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      晶片電容“無塵室”車間大氣污染源分析及治理措施選擇對(duì)VOCs減排作用的探討

      2014-11-10 05:36:09周秀峰凌偉峰周玲
      科技創(chuàng)新導(dǎo)報(bào) 2014年20期
      關(guān)鍵詞:電子

      周秀峰 凌偉峰 周玲

      摘 要:晶片電容生產(chǎn)企業(yè)的“球磨-涂工-印刷”是在“無塵室”車間完成的。經(jīng)過詳細(xì)的工藝分析與物料衡算,得出該類車間廢氣在整個(gè)電容生產(chǎn)工藝中是重要的大氣污染源。以珠三角某電子企業(yè)電容擴(kuò)建項(xiàng)目為例,對(duì)該企業(yè)現(xiàn)有項(xiàng)目“無塵室”廢氣治理措施進(jìn)行分析,指明了現(xiàn)有項(xiàng)目難以滿足印刷行業(yè)VOCs排放標(biāo)準(zhǔn)及珠三角有機(jī)廢氣控制要求,在冷凝法、膜分離法、吸附法、生物法、燃燒法及低溫等離子體法的對(duì)比選擇中選擇了“活性炭吸附+高溫脫附催化燃燒工藝+低溫等離子體方法”作為改進(jìn)措施,并核算了采用該種方法后VOCs減排量與廢活性炭更換量。

      關(guān)鍵詞:環(huán)評(píng) 無塵室 VOCs 電子 低溫等離子體方法

      中圖分類號(hào):X83 文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼:A 文章編號(hào):1674-098X(2014)07(b)-0099-02

      目前,由于廣東省經(jīng)濟(jì)高速發(fā)展,印刷、汽車等行業(yè)VOCs排放量大,加上對(duì)VOCs排放導(dǎo)致的光化學(xué)煙霧污染問題認(rèn)識(shí)不足,對(duì)VOCs污染防治重視不夠,以及VOCs排放監(jiān)控難度大,導(dǎo)致珠江三角洲地區(qū)光化學(xué)煙霧污染時(shí)有發(fā)生,區(qū)域性灰霾天數(shù)每年維持在高位水平。為此,廣東省出臺(tái)了《關(guān)于珠江三角洲地區(qū)嚴(yán)格控制工業(yè)企業(yè)揮發(fā)性有機(jī)物(VOCs)排放的意見》,意見指出應(yīng)實(shí)行VOCs總量控制制度,同時(shí)開展印刷及涉及表面涂裝電子設(shè)備企業(yè)的整治。

      晶片電容生產(chǎn)企業(yè)中使用印刷等生產(chǎn)工藝,其“球磨-涂工-印刷”工藝中通常會(huì)采用大量的有機(jī)溶劑,由于工藝需要,一般廠家都會(huì)將其集中在“無塵室”內(nèi)進(jìn)行生產(chǎn),廢氣統(tǒng)一收集,無組織散發(fā)量較少。但由于該車間的有機(jī)溶劑除部分進(jìn)入到廢料中,大部分進(jìn)入了廢氣中,導(dǎo)致后續(xù)廢氣治理工藝的負(fù)荷較大。

      該以“珠三角某電子企業(yè)電容擴(kuò)建項(xiàng)目”為例,對(duì)現(xiàn)有項(xiàng)目“無塵室”車間的產(chǎn)污環(huán)節(jié)和物料平衡進(jìn)行了詳細(xì)的分析,找出“無塵室”在正常工況下的主要大氣污染源,并在總結(jié)已有廢氣治理措施存在的問題基礎(chǔ)上提出相關(guān)“以新帶老”措施,為相關(guān)VOCs類企業(yè)廢氣減排提供參考。

      1 “無塵室”裝置的工藝流程

      以珠三角某電子企業(yè)電容擴(kuò)建項(xiàng)目為例,晶片電容“無塵室”典型工藝流程的示意圖見圖1。

      1.1 球磨與涂工工藝

      通過球磨機(jī)將陶瓷粉末及相關(guān)添加劑混合形成漿料,并使陶瓷漿料達(dá)到一定的粒徑和粘度,球磨轉(zhuǎn)數(shù)35~45 rpm,球磨時(shí)間4~25 h。再利用流涎方式將漿料刮到PET film上,形成具有一定厚度的陶瓷薄膜,烘干溫度30~90 ℃。原料使用比例為(陶瓷粉末:粘接劑:塑化劑:二甲苯:酒精=45∶3∶1∶15∶10)。

