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      疲勞裂紋擴(kuò)展的金屬磁記憶信號(hào)特征

      2014-11-30 09:46:20邸新杰張建軍
      材料工程 2014年11期
      關(guān)鍵詞:磁化磁場(chǎng)次數(shù)

      金 寶,邸新杰,張建軍,李 偉

      (1天津大學(xué) 天津市現(xiàn)代連接技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,天津300072;2中國(guó)石油天然氣蘭州工程質(zhì)量監(jiān)督站,蘭州730060)

      鐵磁材料由于其優(yōu)良性能,已廣泛用于航空、鐵路、管道、電站、壓力容器、石油工程等焊接結(jié)構(gòu),并且不斷向大型化和高參數(shù)的方向發(fā)展。在長(zhǎng)期承受交變載荷作用的結(jié)構(gòu)中,疲勞失效是一種主要的破壞形式。在疲勞過(guò)程中,應(yīng)力集中會(huì)導(dǎo)致裂紋、腐蝕、蠕變,是導(dǎo)致疲勞斷裂的主要來(lái)源。疲勞斷裂過(guò)程可以分為裂紋的萌生、裂紋的穩(wěn)定擴(kuò)展及失穩(wěn)斷裂三個(gè)過(guò)程[1]。由于疲勞斷裂時(shí)的應(yīng)力遠(yuǎn)小于材料靜載下的強(qiáng)度極限,且在沒(méi)有明顯塑性變形的情況下突然斷裂,造成災(zāi)難性的后果,因此對(duì)在役構(gòu)件進(jìn)行裂紋檢測(cè)/監(jiān)測(cè)的研究具有重要意義。

      金屬磁記憶檢測(cè)技術(shù)是由Dubov于1997提出的一種新的損傷檢測(cè)方法。金屬磁記憶檢測(cè)方法的物理基礎(chǔ)是磁機(jī)械效應(yīng),處于地磁環(huán)境下的鐵磁構(gòu)件受工作載荷的作用,其內(nèi)部會(huì)發(fā)生具有磁致伸縮性質(zhì)的磁疇組織定向的和不可逆的重新取向,通過(guò)理論分析可知[2],在應(yīng)力與變形集中區(qū)形成的漏磁場(chǎng)切向分量Hp(x)具有最大值,法向分量Hp(y)改變符號(hào)且具有零值點(diǎn)。這種應(yīng)力作用下的磁狀態(tài)不可逆變化在載荷消除后繼續(xù)保留,從而通過(guò)漏磁場(chǎng)法向分量Hp(y)的測(cè)定,便可推斷工件應(yīng)力集中和損傷部位[3-5]。

      本工作通過(guò)Q235B鋼缺口試件加載疲勞載荷,在疲勞過(guò)程中測(cè)量試樣表面磁記憶信號(hào),研究了磁記憶信號(hào)在疲勞循環(huán)過(guò)程中的變化規(guī)律,利用磁機(jī)械效應(yīng)理論解釋了循環(huán)初始階段磁記憶信號(hào)變化規(guī)律。

      1 試驗(yàn)方案

      1.1 試樣制備

      試驗(yàn)材料為Q235B鋼,其化學(xué)成分及力學(xué)性能如表1所示。疲勞試樣形式及尺寸如圖1所示,在試樣的中心缺口處用線切割制出約1mm的缺口,并在試件表面畫(huà)出起始測(cè)量的位置以及三條平行測(cè)量線路,各通道之間的距離為15mm,提離值為1mm。試樣在制造及加工后未對(duì)其進(jìn)行去應(yīng)力及退磁處理。

      表1 Q235B鋼的化學(xué)成分(質(zhì)量分?jǐn)?shù)/%)及力學(xué)性能Table1 Chemical composition(mass fraction/%)and mechanical properties of Q235Bsteel

