韓志友
(大慶師范學(xué)院 物理與電氣信息工程學(xué)院,黑龍江 大慶 163712)
近年來(lái),由于實(shí)驗(yàn)技術(shù)的快速發(fā)展,鐵電雙層膜已經(jīng)被廣泛的研究[1]。這些材料展現(xiàn)出極好的性質(zhì),例如剩余極化增大、高介電反應(yīng)、低損耗和高擊穿電場(chǎng)、多個(gè)電滯回路等等,這些性質(zhì)無(wú)論是在體材料還是在固溶體中都是不能實(shí)現(xiàn)的。大量的工作表明兩鐵電材料的間界耦合對(duì)上述現(xiàn)象起著非凡的作用。因此,人們針對(duì)具有鐵電或者反鐵電耦合的鐵電雙層膜的物理性質(zhì)展開(kāi)了各種各樣的研究。
最近,在實(shí)驗(yàn)和理論研究中,鐵電雙層膜的電滯回線已經(jīng)成為了研究的熱點(diǎn)。在實(shí)驗(yàn)上,Ranjith[2]等人通過(guò)脈沖激光沉積的Pb(Mg1/3Nb2/3) O3(PMN)-PbTiO3(PT)雙層膜觀察到,在雙層膜總厚度為10nm時(shí)體系呈現(xiàn)一個(gè)細(xì)小的電滯回路,而在20~50nm之間的范圍內(nèi),體系呈現(xiàn)一個(gè)細(xì)小的兩個(gè)電滯回路。而后,他們?cè)诔煞肿兓?1-x) PMN - (x) PT多層膜中發(fā)現(xiàn)類似于反鐵電的電滯回線。在不同溫度下呈現(xiàn)出三個(gè)電滯回線構(gòu)型[3]。在理論中,GLD唯象理論和平均場(chǎng)近似下或有效場(chǎng)近似下的橫場(chǎng)Ising模型是描述上述行為的主要方法。利用GLD理論,Chew[4]等人提出了具有反鐵電耦合的鐵電雙層膜,顯示了有趣的電滯回線行為。他們指出設(shè)計(jì)多層元件使計(jì)算機(jī)存儲(chǔ)器具有多態(tài)存儲(chǔ)功能是可能的。利用平均場(chǎng)近似下的Ising模型,Wu[5]等人研究了具有反鐵電間界耦合的鐵電雙層膜的電滯回線。他們指出若在實(shí)驗(yàn)中能夠清楚地認(rèn)識(shí)多態(tài)存儲(chǔ)器,薄膜的厚度、間界耦合、量子效應(yīng)和溫度都應(yīng)該考慮。
我們知道,朗道唯象理論是宏觀理論,因此,在這里不能體現(xiàn)出量子效應(yīng)。而基于Ising模型的微觀贗自旋理論可以考慮量子效應(yīng)并且能夠更好地描述鐵電雙層膜。然而,在上述的Ising模型理論研究中,每一個(gè)被選定薄膜的表面和內(nèi)部的性質(zhì)都假設(shè)是相同的,這是與實(shí)際不相符的。我們認(rèn)為在鐵電雙層膜或超晶格設(shè)計(jì)中也應(yīng)該考慮表面過(guò)渡層的作用[6]。因此,本文利用橫場(chǎng)Ising模型,考慮每一被選定層內(nèi)都存在表面過(guò)渡層,并且在兩個(gè)薄膜間界存在反鐵電耦合,我們?cè)O(shè)計(jì)了一個(gè)鐵電雙層膜模型來(lái)闡述電滯行為。
如圖1所示,為我們所研究的鐵電雙層膜模型。我們考慮由兩個(gè)不同鐵電層A和B組成的鐵電雙層膜,并且每一層都具有表面過(guò)渡層。層A和層B分別由NA和NB層贗自旋組成。每一層都平行于無(wú)限大的x-y平面,并且贗自旋都在格點(diǎn)位置上。z方向垂直于薄膜表面,極化方向沿z方向。我們假定雙層膜的性質(zhì)只沿膜厚方向變化,在平行于薄膜表面的同一贗自旋層內(nèi)的物理性質(zhì)完全相同。
圖1 鐵電雙層膜結(jié)構(gòu)
我們以二級(jí)相變鐵電材料為研究對(duì)象進(jìn)行數(shù)值計(jì)算,則體系的哈密頓量表示為:
(1)
在我們的模型中,如圖1所示,我們假設(shè),如果格點(diǎn)i和j在層A(B)的同一個(gè)贗自旋層內(nèi),那么Jij=Ja(m) (Jij=Jb(m));如果兩個(gè)格點(diǎn)在層A(B)的兩個(gè)不同的贗自旋層內(nèi),那么Jij=Jae(m) (Jij=Jbe(m));但是當(dāng)兩個(gè)格點(diǎn)在層A(B)的內(nèi)部,不在表面過(guò)渡層中,那么相互作用Jij的值就為體材料的值JA(JB)。如果兩個(gè)贗自旋分別在層A和層B上,這時(shí),Jij=Jab。同時(shí),我們也使在每一層內(nèi)的Ωi內(nèi)部與表面不同。如果格點(diǎn)i在層A(B)的表面過(guò)渡層內(nèi),則Ωi=Ωas(Ωi=Ωbs);如果在層A(B)的內(nèi)部,Ωi就為ΩA(ΩB)。