      內(nèi)電極印刷工藝

      通過絲網(wǎng)印刷方式將內(nèi)電極鎳膏印刷至陶瓷薄膜上形成內(nèi)層薄帶,烘干溫度70~85 ℃。原料使用比例為(鎳:松油醇:陶瓷粉:乙基纖維素=42∶28∶20∶10)。

      2 大氣污染源分析及污染源核算

      2.1 大氣污染源分析

      通過對(duì)晶片電容“無塵室”裝置的工藝流程可知,主要的大氣污染物主要為二甲苯、VOCs等。由于這些工藝都集中在封閉車間內(nèi),無組織散發(fā)影響極小,故忽略不計(jì)。

      2.2 VOCs污染源核算(不考慮無組織)

      對(duì)現(xiàn)有項(xiàng)目“無塵室”實(shí)際使用有機(jī)溶劑統(tǒng)計(jì)資料,根據(jù)物料平衡推算源強(qiáng),另外以廠方提供的監(jiān)測資料來驗(yàn)證源強(qiáng)數(shù)據(jù)。具體的物料衡算圖見圖2。

      (1)根據(jù)VOCs物料衡算情況,生產(chǎn)使用的有機(jī)溶劑部分用于清洗漿料過濾及清洗內(nèi)壁,剩余部分幾乎全部進(jìn)入廢氣中。(2)廢氣經(jīng)過噴淋以及活性炭處理后,VOCs的排放量依然很大,其中二甲苯的比例較大。(3)由于乙醇易溶于水,而噴淋液最終進(jìn)入到廢水處理設(shè)施,對(duì)后續(xù)廢水處理影響較大。

      3 已有大氣防治措施存在的主要問題

      (1)廠方已采用的廢氣治理措施是“水噴淋+活性炭吸附”,根據(jù)驗(yàn)收監(jiān)測報(bào)告及廠方的歷年監(jiān)測數(shù)據(jù),“無塵室”廢氣處理裝置出口風(fēng)量高達(dá)80000 m3/h(標(biāo)況),二甲苯與VOCs排放濃度分別小于40 mg/m3與80 mg/m3,排放速率分別約為3.5 kg/h和5.8 kg/h,污染物去除率約為80%左右,兩個(gè)指標(biāo)均滿足地方廢氣排放要求,但不能滿足《印刷行業(yè)揮發(fā)性有機(jī)化合物的排放標(biāo)準(zhǔn)》(DB44/815-2010)的二甲苯及VOCs排放要求,同時(shí)難以滿足珠三角相關(guān)VOCs總量控制要求。(2)由于二甲苯與乙醇用量較大,且活性炭吸附裝置無再生設(shè)備,故廢活性炭更換量較大,更換量甚至達(dá)到150 t/年以上。

      4 廢氣治理措施改造及改造后VOCs與活性炭用量消減核算

      為減少最終VOCs排放量與活性炭更換量,擬通過各類廢氣處理措施比選后選擇最合適的措施對(duì)現(xiàn)有治理措施進(jìn)行改造。

      4.1 有機(jī)廢氣處理方法對(duì)比選擇

      參照《大氣污染治理工程技術(shù)導(dǎo)則》(HJ2000-2010)及《大氣污染控制工程》(第二版)(參考文獻(xiàn)),本項(xiàng)目將各類有機(jī)廢氣處理方法的適用范圍列于表1。

