孟海華,李 萬,吳穎穎,楊起全,莊 珺
(1.上海市科學學研究所,上海 200235 ;2. 中國科學技術(shù)發(fā)展戰(zhàn)略研究院,北京 100038)
上海區(qū)域戰(zhàn)略性技術(shù)路線圖研究
孟海華1,李 萬1,吳穎穎1,楊起全2,莊 珺1
(1.上海市科學學研究所,上海 200235 ;2. 中國科學技術(shù)發(fā)展戰(zhàn)略研究院,北京 100038)
區(qū)域戰(zhàn)略性技術(shù)路線圖是運用技術(shù)路線圖理論、思路和方法落實區(qū)域科技“十二五”規(guī)劃的嘗試和創(chuàng)新。本文從分析技術(shù)路線圖在區(qū)域?qū)用娴闹匾饔?、傳統(tǒng)技術(shù)路線圖思路在落實規(guī)劃研究中的局限入手,闡述了上海區(qū)域戰(zhàn)略性技術(shù)路線圖的主要設(shè)計、主要特點和研究方法,以上海集成電路戰(zhàn)略性技術(shù)路線圖為例,給出了作者在區(qū)域戰(zhàn)略性技術(shù)路線圖制作實踐過程中的主要經(jīng)驗和體會,實證了區(qū)域戰(zhàn)略性技術(shù)路線圖三圖一體的核心思想。最后,對上海區(qū)域戰(zhàn)略性技術(shù)路線圖的應(yīng)用效果進行了預(yù)測,指出了技術(shù)路線圖在實施過程中的關(guān)鍵要點。
區(qū)域戰(zhàn)略性技術(shù)路線圖;三圖一體;科技規(guī)劃
近年來,技術(shù)路線圖理論、思路和方法在國內(nèi)受到廣泛關(guān)注,相繼出現(xiàn)了產(chǎn)業(yè)技術(shù)路線圖、產(chǎn)品技術(shù)路線圖的研究熱潮。隨著上海市科技“十二五”規(guī)劃的編制完成,上海地區(qū)圍繞上海市科技“十二五”規(guī)劃中的系列重大任務(wù),率先研究和編制了進一步落實規(guī)劃的區(qū)域戰(zhàn)略性技術(shù)路線圖。
區(qū)域技術(shù)路線圖的研究與編制要對本地區(qū)經(jīng)濟社會與科技發(fā)展現(xiàn)狀和比較優(yōu)勢進行深入、詳細、充分的論證;對相關(guān)技術(shù)體系進行區(qū)域?qū)用娴氖崂?,并突出區(qū)域?qū)用婕夹g(shù)重點、難點和壁壘;對區(qū)域技術(shù)的研發(fā)資源、匹配資源、未來可能存在的威脅(如專利侵權(quán)訴訟等)進行深入探索。區(qū)域技術(shù)路線圖從區(qū)域基礎(chǔ)、技術(shù)自身的難易程度等角度和維度對技術(shù)進行評價和評估,以便相關(guān)主體在合適的時機切入技術(shù)的研究、開發(fā)或產(chǎn)業(yè)化。
企業(yè)通過技術(shù)路線圖可以對本區(qū)域相關(guān)領(lǐng)域和產(chǎn)業(yè)的創(chuàng)新發(fā)展有一個較為清晰的理解,明確本企業(yè)在領(lǐng)域和產(chǎn)業(yè)發(fā)展中的作用和地位,參考或直接使用區(qū)域戰(zhàn)略性技術(shù)路線圖形成的技術(shù)創(chuàng)新路徑,制定本企業(yè)的技術(shù)創(chuàng)新計劃和推進模式。對于參與技術(shù)路線圖研制過程的企業(yè)而言,可以更方便地借助“外力”,更為清晰地明確產(chǎn)學研合作的伙伴以及主要內(nèi)容,企業(yè)的研發(fā)項目也能夠更為恰當?shù)氐玫秸?、風險投資基金、產(chǎn)業(yè)投資基金乃至其他企業(yè)的資助和支持,進而在總體上增強了企業(yè)的技術(shù)創(chuàng)新能力。
技術(shù)路線圖是把對未來技術(shù)發(fā)展進行規(guī)劃的技術(shù)藍圖,通過一張以時間為基礎(chǔ)的多層結(jié)構(gòu)圖表現(xiàn)出來[1]。技術(shù)路線圖是在時間序列上系統(tǒng)描述“研發(fā)資源—技術(shù)—目標屬性”的發(fā)展過程??萍家?guī)劃是政府主導制定的,涵蓋了政府相關(guān)部門在未來五年或更長一段時間方方面面的相關(guān)工作。對于上海市科技“十二五”規(guī)劃來說,雖然凝練了系列重大任務(wù),但是每個具體重大任務(wù)的內(nèi)涵和外延幾乎都超出單個產(chǎn)業(yè)或產(chǎn)品的范圍。例如,筆者所承擔的規(guī)劃中的重大任務(wù)(之十二)—“集成電路裝備、特色產(chǎn)品和工藝”技術(shù)路線圖的研究編制工作,從具體內(nèi)容的解讀來看,包括光刻機等五個裝備、汽車電子等三個特色產(chǎn)品、硅基光電等工藝,這些裝備、特色產(chǎn)品和工藝難以在一張圖上加以描繪,按照一般技術(shù)路線圖的流程和步驟展開,則工作量巨大。因此,從落實規(guī)劃角度來說,傳統(tǒng)技術(shù)路線圖的表現(xiàn)形式要加以改變。
