La0.88Te0.12MnO3/Si異質(zhì)結(jié)的整流和光伏特性研究*
陳鵬金克新陳長樂譚興毅
(西北工業(yè)大學(xué)凝聚態(tài)結(jié)構(gòu)與性質(zhì)陜西省重點實驗室,西安710072)
(2010年8月30日收到;2010年9月27日收到修改稿)
采用脈沖激光沉積法制備了La0.88Te0.12MnO3(LTMO)/Si異質(zhì)結(jié),該異質(zhì)結(jié)具有光生伏特效應(yīng)和良好的整流特性.光生電壓在394μs的時間內(nèi)很快增加到最大值然后逐漸減小.在T=80 K時,光生電壓的最大值大約是13.7 mV.隨著溫度的升高,熱漲落致使光生電壓最大值總體呈現(xiàn)減小趨勢,而且是非線性減小,這主要是由LTMO層發(fā)生金屬絕緣體轉(zhuǎn)變而導(dǎo)致的LTMO層能帶結(jié)構(gòu)的變化引起的.
異質(zhì)結(jié),光生伏特效應(yīng),電子摻雜
PACS:73.63.-b,73.61.-r,75.47.Lx,73.40.-c
摻雜稀土鈣鈦礦錳氧化物L(fēng)a1-xAxMnO3(A= Ca,Sr,Ba,Pb等)顯示出了特大磁電阻(CMR)效應(yīng)[1—3],在高性能的磁傳感和磁存儲器件等方面具有潛在的應(yīng)用前景,這使得這種材料成了研究的熱點之一.同時隨著不同類型和不同結(jié)構(gòu)功能器件研究的逐步深入,以錳氧化物為基的異質(zhì)結(jié)也引起人們越來越多的關(guān)注[4,5].事實上,自從巨磁電阻效應(yīng)被發(fā)現(xiàn)后不久,人們就嘗試制備了La0.67Sr0.33Mn O3/ SrTiO3/La0.67Sr0.33Mn O3磁性3層隧道結(jié),它顯示出了在低溫下的磁電阻率(MR)可高達(dá)1800%[6].Sugiura等[7]把上述異質(zhì)結(jié)中的一層鐵磁層用n型半導(dǎo)體La0.05Sr0.95TiO3代替,得到了一種p-i-n結(jié)構(gòu)的異質(zhì)結(jié),這種結(jié)具有良好的整流特性.之后,Tanaka等[8]去掉中間的絕緣層,用La0.9Ba0.1MnO3和Nb摻雜的SrTiO3制成了p-n結(jié)構(gòu)的異質(zhì)結(jié).與傳統(tǒng)半導(dǎo)體結(jié)相比,以錳氧化物為基的異質(zhì)結(jié)顯示出了獨特的性質(zhì),如p-n結(jié)電流和電壓的磁調(diào)制[9],光載流子的注入效應(yīng)等[10].近來,許多研究者對這類異質(zhì)結(jié)的光電效應(yīng)進(jìn)行了細(xì)致深入的研究,如Sun等[11]報道了La0.29Pr0.38Ca0.33Mn O3/SrNb0.005Ti0.995O3結(jié)的光生伏特效應(yīng),Lu等[12]報道了La0.7Sr0.3MnO3/Si p-n結(jié)的皮秒光電效應(yīng).但是,在這些報道中異質(zhì)結(jié)基本上是由p型錳氧化物和n型襯底組成.在稀土摻雜錳氧化物中,如果摻雜4價的Te和Ce等元素,則可能存在n型導(dǎo)電特性[13],并且已經(jīng)有報道觀察到了以Ce元素?fù)诫s的錳氧化物為基的異質(zhì)結(jié)的光生伏特效應(yīng)[14]以及光生電壓的磁調(diào)制效應(yīng)[15].本文在p型Si襯底上制備了La0.88Te0.12MnO3(LTMO)薄膜,并研究了LTMO/Si形成異質(zhì)結(jié)的伏安特性和由調(diào)制脈沖激光輻照而產(chǎn)生非平衡空穴和電子的光生伏特效應(yīng).