      該企業(yè)風(fēng)量較大,濃度較低,同時(shí)企業(yè)已具備活性炭吸附裝置,參照上表各類措施適用范圍,擬選定“活性炭吸附+高溫脫附催化燃燒工藝+低溫等離子體方法”來作為改造后的廢氣防治措施。參照《低溫等離子體技術(shù)處理低濃度甲苯廢氣的工業(yè)應(yīng)用》(第13屆中國電除塵學(xué)術(shù)會(huì)議論文集)低溫等離子體措施在佛山某化學(xué)有限公司的應(yīng)用,該公司進(jìn)口甲苯濃度為1~2mg/m3,處理效率可到95%以上??紤]工程的保證性因素,本項(xiàng)目將低溫等離子體的去除效率定為90%。故“活性炭吸附+高溫脫附催化燃燒工藝+低溫等離子體方法”去除率可保證在95%以上。

      4.2 改造后VOCs的排放及活性炭消減情況

      (1)大氣治理措施改造后,由于去除率提高到95%以上,廢氣VOCs與二甲苯外排量大大減少,并能夠達(dá)到《印刷行業(yè)揮發(fā)性有機(jī)化合物的排放標(biāo)準(zhǔn)》(DB44/815-2010)的二甲苯及VOCs排放要求。

      (2)由于活性炭采取了高溫脫附催化燃燒設(shè)備,活性炭更換量大大減少,由之前150 t/年可減少到50 t/年。

      5 結(jié)語

      (1)晶片電容“無塵室”生產(chǎn)裝置產(chǎn)生的VOCs量較大,單純采用活性炭吸附,廢氣污染物很難滿足環(huán)境要求,同時(shí)更換的活性炭用量很大。

      (2)對(duì)這類VOCs產(chǎn)生量較大的污染源,應(yīng)優(yōu)先考慮多種治理措施聯(lián)用,盡量減少外排量,降低其對(duì)外環(huán)境的影響程度。endprint

      摘 要:晶片電容生產(chǎn)企業(yè)的“球磨-涂工-印刷”是在“無塵室”車間完成的。經(jīng)過詳細(xì)的工藝分析與物料衡算,得出該類車間廢氣在整個(gè)電容生產(chǎn)工藝中是重要的大氣污染源。以珠三角某電子企業(yè)電容擴(kuò)建項(xiàng)目為例,對(duì)該企業(yè)現(xiàn)有項(xiàng)目“無塵室”廢氣治理措施進(jìn)行分析,指明了現(xiàn)有項(xiàng)目難以滿足印刷行業(yè)VOCs排放標(biāo)準(zhǔn)及珠三角有機(jī)廢氣控制要求,在冷凝法、膜分離法、吸附法、生物法、燃燒法及低溫等離子體法的對(duì)比選擇中選擇了“活性炭吸附+高溫脫附催化燃燒工藝+低溫等離子體方法”作為改進(jìn)措施,并核算了采用該種方法后VOCs減排量與廢活性炭更換量。

      關(guān)鍵詞:環(huán)評(píng) 無塵室 VOCs 電子 低溫等離子體方法

      中圖分類號(hào):X83 文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼:A 文章編號(hào):1674-098X(2014)07(b)-0099-02

      目前,由于廣東省經(jīng)濟(jì)高速發(fā)展,印刷、汽車等行業(yè)VOCs排放量大,加上對(duì)VOCs排放導(dǎo)致的光化學(xué)煙霧污染問題認(rèn)識(shí)不足,對(duì)VOCs污染防治重視不夠,以及VOCs排放監(jiān)控難度大,導(dǎo)致珠江三角洲地區(qū)光化學(xué)煙霧污染時(shí)有發(fā)生,區(qū)域性灰霾天數(shù)每年維持在高位水平。為此,廣東省出臺(tái)了《關(guān)于珠江三角洲地區(qū)嚴(yán)格控制工業(yè)企業(yè)揮發(fā)性有機(jī)物(VOCs)排放的意見》,意見指出應(yīng)實(shí)行VOCs總量控制制度,同時(shí)開展印刷及涉及表面涂裝電子設(shè)備企業(yè)的整治。

      晶片電容生產(chǎn)企業(yè)中使用印刷等生產(chǎn)工藝,其“球磨-涂工-印刷”工藝中通常會(huì)采用大量的有機(jī)溶劑,由于工藝需要,一般廠家都會(huì)將其集中在“無塵室”內(nèi)進(jìn)行生產(chǎn),廢氣統(tǒng)一收集,無組織散發(fā)量較少。但由于該車間的有機(jī)溶劑除部分進(jìn)入到廢料中,大部分進(jìn)入了廢氣中,導(dǎo)致后續(xù)廢氣治理工藝的負(fù)荷較大。