一般來說,科技五年規(guī)劃的編制從調(diào)研、論證、形成初稿到征求意見達成共識,再到報批核定,一般需要一年多的時間,這在客觀上“擠壓”了技術(shù)路線圖的制作時間。對于進一步落實規(guī)劃的路線圖來說,只有在相應(yīng)的時間節(jié)點上拿出一整套方案,才能真正體現(xiàn)其自身的意義和價值。但是,從歷次五年規(guī)劃的發(fā)布來看,這個時間點一般在規(guī)劃文本形成之后的三至四個月,甚至更短。而一般的產(chǎn)業(yè)技術(shù)路線圖或產(chǎn)品技術(shù)路線圖的制作時間至少需要半年,甚至更長。因此,傳統(tǒng)技術(shù)路線圖的研究流程和方法在落實規(guī)劃層面需要改進和創(chuàng)新。
產(chǎn)業(yè)、產(chǎn)品技術(shù)路線圖的主要服務(wù)對象是行業(yè)、企業(yè),主要研究時間維度上技術(shù)重點、技術(shù)難點及相互的內(nèi)在聯(lián)系、相關(guān)專利等壁壘、技術(shù)資源的相互匹配、銜接等。進一步落實未來五年規(guī)劃的技術(shù)路線圖的服務(wù)對象是區(qū)域產(chǎn)業(yè)技術(shù)的相關(guān)主管部門。因此,路線圖在研究方向上要更加偏向戰(zhàn)略性和區(qū)域性,研究內(nèi)容要對偏硬內(nèi)核(比如技術(shù)體系)進行一些軟化處理。
上海區(qū)域戰(zhàn)略性技術(shù)路線圖是技術(shù)路線圖在區(qū)域?qū)用娴囊环N發(fā)展和應(yīng)用,是最終實現(xiàn)區(qū)域科技創(chuàng)新體系中的創(chuàng)新資源最優(yōu)化配置的管理工具[2]。上海區(qū)域戰(zhàn)略性技術(shù)路線圖主要由情景圖、技術(shù)體系圖、技術(shù)路徑圖三部分構(gòu)成,情景圖、技術(shù)體系圖、技術(shù)路徑圖以技術(shù)路線圖層層遞進的研究思路為邏輯主線形成了一個整體,簡稱為“三圖一體”。
情景圖是描繪研究任務(wù)的未來目標,研究任務(wù)執(zhí)行后所預(yù)計會產(chǎn)生的典型情境的表達。情景圖的主要內(nèi)容涉及對國際上與重大任務(wù)、重點任務(wù)高度相關(guān)的最新動態(tài)的跟蹤和情報搜索,充分挖掘區(qū)域重大任務(wù)、重點任務(wù)的形成動因和特殊背景,分析任務(wù)面向的具體經(jīng)濟問題、社會問題、環(huán)境問題,以類似于研究任務(wù)再論證的方式,加深對任務(wù)的本質(zhì)意義的共識性理解。
根據(jù)三圖一體的原則,情景圖的時間跨度決定了戰(zhàn)略性技術(shù)路線圖的時間跨度。因此,情景圖的時間跨度既要從區(qū)域的實際出發(fā),緊扣區(qū)域更高一層的規(guī)劃、計劃的時間安排,又要結(jié)合實際的研究對象,留有余量。例如,針對“十二五”科技規(guī)劃中的重大任務(wù)制定的戰(zhàn)略性技術(shù)路線圖,在時間跨度上可以是2011-2020年,也可以是2011-2018年,適中的時間跨度視具體情況而定,最短不低于5年,最長不超過十年。
技術(shù)體系圖包含產(chǎn)品體系架構(gòu)、關(guān)鍵應(yīng)用技術(shù)、技術(shù)專利等主要信息,將研究任務(wù)相關(guān)產(chǎn)業(yè)或產(chǎn)品的體系架構(gòu),以技術(shù)點框圖的形式展現(xiàn),使之能夠?qū)ο嚓P(guān)的技術(shù)、尤其是關(guān)鍵應(yīng)用技術(shù)達到俯瞰的效果。同時,通過技術(shù)體系圖和輔助文字,獲得各類技術(shù)實現(xiàn)方案的基本認知。
需要注意的是,在技術(shù)體系梳理完畢以后,需要參照專家意見,結(jié)合情景圖中的愿景目標,進一步凝練出關(guān)鍵技術(shù)清單。清單中的關(guān)鍵技術(shù)條目是下一步技術(shù)路徑圖中的技術(shù)要點。