用脈沖激光沉積方法在p型單晶Si襯底上沉積了LTMO薄膜.為了避免在LTMO/Si界面形成非晶態(tài)的SiO2層,在Si襯底放入真空室之前,將清洗的Si襯底浸在4%的HF溶液中以除去表面可能存在的SiO2非晶層,處理后Si襯底立即被送入沉積室中,沉積室的真空度優(yōu)于5×10-5Pa.為避免重新氧化,先在室溫條件下沉積上初始的LTMO薄層,然后在0.5 Pa的氧氣氛下,將襯底加熱至780℃后繼續(xù)生長,詳細(xì)的制備條件見文獻(xiàn)[16].在LTMO表面和Si表面涂上Ag電極,然后將樣品放入帶有石英窗的Janis VPF 475型液氮低溫恒溫器中,從80 K到300 K依次測量異質(zhì)結(jié)的伏安特性和光生電壓,其中測量光生電壓的實驗裝置見文獻(xiàn)[17].使用的光源是Nd:YVO4連續(xù)激光器,波長是532 nm,功率為200 mW.激光用斬波器斬開成頻率為23.3 Hz的光脈沖,并且用分光鏡分開,一束光指向UPD 200-UP光電二極管,用來產(chǎn)生觸發(fā)信號.另一束光穿過石英窗指向樣品表面.用Tektronix數(shù)字示波器來采集觸發(fā)信號和光電壓信號.
3.1.薄膜結(jié)構(gòu)分析
LTMO薄膜的X射線衍射圖譜如圖1所示,LTMO薄膜表現(xiàn)出了(104),(012)和(024)的晶面取向.將圖中各衍射峰以及相對強(qiáng)度與標(biāo)準(zhǔn)鈣鈦礦結(jié)構(gòu)粉末X射線衍射PDF卡片比較,可知薄膜為多晶且具有鈣鈦礦菱方結(jié)構(gòu),空間群為R3 C[18,19].
圖1 LTMO薄膜的X射線衍射圖譜
3.2.薄膜的電阻-溫度特性
使用四探針法測量了LTMO薄膜的電阻隨溫度變化的關(guān)系曲線,如圖2所示.由圖中可以看到,LTMO薄膜發(fā)生了金屬—絕緣體相變,相變點的溫度(Tp)大約為140 K,這主要源于雙交換作用和小極化子效應(yīng)[16].
圖2 LTMO薄膜的電阻-溫度曲線.箭頭所指為發(fā)生金屬絕緣體轉(zhuǎn)變的溫度Tp
3.3.異質(zhì)結(jié)的整流特性
異質(zhì)結(jié)在不同溫度下的伏安(I-V)特性如圖3所示.定義電流由Si流向LTMO薄膜的壓降為正偏電壓.在很寬的溫度范圍內(nèi)都觀察到了較理想的pn二極管的整流特性,這與傳統(tǒng)的半導(dǎo)體p-n結(jié)類似.許多研究已經(jīng)表明LTMO具有n型導(dǎo)電特性[20,21],因此在n型LTMO界面附近,空穴從p型Si流向相鄰的n型LTMO,并與電子復(fù)合,從而形成了正的空間電荷區(qū).相似地,在p型Si界面附近形成了負(fù)的空間電荷區(qū).這樣,便在Si襯底和LTMO層之間形成了耗盡層,并在界面處形成了擴(kuò)散勢壘,以阻止載流子的進(jìn)一步擴(kuò)散.若在該異質(zhì)結(jié)兩端加正偏電壓(p型Si為正,n型LTMO為負(fù)),則勢壘降低,兩側(cè)的多數(shù)載流子通過p-n結(jié)向?qū)Ψ搅鲃樱纬纱蟮恼螂娏?相反,若在該異質(zhì)結(jié)兩端加反偏電壓,則勢壘增高,只有少數(shù)載流子流過p-n結(jié),形成很小的反向電流,從而表現(xiàn)出整流特性.異質(zhì)結(jié)的開啟電壓在280 K時為1 V,240 K時為1.17 V,200 K時為1.84 V,160 K時為2 V,可見開啟電壓隨著溫度降低而升高.通常溫度降低,異質(zhì)結(jié)的界面勢壘升高,需要更大的電壓才能驅(qū)動載流子越過勢壘,從而表現(xiàn)出開啟電壓增大[22,23].此外圖3中的I-V曲線還有一個特點,就是正向部分的斜率隨溫度降低而變?。@主要是由于界面層對載流子的俘獲作用,由于Si與LTMO晶格失配較大,在界面處有較多缺陷,致使部分載流子被缺陷俘獲.溫度越低,載流子被俘獲的越多,從而使得I-V曲線正向部分的斜率隨溫度降低而變小,這與Sugiura等[7]觀察到的結(jié)果相似.