      該以“珠三角某電子企業(yè)電容擴(kuò)建項(xiàng)目”為例,對(duì)現(xiàn)有項(xiàng)目“無塵室”車間的產(chǎn)污環(huán)節(jié)和物料平衡進(jìn)行了詳細(xì)的分析,找出“無塵室”在正常工況下的主要大氣污染源,并在總結(jié)已有廢氣治理措施存在的問題基礎(chǔ)上提出相關(guān)“以新帶老”措施,為相關(guān)VOCs類企業(yè)廢氣減排提供參考。

      1 “無塵室”裝置的工藝流程

      以珠三角某電子企業(yè)電容擴(kuò)建項(xiàng)目為例,晶片電容“無塵室”典型工藝流程的示意圖見圖1。

      1.1 球磨與涂工工藝

      通過球磨機(jī)將陶瓷粉末及相關(guān)添加劑混合形成漿料,并使陶瓷漿料達(dá)到一定的粒徑和粘度,球磨轉(zhuǎn)數(shù)35~45 rpm,球磨時(shí)間4~25 h。再利用流涎方式將漿料刮到PET film上,形成具有一定厚度的陶瓷薄膜,烘干溫度30~90 ℃。原料使用比例為(陶瓷粉末:粘接劑:塑化劑:二甲苯:酒精=45∶3∶1∶15∶10)。

      內(nèi)電極印刷工藝

      通過絲網(wǎng)印刷方式將內(nèi)電極鎳膏印刷至陶瓷薄膜上形成內(nèi)層薄帶,烘干溫度70~85 ℃。原料使用比例為(鎳:松油醇:陶瓷粉:乙基纖維素=42∶28∶20∶10)。

      2 大氣污染源分析及污染源核算

      2.1 大氣污染源分析

      通過對(duì)晶片電容“無塵室”裝置的工藝流程可知,主要的大氣污染物主要為二甲苯、VOCs等。由于這些工藝都集中在封閉車間內(nèi),無組織散發(fā)影響極小,故忽略不計(jì)。

      2.2 VOCs污染源核算(不考慮無組織)

      對(duì)現(xiàn)有項(xiàng)目“無塵室”實(shí)際使用有機(jī)溶劑統(tǒng)計(jì)資料,根據(jù)物料平衡推算源強(qiáng),另外以廠方提供的監(jiān)測資料來驗(yàn)證源強(qiáng)數(shù)據(jù)。具體的物料衡算圖見圖2。

      (1)根據(jù)VOCs物料衡算情況,生產(chǎn)使用的有機(jī)溶劑部分用于清洗漿料過濾及清洗內(nèi)壁,剩余部分幾乎全部進(jìn)入廢氣中。(2)廢氣經(jīng)過噴淋以及活性炭處理后,VOCs的排放量依然很大,其中二甲苯的比例較大。(3)由于乙醇易溶于水,而噴淋液最終進(jìn)入到廢水處理設(shè)施,對(duì)后續(xù)廢水處理影響較大。

      3 已有大氣防治措施存在的主要問題

      (1)廠方已采用的廢氣治理措施是“水噴淋+活性炭吸附”,根據(jù)驗(yàn)收監(jiān)測報(bào)告及廠方的歷年監(jiān)測數(shù)據(jù),“無塵室”廢氣處理裝置出口風(fēng)量高達(dá)80000 m3/h(標(biāo)況),二甲苯與VOCs排放濃度分別小于40 mg/m3與80 mg/m3,排放速率分別約為3.5 kg/h和5.8 kg/h,污染物去除率約為80%左右,兩個(gè)指標(biāo)均滿足地方廢氣排放要求,但不能滿足《印刷行業(yè)揮發(fā)性有機(jī)化合物的排放標(biāo)準(zhǔn)》(DB44/815-2010)的二甲苯及VOCs排放要求,同時(shí)難以滿足珠三角相關(guān)VOCs總量控制要求。(2)由于二甲苯與乙醇用量較大,且活性炭吸附裝置無再生設(shè)備,故廢活性炭更換量較大,更換量甚至達(dá)到150 t/年以上。