      圖1 疲勞試樣形狀示意圖及測(cè)量線Fig.1 Fatigue specimen shape and measurement lines

      1.2 試驗(yàn)方法

      試驗(yàn)過(guò)程中,首先將試樣裝夾于INSTRON1343型電液伺服疲勞試驗(yàn)機(jī)上,設(shè)定加載波形為方波,最大載荷為120kN(200MPa),應(yīng)力比為0.5,加載頻率為3Hz。加載后,每循環(huán)1000次中斷,用低倍放大鏡觀察試樣是否出現(xiàn)裂紋,用TSC-1M-4型金屬磁記憶檢測(cè)儀沿著試件表面測(cè)量線路在線測(cè)量其磁記憶信號(hào),然后繼續(xù)加載,宏觀裂紋出現(xiàn)后,每循環(huán)500次中斷,并在線測(cè)量磁記憶信號(hào),繼續(xù)加載,直至試件斷裂,典型磁記憶信號(hào)如圖2~4所示。

      2 試驗(yàn)結(jié)果與分析

      圖2~4給出了不同循環(huán)次數(shù)時(shí)各測(cè)量線的磁記憶信號(hào)變化規(guī)律,由圖可見(jiàn),在循環(huán)初始階段(N1050),試樣表面有一隨機(jī)分布的磁記憶信號(hào)。試驗(yàn)過(guò)程中,裂紋從16000次循環(huán)加載時(shí)開(kāi)始擴(kuò)展,當(dāng)裂紋擴(kuò)展13mm時(shí),裂紋尖端和測(cè)量線2的距離為2mm,試件發(fā)生失穩(wěn)斷裂。測(cè)量線2在各循環(huán)次數(shù)下的磁記憶信號(hào)分布曲線逐漸在30mm左右處相交,磁記憶信號(hào)強(qiáng)度隨著循環(huán)次數(shù)的增加略有減小。測(cè)量線3各循環(huán)次數(shù)下的磁記憶信號(hào)分布曲線沒(méi)有相交的現(xiàn)象,其磁記憶信號(hào)強(qiáng)度逐漸減小,測(cè)量線2與測(cè)量線3在各循環(huán)次數(shù)下的磁記憶信號(hào)分布曲線之間變化較小。測(cè)量線1在各循環(huán)次數(shù)下的磁記憶信號(hào)分布曲線發(fā)生明顯變化,如圖4,在循環(huán)初始階段(N1050),試件表面磁記憶信號(hào)有多個(gè)波峰波谷;經(jīng)過(guò)5000次循環(huán)加載后,磁記憶信號(hào)曲線轉(zhuǎn)變?yōu)榫哂幸粋€(gè)波峰波谷的曲線波形;在循環(huán)穩(wěn)定階段,磁記憶信號(hào)曲線趨于穩(wěn)定;當(dāng)宏觀裂紋出現(xiàn)后,磁記憶信號(hào)曲線波形發(fā)散;最后階段,磁記憶信號(hào)逐漸增強(qiáng)。測(cè)量線2、測(cè)量線3與測(cè)量線1在不同循環(huán)次數(shù)下其磁記憶信號(hào)分布曲線變化不同,這是由于測(cè)量線1位于試件缺口處,在循環(huán)加載下,缺口處應(yīng)力最大,在該處發(fā)生裂紋的萌生與裂紋的擴(kuò)展,導(dǎo)致磁場(chǎng)變化最大。測(cè)量線2距離缺口處15mm,由于應(yīng)力集中效應(yīng),其各循環(huán)次數(shù)下的磁記憶信號(hào)曲線逐漸在30mm左右處相交,在測(cè)量過(guò)程中,由于裂紋未擴(kuò)展至測(cè)量線2,其各磁記憶信號(hào)曲線與初始循環(huán)階段磁記憶曲線相似,有多個(gè)波峰波谷,變化不顯著。測(cè)量線3距離缺口處30mm,在測(cè)量過(guò)程中缺口及裂紋擴(kuò)展引起的應(yīng)力集中對(duì)其影響很小,其各循環(huán)次數(shù)下的磁記憶信號(hào)曲線在30mm左右處沒(méi)有出現(xiàn)相交的現(xiàn)象。

      圖2 測(cè)量線2各循環(huán)次數(shù)下磁記憶信號(hào)的變化關(guān)系Fig.2 Magnetic memory signal variation according to different cycles of line 2

      圖3 測(cè)量線3各循環(huán)次數(shù)下磁記憶信號(hào)的變化關(guān)系Fig.3 Magnetic memory signal variation according to different cycles of line 3