圖3 異質(zhì)結(jié)在不同溫度下的伏安特性曲線
3.4.異質(zhì)結(jié)的光生伏特效應(yīng)
光生電壓信號隨時間變化的關(guān)系曲線如圖4所示.光生電壓在約394μs的時間內(nèi)增大到最大值(Up),然后逐漸減?。赥=80,290 K時光生電壓的最大值分別是13.7,1.3 mV.
圖4 在不同溫度下光生電壓隨時間的變化曲線
當(dāng)異質(zhì)結(jié)被波長為532 nm的調(diào)制脈沖激光照射時,由于稀土摻雜錳氧化物是一種窄禁帶的半導(dǎo)體,能隙約為1 eV[24,25],Si的能隙大約為1.12 eV,二者均小于激光光子的能量(2.34 eV),因而在LTMO薄膜和Si襯底中就分別產(chǎn)生了空穴和電子.圖5為產(chǎn)生光電流的示意圖,LTMO價帶上的電子吸收光子而躍遷到導(dǎo)帶,在價帶中形成空穴,在LTMO薄膜中的空穴具有較高的勢能,于是這些光生空穴流向具有較低勢能的Si層,與此同時,Si層中的電子流動到LTMO薄膜中.如上所述,光電流的方向與p-n結(jié)反向電流的方向一致,在p-n結(jié)開路的情況下,將在結(jié)兩端產(chǎn)生一定的光生電壓.光生電壓的上升時間在不同溫度下幾乎是相等的,這也證實了光生伏特過程是起源于光電效應(yīng)而不是激光的熱效應(yīng).
圖5 異質(zhì)結(jié)的能帶示意圖箭頭所指為薄膜被脈沖激光照射后產(chǎn)生的光生載流子的運動方向
光生電壓最大值Up隨溫度的變化如圖6所示.從總體上來看,隨著溫度的升高Up是單調(diào)減小的.值得注意的是,在溫度低于130 K和高于160 K時,Up與溫度基本上表現(xiàn)出線性關(guān)系,而在130和160 K之間,發(fā)生了轉(zhuǎn)變,這與LTMO薄膜的金屬-絕緣體相變溫度基本一致.我們知道,只有位于耗盡層附近或通過擴(kuò)散運動到達(dá)耗盡層的光生載流子才對光生電壓有貢獻(xiàn).光生電壓通常與以下兩個因素有關(guān),就是光生載流子的累積和耗盡層的寬度.當(dāng)溫度增加,由于較強(qiáng)的熱漲落,光生載流子的積累就減少,這將會導(dǎo)致光生電壓的減小,這與實驗中觀察到的結(jié)果是一致的.同時伴隨著金屬-絕緣體轉(zhuǎn)變,錳氧化物發(fā)生了能帶結(jié)構(gòu)的變化,即LTMO薄膜發(fā)生了自旋向上和自旋向下的次能帶的分裂,也就相當(dāng)于帶隙增加.這有可能產(chǎn)生兩種影響:載流子濃度的變化和耗盡層厚度的變化,其中耗盡層的厚度與擴(kuò)散電勢聯(lián)系緊密,擴(kuò)散電勢又由異質(zhì)結(jié)的LTMO和Si之間能帶的相對差異所決定[26].因此,光生電壓最大值隨著溫度的變化呈現(xiàn)出非線性關(guān)系.