      4 廢氣治理措施改造及改造后VOCs與活性炭用量消減核算

      為減少最終VOCs排放量與活性炭更換量,擬通過各類廢氣處理措施比選后選擇最合適的措施對(duì)現(xiàn)有治理措施進(jìn)行改造。

      4.1 有機(jī)廢氣處理方法對(duì)比選擇

      參照《大氣污染治理工程技術(shù)導(dǎo)則》(HJ2000-2010)及《大氣污染控制工程》(第二版)(參考文獻(xiàn)),本項(xiàng)目將各類有機(jī)廢氣處理方法的適用范圍列于表1。

      該企業(yè)風(fēng)量較大,濃度較低,同時(shí)企業(yè)已具備活性炭吸附裝置,參照上表各類措施適用范圍,擬選定“活性炭吸附+高溫脫附催化燃燒工藝+低溫等離子體方法”來作為改造后的廢氣防治措施。參照《低溫等離子體技術(shù)處理低濃度甲苯廢氣的工業(yè)應(yīng)用》(第13屆中國電除塵學(xué)術(shù)會(huì)議論文集)低溫等離子體措施在佛山某化學(xué)有限公司的應(yīng)用,該公司進(jìn)口甲苯濃度為1~2mg/m3,處理效率可到95%以上。考慮工程的保證性因素,本項(xiàng)目將低溫等離子體的去除效率定為90%。故“活性炭吸附+高溫脫附催化燃燒工藝+低溫等離子體方法”去除率可保證在95%以上。

      4.2 改造后VOCs的排放及活性炭消減情況

      (1)大氣治理措施改造后,由于去除率提高到95%以上,廢氣VOCs與二甲苯外排量大大減少,并能夠達(dá)到《印刷行業(yè)揮發(fā)性有機(jī)化合物的排放標(biāo)準(zhǔn)》(DB44/815-2010)的二甲苯及VOCs排放要求。

      (2)由于活性炭采取了高溫脫附催化燃燒設(shè)備,活性炭更換量大大減少,由之前150 t/年可減少到50 t/年。

      5 結(jié)語

      (1)晶片電容“無塵室”生產(chǎn)裝置產(chǎn)生的VOCs量較大,單純采用活性炭吸附,廢氣污染物很難滿足環(huán)境要求,同時(shí)更換的活性炭用量很大。

      (2)對(duì)這類VOCs產(chǎn)生量較大的污染源,應(yīng)優(yōu)先考慮多種治理措施聯(lián)用,盡量減少外排量,降低其對(duì)外環(huán)境的影響程度。endprint

      摘 要:晶片電容生產(chǎn)企業(yè)的“球磨-涂工-印刷”是在“無塵室”車間完成的。經(jīng)過詳細(xì)的工藝分析與物料衡算,得出該類車間廢氣在整個(gè)電容生產(chǎn)工藝中是重要的大氣污染源。以珠三角某電子企業(yè)電容擴(kuò)建項(xiàng)目為例,對(duì)該企業(yè)現(xiàn)有項(xiàng)目“無塵室”廢氣治理措施進(jìn)行分析,指明了現(xiàn)有項(xiàng)目難以滿足印刷行業(yè)VOCs排放標(biāo)準(zhǔn)及珠三角有機(jī)廢氣控制要求,在冷凝法、膜分離法、吸附法、生物法、燃燒法及低溫等離子體法的對(duì)比選擇中選擇了“活性炭吸附+高溫脫附催化燃燒工藝+低溫等離子體方法”作為改進(jìn)措施,并核算了采用該種方法后VOCs減排量與廢活性炭更換量。

      關(guān)鍵詞:環(huán)評(píng) 無塵室 VOCs 電子 低溫等離子體方法

      中圖分類號(hào):X83 文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼:A 文章編號(hào):1674-098X(2014)07(b)-0099-02

