(yàn)組46例,實(shí)施淺層吸痰法。密切觀察病情變化及氣道通暢的情況,當(dāng)確定病人需要吸痰時(shí)用聽診器聽呼吸音,判斷痰液位置調(diào)整病人體位,調(diào)節(jié)呼吸及濕化液的溫度、濕度;選擇適當(dāng)?shù)奈?一次性密閉式吸痰管或三通管,管外徑≤氣管插管內(nèi)徑的1/2);前端插入不超過人工氣道出口端;調(diào)節(jié)吸壓力10.64 kPa～15.96 kPa,避免深部大負(fù)壓吸引,每次吸引時(shí)間≤15 s。吸引前后分別給予高濃度氧氣。按照操作規(guī)程,動(dòng)作輕柔敏捷,需要再次吸痰時(shí),中間間隔數(shù)秒,既保持痰液吸盡,又減輕對(duì)氣道黏膜的損傷。對(duì)照組47例,實(shí)施常規(guī)吸痰。常規(guī)吸痰除吸痰管前端插入超過人工氣道出口1 cm～2 cm外,其他方法與淺層吸痰相同。

1.3 統(tǒng)計(jì)學(xué)方法 采用t檢驗(yàn)。

2 結(jié)果(見表1)

表1 兩組吸痰過程SpO2比較±s) %

表1 兩組吸痰過程SpO2比較±s) %

組別 例數(shù) 吸痰前 吸痰結(jié)束時(shí) 吸痰結(jié)束后2 min實(shí)驗(yàn)組 46 91.3±2.9 92.1±2.7 95.0±2.1對(duì)照組 47 90.5±4.1 88.4±7.8 93.0±1.8 t值 1.277 2.810 2.920 P >0.05 <0.05 <0.05

3 討論

本研究顯示,淺層吸痰在吸痰中及吸痰結(jié)束后2 min,病人血氧飽和度與常規(guī)吸痰比較,差異有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義。與夏大珍等[1]的研究結(jié)果相似,認(rèn)為淺層吸痰比常規(guī)吸痰更能保證機(jī)械通氣新生兒的氧氣供給,維持血流動(dòng)力學(xué)的相對(duì)平衡。其原因可能是常規(guī)吸痰吸引管插入長(zhǎng)度超過人工氣道的長(zhǎng)度,可直接吸引到新生兒的氣管處,可引起嗆咳或引起機(jī)體發(fā)生應(yīng)急反應(yīng),降低肺泡內(nèi)氧分壓,至血氧飽和度降低。而淺層吸痰吸引管前端不超過人工氣道長(zhǎng)度,可避免吸引管對(duì)新生兒氣道的刺激,從而避免一系列不良的連鎖反應(yīng),達(dá)到確保人工氣道效果,又可盡可能避免及減低人工氣道吸引產(chǎn)生的副反應(yīng)[1,2]。另外吸引時(shí)機(jī)械通氣間斷,負(fù)壓吸出肺內(nèi)富氧氣體,吸引管與氣管導(dǎo)管比例不合適時(shí)阻塞或喉頭痙攣致氣道正壓進(jìn)氣喪失等,均可導(dǎo)致缺氧,血氧飽和度降低等。

[1]夏大珍,曹金鳳,馮慧娟,等.淺層吸痰在顱腦損傷疾病中運(yùn)用的護(hù)理研究[J].中國(guó)護(hù)理雜志,2005,2(12):33-35.

[2]中華護(hù)理學(xué)會(huì).臨床高新技術(shù)知識(shí)與現(xiàn)代護(hù)理1400問[M].北京:中國(guó)科學(xué)技術(shù)出版社,2000:9-10.