張 凱,張路青
(大連凱峰超硬材料公司)
2.6 下面SEM圖片是“成核聚合復(fù)合爆炸技術(shù)”制作出來(lái)的經(jīng)過(guò)分級(jí)的9μm和20μm金剛石照片,參見(jiàn)(圖8~圖10)。
圖8 SEM 下圖9μm,左圖:×5000;右圖:?jiǎn)蝹€(gè)顆粒表面 ×500K;Fig.8 The amplified SEM photograph
圖9 SEM 下圖20μm,左圖:×5000;右圖:?jiǎn)蝹€(gè)顆粒表面 ×500K;Fig.9 The amplified SEM photograph
圖10 SEM 下圖9μm,左圖:×2000;SEM 下圖20μm,右圖:×1000;Fig.10 The amplified SEM photograph
2.7 分級(jí)后得到的粒度
2μm (0.7μm≤G≤2.9μm);3μm (1.85μm≤G≤4.7μm);
4.5μm (3.5μm≤G≤7μm);6μm (3.85μm≤G≤9μm);
9μm (6.83μm≤G≤13.29μm);15μm (11.19 μm≤G≤21.14μm);
20μm (13.67μm ≤ G ≤ 28.91μm);25μm(18.20μm≤G≤40.81μm);
35μm(23.03μm≤G≤55.56μm);>35μm;
2.8 X射線小角散射粒度分析報(bào)告
X射線小角散射測(cè)試技術(shù)與激光粒度測(cè)試不一樣,它可以測(cè)出聚晶中的晶核尺寸,表1是委托北京鋼鐵研究總院做出的小角散射測(cè)得的粒度分布。
表1 X射線小角散射測(cè)得的粒度分布Table 1 The grit distribution obtained by SAXS
2.9 成份含量檢測(cè)
委托中國(guó)地質(zhì)大學(xué)地質(zhì)過(guò)程與礦產(chǎn)資源國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室做了金剛石中各種成份含量的檢測(cè)。共檢測(cè)了50種元素:
炭含量:99.56%;
含量在10-2以下的有
SIC:0.071%;Al2O3:0.043%;Fe2O3:0.057%;MgO 0.0015%;CaO:0.0056%;Na2O<0.001%;K2O:<0.001%;TiO2:0.069%;P2O3:0.0006%;MnO:0.017%;
其它檢測(cè)的成份有:
在10-6以下的有
V(0.4);Cr(0.2);Ni(0.1);Cu(1.3);Zn(5.5);Sr(0.1);Y(0.2);Zr(73.7);Nb(0.5);Mo(0.9);Sn(37.8);Ba(1.0);Hf(1.9),W(0.4);
在10-9以下的有
La(26);Ce(73.8);Pr(3.8);Nd(12.8);Sm(7.8);Eu(0.8);Gd(7.8);Tb(2.3);Dy(27.5);
Ho(6.2);Er(30.8);Tm(6.2);Yb(52.0);Lu(11.0);Be(1.3);Sc(65.8);Co(11.8);Ga(7.8);
Rb(6.0);Cd(16.2);Cs(0.6);Ta(15.2);Ti(0.5);Pb(76.2);U(33.2);
說(shuō)明雜質(zhì)含量很少,這種金剛石作為磨料和添加劑,是極佳的材料。
在金剛石的爆炸合成中,粉體多半是金屬粉(鐵、銅、鈷粉等)與石墨粉的混合粉體,過(guò)去的學(xué)者們大都認(rèn)為加金屬粉的目的除了增加點(diǎn)沖擊壓力以外,主要是為了降低卸載溫度,起冷卻作用,因卸載溫度過(guò)高,金剛石將產(chǎn)生逆變。但加金屬粉后,粉體成為兩相介質(zhì),在兩相介質(zhì)中的沖擊波壓力如何傳遞,遵循什么樣的機(jī)理,怎樣計(jì)算是比較麻煩的問(wèn)題?雖然壓力可以通過(guò)實(shí)測(cè)來(lái)獲得,但要測(cè)得≥60GPa壓力的傳感器在一般沖擊實(shí)驗(yàn)室不易做到,實(shí)測(cè)工作難以完成。因此,必須建立一個(gè)力學(xué)模型,在理論上來(lái)說(shuō)明在兩相介質(zhì)中沖擊波壓力是如何建立和傳遞的。過(guò)去有學(xué)者提出均相力學(xué)模型,即認(rèn)為兩相粉末無(wú)限細(xì),無(wú)限均勻,可用理想均一相來(lái)代替實(shí)質(zhì)上的兩相,從而按混合比求出這均相的比容、聲速、體膨脹系數(shù)和定壓比熱,最后定出這均相混合粉的沖擊絕熱線。筆者根據(jù)多年實(shí)驗(yàn)認(rèn)為均相理論與實(shí)驗(yàn)不符,并在2012年第六屆中國(guó)金剛石相關(guān)材料及應(yīng)用學(xué)術(shù)研討會(huì)上提出了一個(gè)新的力學(xué)模型,論文“在二相粉末中的擊波傳播機(jī)理”認(rèn)定:二相粉末都是帶空隙的粉末,在平面飛片打擊裝置中,產(chǎn)生一維應(yīng)變的沖擊波陣面,帶空隙度的兩種不同粉末介質(zhì)的混合粉體在一維應(yīng)變沖擊波作用下,擊波陣面只有同一個(gè)波速值,要滿足這一條件,此時(shí)不同粉末介質(zhì)會(huì)自動(dòng)調(diào)節(jié)占有空隙率的分配,使擊波通過(guò)具有不同空隙度的不同介質(zhì)粉體的波速達(dá)到一致。