      目前,由于廣東省經(jīng)濟(jì)高速發(fā)展,印刷、汽車等行業(yè)VOCs排放量大,加上對(duì)VOCs排放導(dǎo)致的光化學(xué)煙霧污染問題認(rèn)識(shí)不足,對(duì)VOCs污染防治重視不夠,以及VOCs排放監(jiān)控難度大,導(dǎo)致珠江三角洲地區(qū)光化學(xué)煙霧污染時(shí)有發(fā)生,區(qū)域性灰霾天數(shù)每年維持在高位水平。為此,廣東省出臺(tái)了《關(guān)于珠江三角洲地區(qū)嚴(yán)格控制工業(yè)企業(yè)揮發(fā)性有機(jī)物(VOCs)排放的意見》,意見指出應(yīng)實(shí)行VOCs總量控制制度,同時(shí)開展印刷及涉及表面涂裝電子設(shè)備企業(yè)的整治。

      晶片電容生產(chǎn)企業(yè)中使用印刷等生產(chǎn)工藝,其“球磨-涂工-印刷”工藝中通常會(huì)采用大量的有機(jī)溶劑,由于工藝需要,一般廠家都會(huì)將其集中在“無塵室”內(nèi)進(jìn)行生產(chǎn),廢氣統(tǒng)一收集,無組織散發(fā)量較少。但由于該車間的有機(jī)溶劑除部分進(jìn)入到廢料中,大部分進(jìn)入了廢氣中,導(dǎo)致后續(xù)廢氣治理工藝的負(fù)荷較大。

      該以“珠三角某電子企業(yè)電容擴(kuò)建項(xiàng)目”為例,對(duì)現(xiàn)有項(xiàng)目“無塵室”車間的產(chǎn)污環(huán)節(jié)和物料平衡進(jìn)行了詳細(xì)的分析,找出“無塵室”在正常工況下的主要大氣污染源,并在總結(jié)已有廢氣治理措施存在的問題基礎(chǔ)上提出相關(guān)“以新帶老”措施,為相關(guān)VOCs類企業(yè)廢氣減排提供參考。

      1 “無塵室”裝置的工藝流程

      以珠三角某電子企業(yè)電容擴(kuò)建項(xiàng)目為例,晶片電容“無塵室”典型工藝流程的示意圖見圖1。

      1.1 球磨與涂工工藝

      通過球磨機(jī)將陶瓷粉末及相關(guān)添加劑混合形成漿料,并使陶瓷漿料達(dá)到一定的粒徑和粘度,球磨轉(zhuǎn)數(shù)35~45 rpm,球磨時(shí)間4~25 h。再利用流涎方式將漿料刮到PET film上,形成具有一定厚度的陶瓷薄膜,烘干溫度30~90 ℃。原料使用比例為(陶瓷粉末:粘接劑:塑化劑:二甲苯:酒精=45∶3∶1∶15∶10)。

      內(nèi)電極印刷工藝

      通過絲網(wǎng)印刷方式將內(nèi)電極鎳膏印刷至陶瓷薄膜上形成內(nèi)層薄帶,烘干溫度70~85 ℃。原料使用比例為(鎳:松油醇:陶瓷粉:乙基纖維素=42∶28∶20∶10)。

      2 大氣污染源分析及污染源核算

      2.1 大氣污染源分析

      通過對(duì)晶片電容“無塵室”裝置的工藝流程可知,主要的大氣污染物主要為二甲苯、VOCs等。由于這些工藝都集中在封閉車間內(nèi),無組織散發(fā)影響極小,故忽略不計(jì)。

      2.2 VOCs污染源核算(不考慮無組織)

      對(duì)現(xiàn)有項(xiàng)目“無塵室”實(shí)際使用有機(jī)溶劑統(tǒng)計(jì)資料,根據(jù)物料平衡推算源強(qiáng),另外以廠方提供的監(jiān)測資料來驗(yàn)證源強(qiáng)數(shù)據(jù)。具體的物料衡算圖見圖2。