技術(shù)路徑圖是將關(guān)鍵應(yīng)用技術(shù)與情景目標銜接起來并賦以時間軸信息的圖表化的發(fā)展路線。通過機會窗口的分析和里程碑的設(shè)立,將適合本區(qū)域的應(yīng)用技術(shù)發(fā)展的路線進行了勾勒。技術(shù)路徑圖包含情景目標、關(guān)鍵應(yīng)用技術(shù)、機會窗口、時間軸和里程碑等主要元素。
技術(shù)路徑圖通過技術(shù)要點(關(guān)鍵技術(shù)清單中的技術(shù))和技術(shù)體系圖相關(guān)聯(lián)。同時,也和下一步的項目建議相關(guān)聯(lián),一般是統(tǒng)領(lǐng)技術(shù)要點的產(chǎn)業(yè)中的產(chǎn)品或產(chǎn)業(yè)重要發(fā)展方向和具體項目的名稱及內(nèi)容關(guān)聯(lián)。
區(qū)域戰(zhàn)略性技術(shù)路線圖的主要目的是落實科技規(guī)劃,在研究編制的總體設(shè)計上主要考慮了對內(nèi)涵豐富的科技規(guī)劃的多領(lǐng)域適用性、時間因素約束下的可行性、研究成果服務(wù)指向性。
相對于國內(nèi)廣東等地及上海本地已經(jīng)研究編制的產(chǎn)業(yè)技術(shù)路線圖,上海區(qū)域戰(zhàn)略性技術(shù)路線圖不拘泥于具體的技術(shù)細節(jié)及其相互關(guān)系,而更多地側(cè)重于面向區(qū)域科技領(lǐng)域重大發(fā)展需求,瞄準自主創(chuàng)新能力的增強和核心競爭力的提升,對區(qū)域經(jīng)濟社會全局和長遠發(fā)展具有重要的促進作用和深遠的影響力,從而更加突出戰(zhàn)略性。
相對于國家技術(shù)路線圖來說,上海區(qū)域戰(zhàn)略性技術(shù)路線圖研究更強調(diào)區(qū)域性,即路線圖所研究和解決的重大問題,所涉及的官、產(chǎn)、學、研各方面研究資源,對戰(zhàn)略產(chǎn)品的產(chǎn)業(yè)化可能性程度的發(fā)展路徑選擇等都具有濃厚的地域范圍的指向和約束。
此外,上海濃厚的科技創(chuàng)新戰(zhàn)略研究氛圍、豐富的科技資源和一定的產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)以及在技術(shù)預(yù)見、技術(shù)路線圖領(lǐng)域的研究積累,也成為上海研究編制區(qū)域戰(zhàn)略性技術(shù)路線圖的重要優(yōu)勢。
在上海區(qū)域戰(zhàn)略性技術(shù)路線圖研究中,主要使用了情景分析法、實地訪談?wù){(diào)研、小型德爾菲法、專家組法等。
上海集成電路關(guān)鍵核心裝備與特色產(chǎn)品和工藝戰(zhàn)略性技術(shù)路線圖是圍繞上海市科技“十二五”規(guī)劃重大任務(wù)制定的二十個區(qū)域戰(zhàn)略性技術(shù)路線圖之一,在具體研究中實地訪談、調(diào)研(兩輪,共12次)、專家會議(共4次),參照并改進了T-plan技術(shù)路線圖中相關(guān)實踐流程設(shè)計[3],使得情景分析法穿插融合在訪談?wù){(diào)研之中,實地訪談、調(diào)研和專家會議在時間上相互銜接,在內(nèi)容上相互關(guān)聯(lián),環(huán)環(huán)相扣。
“集成電路關(guān)鍵核心裝備與特色產(chǎn)品和工藝”重大任務(wù)包含5個關(guān)鍵裝備,3個特色產(chǎn)品,1個工藝。核心研究團隊從上海集成電路產(chǎn)業(yè)的實際出發(fā),結(jié)合相關(guān)主管部門的具體要求,以從事集成電路裝備制造的五家企業(yè)為核心展開兩輪調(diào)研。第一輪調(diào)研的主題是現(xiàn)狀基礎(chǔ)、愿景目標。情景分析主要穿插在第一輪中。第二輪調(diào)研在第二次專家會之后,其主題是區(qū)域技術(shù)路徑研判,包含區(qū)域技術(shù)體系的再論證。此外,還涉及企業(yè)的技術(shù)支撐合作伙伴、競爭對手、核心專利及專利訴訟等。