按此理論,一維應(yīng)變波通過(guò)二相粉末時(shí),可以是:擊波通過(guò)有各自空隙度的層次分布的二相粉末中,產(chǎn)生壓力的入、反射,而壓力的入、反射就說(shuō)明金屬粉起著“打擊板”的作用;計(jì)算一定的入、反射點(diǎn)數(shù)后,最終平衡的壓力就是擊波壓力。
委托大連理工大學(xué)現(xiàn)代制造技術(shù)研究所對(duì)拋光液進(jìn)行藍(lán)寶石基片的拋光試驗(yàn),以評(píng)價(jià)金剛石拋光液的拋光性能。配二種粒度的拋光懸浮液:3μm(細(xì)磨粒)與6μm(粗磨粒)粒度的懸浮液。試件采用直徑為2英寸的藍(lán)寶石晶體基片(原始表面粗糙度約為Ra215nm左右)。
4.1 為了與常規(guī)研磨盤的磨削作出效率上的對(duì)比,在使用拋光液拋光前,特采用碳化硼研磨盤研磨1h后使試件的表面粗糙度值由原來(lái)的Ra215.184nm迅速降低至Ra5.205nm。
4.2 第一次拋光試驗(yàn)
先后用二種拋光液進(jìn)行拋光試驗(yàn),采用粗磨粒拋光液(粒徑6μm)拋光時(shí),拋光效率很高,粗拋1.0h后,表面粗糙度由Ra 215.484nm迅速下降至Ra10.864nm。在此基礎(chǔ)上,采用細(xì)磨粒拋光液(粒徑3μm)拋光時(shí),剛開始時(shí)表面粗糙度下降較快,但后來(lái)逐漸減慢,精拋4h后表面粗糙度值達(dá)到最小,達(dá)到Ra4.070nm;繼續(xù)拋光0.5h后表面粗糙度Ra值增大,表面質(zhì)量變差,分析原因:是粗拋光時(shí)間不夠,原始表面的缺陷沒(méi)有完全去除。
表2 拋光試驗(yàn)得到的原始數(shù)據(jù)Table 2 The results of polishing test
圖11 藍(lán)寶石試件表面粗糙度隨拋光時(shí)間變化曲線Fig.11The changes of surface roughness of sapphire with the polishing time
4.3 第二次拋光試驗(yàn)
考慮到第一次試驗(yàn)中,最終拋光表面粗糙度只能達(dá)到Ra4.070nm的原因可能是因?yàn)榇謷伖鈺r(shí)間過(guò)短,原始表面的一些缺陷沒(méi)有完全去除,從而對(duì)精拋表面產(chǎn)生影響。為此,在本次拋光試驗(yàn)中,將粗拋時(shí)間由1h,延長(zhǎng)至2h。
試驗(yàn)發(fā)現(xiàn),粗拋過(guò)程中,試件表面粗糙度隨拋光時(shí)間變化趨勢(shì)與之前相似,說(shuō)明粗磨粒拋光液(粒徑6μm)的拋光性能比較穩(wěn)定。采用該拋光液拋光1.5h后,試件表面粗糙度達(dá)到Ra7.309nm,再粗拋0.5h后表面粗糙度變化很小,只達(dá)到Ra7.280。這說(shuō)明采用該拋光液進(jìn)行粗拋時(shí),可達(dá)到的最小表面粗糙度值為Ra7.3nm左右。在此基礎(chǔ)上,換用細(xì)磨粒拋光液(粒徑3μm)進(jìn)行精拋,3h后,試件表面粗糙度達(dá)到Ra3.105nm,再繼續(xù)精拋時(shí),試件表面粗糙度值在Ra3nm左右波動(dòng),最小值為2.790nm。這說(shuō)明采用細(xì)磨粒拋光液(粒徑3μm)進(jìn)行精拋時(shí),可達(dá)到的最小表面粗糙度為Ra3nm左右。拋光試驗(yàn)各階段藍(lán)寶石試件表面的顯微照片此處略。試驗(yàn)數(shù)據(jù)見(jiàn)表2。
試驗(yàn)結(jié)果表明,這種多晶(聚晶)金剛石材料各向同性,無(wú)解理面,具有無(wú)與倫比的硬度和強(qiáng)度,很高的韌性,克服了靜壓法單晶金剛石材料易在解理面脆斷的缺點(diǎn)。每一顆多晶金剛石有很多磨削面,在粗磨削時(shí),可讓微米級(jí)“聚合聚晶顆?!边M(jìn)行磨削,在精磨削時(shí),可讓亞微米級(jí)“原生聚晶顆?!边M(jìn)行淺層磨削,在要求達(dá)到幾個(gè)埃的超精拋光時(shí),可用納米微晶粒來(lái)拋光。因其顆粒在本質(zhì)上是由微晶粒組成的,在拋光過(guò)程中會(huì)適時(shí)因受外力而剝落,顯現(xiàn)出新的微觀團(tuán)球狀切削刃口,這種“自銳性”保征了加工的高精度、高效率和不劃傷及淺的表面損傷層。
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[3]張凱 ,張路青.石墨通過(guò)爆炸相變?yōu)榻饎偸膭P結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變模型[C].2011中國(guó)(鄭州)國(guó)際磨料磨具磨削技術(shù)發(fā)展論壇論,2011.11.
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