因?yàn)閷?shí)驗(yàn)上還不能給出贗自旋相互作用系數(shù)和橫向隧穿場(chǎng)在表面過(guò)渡層中的具體變化情況,因此在這里為了方便且說(shuō)明問(wèn)題,我們采用簡(jiǎn)單的函數(shù)來(lái)描述贗自旋相互作用與橫向隧穿頻率的不均勻分布,這些特殊的選取形式并不影響結(jié)論的一般性,具體函數(shù)關(guān)系的選擇只會(huì)引起量上的差別,對(duì)定性的結(jié)論沒(méi)有影響。
(2)
(3)
(4)
(5)
(6)
(7)
其中m表示每個(gè)鐵電層贗自旋序列號(hào),ns表示層A和層B的一個(gè)表面過(guò)渡層包含的贗自旋層數(shù)。σ1(σ2)表示層A(或?qū)覤)表面附近的層內(nèi)和層間相互作用與隧穿頻率的變化強(qiáng)度。α1,α2,α3(β1,β2,β3)表示層A(或?qū)覤)表面過(guò)渡層的層內(nèi)與層間相互作用和隧穿頻率的強(qiáng)度。
應(yīng)用平均場(chǎng)近似理論,第i層中沿z-軸方向的自旋平均值可以表示為:
(8)
其中
(9)
(10)
這里m取遍兩個(gè)鐵電層的所有贗自旋層。
方程(8)代表一系列方程,Rm可以通過(guò)迭代法求出。第m層的極化強(qiáng)度與Rm的平均值成正比,即:
Pm=2nμRm
(11)
(12)
這里N表示雙層膜的總厚度,即,N=NA+NB。
為簡(jiǎn)單并不失一般性,我們假設(shè)每一個(gè)鐵電層的表面過(guò)渡層是對(duì)稱的,并且兩個(gè)鐵電層內(nèi)表面過(guò)渡層的贗自旋層數(shù)相同。在計(jì)算中我們選取總厚度N一定,規(guī)定JA/JB=0.5,ΩA/JB=0.5,ΩB/JB=1/3。 設(shè)定t=T/TBC,這里TBC是層B的相變溫度。
圖2闡述了J>0時(shí),即界面耦合為鐵電耦合時(shí),不同厚度的層A和層B對(duì)鐵電雙層膜電滯回線的影響。如圖2(a)所示,此時(shí)層A厚度很小,鐵電雙層膜的電滯回線只有一個(gè)中間回路,它含有兩個(gè)臺(tái)階,這是由于構(gòu)成鐵電雙層膜的兩個(gè)鐵電層具有不同的物理性質(zhì)。當(dāng)層A厚度增大時(shí)(如圖2(b)),鐵電雙層膜的回路中明顯地呈現(xiàn)四個(gè)臺(tái)階,這是由于表面過(guò)渡層所占的比例減小,層A的相互作用增大,不利于電場(chǎng)反轉(zhuǎn)其極化。如圖2(c)所示,當(dāng)層B的厚度很小時(shí),鐵電雙層膜電滯回線的中間回路寬度變得很窄,這是由于表面過(guò)渡層所占比例增大,導(dǎo)致層B鐵電性嚴(yán)重下降,并且其相互作用大于層A的相互作用。
圖2 鐵電耦合J>0時(shí),不同膜層厚度的鐵電雙層膜的電滯回線
反鐵電耦合J<0時(shí),不同厚度的層A和層B對(duì)鐵電雙層膜電滯回線的影響在圖3中給出。從圖中我們可以清楚地看到,鐵電雙層膜的電滯回線呈現(xiàn)三個(gè)回路。圖3(b)和(a)相比較,電滯回線的中間回路出現(xiàn)明顯的兩個(gè)臺(tái)階。這是因?yàn)?,層A的厚度增大,表面過(guò)渡層所占的比例減小,其相互作用增強(qiáng),此時(shí)電場(chǎng)的作用要較反鐵電耦合的強(qiáng)。當(dāng)層B的厚度很小時(shí),如圖3(c)所示,鐵電雙層膜的電滯回線分別在兩端呈現(xiàn)一個(gè)小的回路,中間的回路消失。這是由于層B的厚度減小,表面過(guò)渡層所占的比例增大,導(dǎo)致鐵電性下降。綜上所述,層B的厚度對(duì)鐵電雙層膜電滯回線的作用比層A的要大,即相互作用強(qiáng)的鐵電層對(duì)鐵電雙層膜電滯回線的影響較大。
圖3 鐵電耦合J<0時(shí),不同膜層厚度的鐵電雙層膜的電滯回線。
本文利用平均場(chǎng)近似下的橫場(chǎng)伊辛模型理論,對(duì)含有表面過(guò)渡層和兩種界面耦合(鐵電界面耦合和反鐵電界面耦合)的鐵電雙層膜的電滯回線進(jìn)行研究。研究結(jié)果總結(jié)如下:①鐵電界面耦合時(shí),鐵電雙層膜電滯回線呈現(xiàn)一個(gè)中間回路,而反鐵電界面耦合時(shí),呈現(xiàn)三個(gè)回路;② 表面過(guò)渡層的存在使得鐵電雙層膜的電滯回線發(fā)生嚴(yán)重形變,尤其是對(duì)相互作用強(qiáng)的鐵電層影響較大;③反鐵電界面耦合時(shí),鐵電雙層膜的電滯回線只有兩端回路,中間回路消失。
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