第一次專家會議主要是對第一輪調(diào)研結(jié)果進行論證,對在調(diào)研中形成的情景、愿景進行論證,結(jié)合情景圖論證“集成電路關(guān)鍵核心裝備與特色產(chǎn)品和工藝”產(chǎn)業(yè)鏈上5+3+1各個領(lǐng)域的未來五年的主要產(chǎn)品。第二次專家會議是在分發(fā)技術(shù)體系調(diào)查問卷及回收統(tǒng)計后召開的,主要是就初步形成的5+3+1各個領(lǐng)域技術(shù)體系進行論證并達成共識。在此基礎(chǔ)上,專家及核心研究小組結(jié)合未來5-10年可能實現(xiàn)的產(chǎn)品梳理5+3+1各個領(lǐng)域的關(guān)鍵技術(shù)清單。在第二輪調(diào)研訪談后召開第三次專家會,主要是就第二輪調(diào)研訪談的成果進行專家論證,進一步在專家層面達成共識。第三次專家會以后,核心研究小組繪制技術(shù)路徑圖初稿。第四次專家會主要是對已經(jīng)形成的技術(shù)路徑圖展開論證,審核相關(guān)項目建議,商討對策建議。
上海集成電路戰(zhàn)略性技術(shù)路線圖情景圖的設(shè)計參照了日本《戰(zhàn)略性技術(shù)路線圖2010》可充電電池領(lǐng)域?qū)肭榫皥D的設(shè)計(見圖1)[4]。A1X是對未來情景目標方向性描述,B1x是未來情景目標的功能性描述。
上海集成電路戰(zhàn)略性技術(shù)路線圖技術(shù)體系圖中A2X是技術(shù)領(lǐng)域、技術(shù)類別,B2x是技術(shù)要點。技術(shù)體系圖中針對技術(shù)要點分現(xiàn)狀與分析、舉措、評價等三個方面展開了層層遞進的描述性討論(見圖2)。
上海集成電路戰(zhàn)略性技術(shù)路線圖技術(shù)路徑圖的設(shè)計參照了國際半導體技術(shù)路線圖(ITRS)中可能解決方案圖的設(shè)計,并在其基礎(chǔ)上進行了創(chuàng)新(見圖3)。A3X代表未來5-10年區(qū)域可能實現(xiàn)的產(chǎn)品,B3x代表在技術(shù)體系下結(jié)合產(chǎn)品研判形成的關(guān)鍵技術(shù)清單。技術(shù)路徑圖的時間維度和情景圖、技術(shù)體系圖保持一致。在時間維度上,就關(guān)鍵技術(shù)的上海基礎(chǔ)、需要支持的類型及時間跨度、對上海經(jīng)濟社會發(fā)展的重要度、專利壁壘難易度進行了細致、深入地研判。
上海集成電路戰(zhàn)略性技術(shù)路線圖研究中為了使得光刻機、高端刻蝕機、離子注入機、清洗機、檢測設(shè)備等五個關(guān)鍵裝備在技術(shù)路徑圖上能夠銜接,在技術(shù)路徑圖中以集成電路工藝節(jié)點在時間維度上的展開作為串聯(lián)五個裝備路線圖的一條主線。
圖1 上海集成電路戰(zhàn)略性技術(shù)路線圖情景圖設(shè)計
圖2 上海集成電路戰(zhàn)略性技術(shù)路線圖技術(shù)體系圖設(shè)計
在內(nèi)容上保證了情景圖、技術(shù)體系圖、技術(shù)路徑圖三圖一體,解決了傳統(tǒng)技術(shù)路線圖中分塊要素表達、對接等方面的難題,這一創(chuàng)新解決了以往產(chǎn)業(yè)技術(shù)路線圖或產(chǎn)品技術(shù)路線圖表現(xiàn)形式難以圍繞規(guī)劃、計劃內(nèi)涵深入表達的難題。
圖3 上海集成電路戰(zhàn)略性技術(shù)路線圖技術(shù)路徑圖設(shè)計
上海區(qū)域戰(zhàn)略性技術(shù)路線圖是上海地區(qū)利用技術(shù)路線圖理論、思路和方法進一步落實科技“十二五”規(guī)劃的初步嘗試,能夠幫助管理者擺脫由于信息的不對稱而帶來的困擾,有助于進一步提高科技決策的科學化、民主化。另外,落實上海區(qū)域戰(zhàn)略性技術(shù)路線圖將進一步強化區(qū)域產(chǎn)學研合作和優(yōu)化區(qū)域技術(shù)創(chuàng)新體系。產(chǎn)業(yè)界利用戰(zhàn)略性技術(shù)路線圖作為申請政府支持的依據(jù),政府利用戰(zhàn)略性技術(shù)路線圖作為檢查被支持者工作進度的主要手段。戰(zhàn)略性技術(shù)路線圖可以給學術(shù)界傳遞未來產(chǎn)業(yè)研發(fā)的需求信息,引導科研人員圍繞未來產(chǎn)業(yè)目標展開研究,把科研行為和市場需求緊密結(jié)合起來,有效凝聚科研力量,實現(xiàn)科研活動的連續(xù)性和有效性。