      (1)根據(jù)VOCs物料衡算情況,生產(chǎn)使用的有機(jī)溶劑部分用于清洗漿料過濾及清洗內(nèi)壁,剩余部分幾乎全部進(jìn)入廢氣中。(2)廢氣經(jīng)過噴淋以及活性炭處理后,VOCs的排放量依然很大,其中二甲苯的比例較大。(3)由于乙醇易溶于水,而噴淋液最終進(jìn)入到廢水處理設(shè)施,對(duì)后續(xù)廢水處理影響較大。

      3 已有大氣防治措施存在的主要問題

      (1)廠方已采用的廢氣治理措施是“水噴淋+活性炭吸附”,根據(jù)驗(yàn)收監(jiān)測報(bào)告及廠方的歷年監(jiān)測數(shù)據(jù),“無塵室”廢氣處理裝置出口風(fēng)量高達(dá)80000 m3/h(標(biāo)況),二甲苯與VOCs排放濃度分別小于40 mg/m3與80 mg/m3,排放速率分別約為3.5 kg/h和5.8 kg/h,污染物去除率約為80%左右,兩個(gè)指標(biāo)均滿足地方廢氣排放要求,但不能滿足《印刷行業(yè)揮發(fā)性有機(jī)化合物的排放標(biāo)準(zhǔn)》(DB44/815-2010)的二甲苯及VOCs排放要求,同時(shí)難以滿足珠三角相關(guān)VOCs總量控制要求。(2)由于二甲苯與乙醇用量較大,且活性炭吸附裝置無再生設(shè)備,故廢活性炭更換量較大,更換量甚至達(dá)到150 t/年以上。

      4 廢氣治理措施改造及改造后VOCs與活性炭用量消減核算

      為減少最終VOCs排放量與活性炭更換量,擬通過各類廢氣處理措施比選后選擇最合適的措施對(duì)現(xiàn)有治理措施進(jìn)行改造。

      4.1 有機(jī)廢氣處理方法對(duì)比選擇

      參照《大氣污染治理工程技術(shù)導(dǎo)則》(HJ2000-2010)及《大氣污染控制工程》(第二版)(參考文獻(xiàn)),本項(xiàng)目將各類有機(jī)廢氣處理方法的適用范圍列于表1。

      該企業(yè)風(fēng)量較大,濃度較低,同時(shí)企業(yè)已具備活性炭吸附裝置,參照上表各類措施適用范圍,擬選定“活性炭吸附+高溫脫附催化燃燒工藝+低溫等離子體方法”來作為改造后的廢氣防治措施。參照《低溫等離子體技術(shù)處理低濃度甲苯廢氣的工業(yè)應(yīng)用》(第13屆中國電除塵學(xué)術(shù)會(huì)議論文集)低溫等離子體措施在佛山某化學(xué)有限公司的應(yīng)用,該公司進(jìn)口甲苯濃度為1~2mg/m3,處理效率可到95%以上??紤]工程的保證性因素,本項(xiàng)目將低溫等離子體的去除效率定為90%。故“活性炭吸附+高溫脫附催化燃燒工藝+低溫等離子體方法”去除率可保證在95%以上。

      4.2 改造后VOCs的排放及活性炭消減情況

      (1)大氣治理措施改造后,由于去除率提高到95%以上,廢氣VOCs與二甲苯外排量大大減少,并能夠達(dá)到《印刷行業(yè)揮發(fā)性有機(jī)化合物的排放標(biāo)準(zhǔn)》(DB44/815-2010)的二甲苯及VOCs排放要求。

      (2)由于活性炭采取了高溫脫附催化燃燒設(shè)備,活性炭更換量大大減少,由之前150 t/年可減少到50 t/年。

      5 結(jié)語

      (1)晶片電容“無塵室”生產(chǎn)裝置產(chǎn)生的VOCs量較大,單純采用活性炭吸附,廢氣污染物很難滿足環(huán)境要求,同時(shí)更換的活性炭用量很大。

      (2)對(duì)這類VOCs產(chǎn)生量較大的污染源,應(yīng)優(yōu)先考慮多種治理措施聯(lián)用,盡量減少外排量,降低其對(duì)外環(huán)境的影響程度。endprint

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