圖6 光電壓最大值隨溫度變化的曲線箭頭標(biāo)出的溫度是LTMO發(fā)生金屬-絕緣體轉(zhuǎn)變的溫度
利用脈沖激光沉積法制備了LTMO/Si異質(zhì)結(jié),該異質(zhì)結(jié)顯示出了良好的整流特性,并且觀察到了體系的光生伏特效應(yīng).隨著溫度的增加,光生電壓是非線性減小的.分析表明這主要是由于LTMO層發(fā)生了金屬-絕緣體轉(zhuǎn)變,從而導(dǎo)致LTMO層能帶結(jié)構(gòu)發(fā)生變化所引起的.實驗表明,可以通過相變來控制光生伏特效應(yīng).這對光電器件的研究及開發(fā)應(yīng)用具有重要的意義且為其提供了新的思路.
[1]Jin S,Tiefel T H,McCormack M,F(xiàn)astnacht R A,Ramesh R,Chen L H 1994 Science 264 413
[2]Fontcuberta J,Martínez B,Seffar A,Pi ol S,García-Mu oz J L,Obradors X 1996 Phys.Rev.Lett.76 1122
[3]Wang J Q,Barker R C,Cui G J,Tamagawa T,Halpern B L 1997 Appl.Phys.Lett.71 3418
[4]Wang C,Liu Z L,Liu J M,Chen X M,Cui H Y,Xia C S,Yang Y,Lu W 2008 Acta Phys.Sin.57 0502(in Chinese)[王茺、劉昭麟、劉俊明、陳雪梅、崔昊楊、夏長生、楊宇、陸衛(wèi)2008物理學(xué)報57 0502]
[5]Yang F,Jin K J,Huang Y H,He M,Lu H B,Yang G Z 2010 Chin.Phys.B 19 087301
[6]Bowen M,Bibes M,Barthélémy A,Contour J P,Anane A,Lematre Y,F(xiàn)ert A 2003 Appl.Phys.Lett.82 233
[7]Sugiura M,Uragou K,Noda M,Tachiki M,Kobayashi T 1999 Jpn.J.Appl.Phys.38 2675
[8]Tanaka H,Zhang J,Kawai T 2001 Phys.Rev.Lett.88 027204
[9]Lu H B,Yang G Z,Chen Z H,Dai S Y,Zhou Y L,Jin K J,Cheng B L,He M,Liu L F,Guo H Z,F(xiàn)ei Y Y,Xiang W F,Yan L 2004 Appl.Phys.Lett.84 5007
[10]Katsu H,Tanaka H,Kawai T 2000 Appl.Phys.Lett.76 3245
[11]Sun J R,Xiong C M,Shen B G,Wang P Y,Weng Y X 2004 Appl.Phys.Lett.84 2611
[12]Lu H B,Jin K J,Huang Y H,He M,Zhao K,Cheng B L,Chen Z H,Zhou Y L,Dai S Y,Yang G Z 2005 Appl.Phys.Lett.86 241915
[13]Mitra C,Hu Z,Raychaudhuri P,Wirth S,Csiszar S I,Hsieh H H,Lin H J,Chen C T,Tjeng L H 2003 Phys.Rev.B 67 092404
[14]Sun J R,Lai C H,Wong H K 2004 Appl.Phys.Lett.85 37
[15]Sheng Z G,Zhao B C,Song W H,Sun Y P,Sun J R,Shen B G 2005 Appl.Phys.Lett.87 242501
[16]Wang J Y,Chen C L,Gao G M,Han L A,Jin K X 2006 Acta Phys.Sin.55 6617(in Chinese)[王建元、陳長樂、高國棉、韓立安、金克新2006物理學(xué)報55 6617]
[17]Jin K X,Zhao S G,Chen C L,Tan X Y,Jia X W 2009 J.Phys.D:Appl.Phys.42 015001
[18]Tan G T,Dai S Y,Duan P,Zhou Y L,Lu H B,Chen Z H 2003 J.Appl.Phys.93 5480
[19]Tan G T,Chen Z H 2007 Acta Phys.Sin.56 1702(in Chinese)[談國太、陳正豪2007物理學(xué)報56 1702]
[20]Tan G T,Dai S Y,Duan P,Zhou Y L,Lu H B,Chen Z H 2003 Phys.Rev.B 68 014426