值得指出的是,明確賦予特定機構(gòu)監(jiān)測與評估區(qū)域戰(zhàn)略性技術(shù)路線圖應(yīng)用,并對戰(zhàn)略性技術(shù)路線圖進行更新,是區(qū)域戰(zhàn)略性技術(shù)路線圖實施中的首要關(guān)鍵點。其次,在戰(zhàn)略性技術(shù)路線圖的實施過程中,實施主體要注意對接開放式創(chuàng)新環(huán)境,從創(chuàng)新網(wǎng)絡(luò)的角度聚焦系統(tǒng)要素之間的立體關(guān)聯(lián)性,系統(tǒng)考慮政策、制度、技術(shù)戰(zhàn)略聯(lián)盟、風險投資等多要素在時間維度下的可變性。
[1]孟海華.產(chǎn)業(yè)技術(shù)路線圖研究[D].中國科學技術(shù)大學博士論文,2009,(5):5-6.
[2]李萬, 孟海華等.區(qū)域戰(zhàn)略性技術(shù)路線圖編制指南[Z].上海市科學學研究所內(nèi)部資料,2011:3-4.
[3]孟海華, 楊起全, 王 革. 制定T-plan技術(shù)路線圖與中小企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新[J] .中國科技論壇,2007,(12):31-34.
[4]日本経済産業(yè)省.技術(shù)戦略マップ[M] .2011, 3.
Research of the Regional Strategic Technology Roadmap of Shanghai
Meng Haihua1, Li Wan1, Wu Yingying1, Yang Qiquan2, Zhuang Jun1
(1.Shanghai Institute for Science of Science, Shanghai 200235, China; 2.Chinese Academy of Science and Technology for Development, Beijing 100038, China)
Regional strategic technology roadmap is an innovative tool, which utilizes the theory and methods of technology roadmap, to implement regional 12th Five-Year Science and Technology Plans. This paper first discusses the importance of technology roadmap on regional level as well as the limitations of industry and product technology roadmap in implementation. Then the main architecture, chief features and research methods of regional strategic technology roadmap are described, with a case study in Shanghai integrated circuit industry. The Three Diagrams in One is highlighted and demonstrated. In the end, the future effects of regional strategic technology roadmaps in Shanghai are expected, along with the key points in a regional strategic technology roadmap practice.
Regional strategic technology roadmap; Three diagrams in one; Science and Technology Plan
中國博士后科學基金項目(20110490687),教育部人文社會科學研究青年項目(11YJC630057)“創(chuàng)新驛站分布式治理研究”。
2011-09-05
孟海華(1976-),男,江蘇淮安人,博士,助理研究員;研究方向:技術(shù)預(yù)見,技術(shù)路線圖,服務(wù)創(chuàng)新。
G312 F203
A
(責任編輯 譚果林)