[21]Tan G T,Chen Z H,Zhang X Z 2005 Acta Phys.Sin.54 379 (in Chinese)[談國太、陳正豪、章曉中2005物理學(xué)報54 379]
[22]Liu L F,Lu H B,Dai S Y,Chen Z H 2005 Acta Phys.Sin.54 2342(in Chinese)[劉麗峰、呂惠賓、戴守愚、陳正豪2005物理學(xué)報54 2342]
[23]Hu F X,Gao J,Sun J R,Shen B G 2003 Appl.Phys.Lett.83 1869
[24]Coey J M D,Viret M,von Molnár S 1999 Adv.Phys.48 167
[25]Tokura Y 1999 Colossal Magnetoresistive Oxides(London: Gordon and Breach)
[26]Sun J R,Shen B G,Sheng Z G,Sun Y P 2004 Appl.Phys.Lett.85 3375
PACS:73.63.-b,73.61.-r,75.47.Lx,73.40.-c
*Project supported by the National Natural Science Foundation of China(Grant Nos.61078057,50702046),the Foundation for Fundamental Research(Grant Nos.NPU-FFR-JC200821,JC201048),the“Aoxiang Star”Project and the 2009 Graduation Project Major Support Project of Northwestern Polytechnical University of China.
Corresponding author.E-mail:jinkx@nwpu.edu.cn
Rectifying behavior and photovoltaic effect in La0.88Te0.12MnO3/Si heterostructure*
Chen Peng Jin Ke-XinChen Chang-Le Tan Xing-Yi
(Shaanxi Key Laboratory of Condensed Matter Structures and Properties,Northwestern Polytechnical University,Xi’an 710072,China)
(Received 30 August 2010;revised manuscript received 27 September 2010)
The photovoltaic effect and the good rectifying behavior are observed in La0.88Te0.12MnO3(LTMO)/Si heterostructure fabricated by a pulsed laser deposition method.The photovoltage increases quickly to a maximum value at about 394μs and then decreases gradually.The maximum photovoltage is about 13.7 mV at T=80 K.The maximum photovoltage decreases with temperature increasing,which is attributed to the stronger thermal fluctuation.A nonlinear decrease of the maximum photovoltage in the photovoltages-temperature curve is observed,which is mainly caused by the change in the band structure of the LTMO layer due to the metal-insulator transition.
heterostructure,photovoltaic effect,electron-doped manganties
*國家自然科學(xué)基金(批準(zhǔn)號:61078057,50702046)、西北工業(yè)大學(xué)基礎(chǔ)研究基金(批準(zhǔn)號:NPU-FFR-JC200821,JC201048)、西北工業(yè)大學(xué)“翱翔之星”項目和2009年西北工業(yè)大學(xué)本科畢業(yè)設(shè)計重點扶持項目資助的課題.
.E-mail:jinkx@nwpu.edu.cn