      圖4 測(cè)量線1各循環(huán)次數(shù)下磁記憶信號(hào)的變化關(guān)系(a)初始階段;(b)穩(wěn)定階段;(c)裂紋開(kāi)始擴(kuò)展;(d)裂紋擴(kuò)展至試樣斷裂Fig.4 Magnetic memory signal variation according to different cycles of line 1(a)initial stage;(b)stable stage;(c)cracks begin to propagate;(d)cracks propagate to the sample fracture

      由于測(cè)量線2與測(cè)量線3距離缺口較遠(yuǎn),在裂紋擴(kuò)展過(guò)程中,其磁記憶信號(hào)變化不顯著,本工作主要分析測(cè)量線1在不同循環(huán)次數(shù)下磁記憶信號(hào)的變化規(guī)律,從圖4可以看出,各循環(huán)次數(shù)時(shí)的磁記憶信號(hào)曲線在30mm左右處相交,這與試件切口位置相符,表明磁記憶信號(hào)可以很好的檢測(cè)試件缺陷位置。信號(hào)交點(diǎn)的位置與零點(diǎn)存在一定的偏離,與理論分析得出的“零點(diǎn)準(zhǔn)則”并不一致,這是由于試件在制造和加工時(shí)引起的殘余磁化造成的。將疲勞循環(huán)過(guò)程中試件表面各點(diǎn)的磁記憶信號(hào)減去第一次檢測(cè)時(shí)各點(diǎn)的磁記憶信號(hào),部分?jǐn)?shù)據(jù)處理結(jié)果如圖5。由圖5可見(jiàn),數(shù)據(jù)處理后,各循環(huán)次數(shù)下磁記憶信號(hào)曲線交于30mm處,并過(guò)零點(diǎn),與理論分析所得的“零點(diǎn)準(zhǔn)則”相符。

      圖5 磁記憶信號(hào)處理后過(guò)零點(diǎn)位置Fig.5 Zero-crossing position of the treated magnetic memory signal

      在初始循環(huán)階段,試件表面產(chǎn)生隨機(jī)分布的初始磁記憶信號(hào)的原因一方面是由于試件材料的微觀不均勻性,另一方面,在試件加工及輸運(yùn)過(guò)程中,材料曾承受的切削、磨削、沖擊、震動(dòng)等外載荷的作用都會(huì)導(dǎo)致材料表面磁場(chǎng)信號(hào)的變化,從而產(chǎn)生無(wú)規(guī)律的初始磁記憶信號(hào)。由圖4(a)可見(jiàn),磁記憶信號(hào)強(qiáng)度Hp(y)由1050次循環(huán)時(shí)的-14~45A/m降低到5000次循環(huán)時(shí)的-8~30A/m,這個(gè)過(guò)程趨向于退磁過(guò)程。研究表明,磁化過(guò)程不但取決于應(yīng)力,而且與非磁滯磁化有關(guān)[6]。根據(jù)“逼近準(zhǔn)則”,當(dāng)初始磁化大于非磁滯磁化時(shí),外加應(yīng)力將會(huì)導(dǎo)致疇壁脫釘。由于非磁滯磁化是磁疇能量最低狀態(tài)[7],在外加應(yīng)力作用下磁化趨向于非磁滯磁化狀態(tài)[6,8,9],從而導(dǎo)致 Hp(y)值降低。

      根據(jù)文獻(xiàn)[10,11],試樣表面的有效磁場(chǎng)為:

      式中:H為地磁場(chǎng)強(qiáng)度;α為分子場(chǎng)參數(shù);M為磁化強(qiáng)度;Hσ為由應(yīng)力引起的附加磁場(chǎng)。

      磁記憶檢測(cè)主要利用的是由應(yīng)力引起的附加磁場(chǎng),可以用以下公式計(jì)算[11]:

      式中:μ0為真空磁導(dǎo)率;λ為磁致伸縮系數(shù);σ為外加應(yīng)力;υ為材料泊松比;θ為外加應(yīng)力σ軸向與磁場(chǎng)H軸向的夾角。

      在本試驗(yàn)中,取θ=26.5,υ=0.25,從而,附加磁場(chǎng)可以寫(xiě)為:

      根據(jù)文獻(xiàn)[11],λ的經(jīng)驗(yàn)值可用式(4)表示:

      因此有:

      γ1(0)=7×10-18m2·A-2,

      γ′1(0)=-1×10-25m2·A-2·Pa-1,

      γ2(0)=-3.3×10-30m2·A-4,

      γ′2(0)=2.1×10-38m4·A-4·Pa-1

      因此,附加磁場(chǎng)可以寫(xiě)為式(6)的形式:

      試樣初始磁化 M 一般小于163.24A/m[10],由式(6)可知,當(dāng)應(yīng)力大于70MPa時(shí),Hσ<0,與未考慮施加應(yīng)力時(shí)的有效磁場(chǎng)符號(hào)相反,因此,由附加磁場(chǎng)引起的磁化與初始磁化相反,隨著應(yīng)力的增加,試件表面散射磁場(chǎng)降低。

      本試驗(yàn)過(guò)程中的最大應(yīng)力為200MPa,應(yīng)力比為0.5,因此在一次循環(huán)加載過(guò)程中,應(yīng)力為100~200MPa,大于70MPa,試件表面的散射磁場(chǎng)降低。在循環(huán)加載過(guò)程中,由于磁彈性效應(yīng)[4](如圖6所示),在Δσ作用下,每經(jīng)一次循環(huán)加載后,應(yīng)力引起磁化增加ΔMHσ,如此循環(huán)反復(fù),將導(dǎo)致應(yīng)力致磁化不斷增加,且與初始磁化相反,因此,試件整體磁化減小,這與試驗(yàn)結(jié)果相符。

      查閱手冊(cè)可知[13],在試樣中心缺口處其應(yīng)力集中系數(shù)為2.9,因此,試樣中心的附加磁場(chǎng)遠(yuǎn)大于試件整體的附加磁場(chǎng)。在磁彈性效應(yīng)作用下,試件中心由應(yīng)力引起的磁化增加量ΔMHσ遠(yuǎn)大于試件整體的磁化增加量,當(dāng)循環(huán)加載一定時(shí),由應(yīng)力引起的磁化ΔM大于初始磁化,試樣中心的初始磁場(chǎng)出現(xiàn)反轉(zhuǎn),如圖4(a),在30mm處,循環(huán)次數(shù)為5000時(shí)的梯度與循環(huán)次數(shù)為1050時(shí)的梯度符號(hào)相反。

      圖6 鐵磁物質(zhì)的磁彈性效應(yīng)Fig.6 Magneto-elastic effect of ferromagnetic material

      出現(xiàn)宏觀裂紋時(shí),試樣表面磁記憶信號(hào)由磁飽和時(shí)的穩(wěn)定狀態(tài)變?yōu)榘l(fā)散,且強(qiáng)度逐漸降低,如圖4(b),(c)。圖7是用磁記憶信號(hào)曲線波形的波峰值hp(y)max與波谷值hp(y)min之差,即:

      圖7 Hp(y)sub隨循環(huán)次數(shù)的變化關(guān)系Fig.7 Hp(y)subvariation according to different cycles

      得到的1通道峰-峰值Hp(y)sub與循環(huán)周次的變化規(guī)律。由圖可見(jiàn),在出現(xiàn)宏觀裂紋前,Hp(y)sub值基本不變,宏觀裂紋出現(xiàn)后,Hp(y)sub值近似線性減小,裂紋擴(kuò)展到一定時(shí),Hp(y)sub值近似指數(shù)增加。圖8是1通道磁記憶信號(hào)經(jīng)處理后的磁記憶信號(hào)梯度最大值Kmax與循環(huán)周次的變化規(guī)律,其中:

      式中:ΔHp(y)為磁記憶信號(hào)檢測(cè)線上相鄰兩個(gè)檢測(cè)點(diǎn)間Hp(y)的之差;Δx為相鄰兩個(gè)磁記憶信號(hào)檢測(cè)點(diǎn)間的距離。由圖8可知,出現(xiàn)宏觀裂紋前,Kmax基本不變,宏觀裂紋出現(xiàn)后,Kmax由5A·m-1·mm-1快速降低到1.5A·m-1·mm-1,隨后近似指數(shù)增加。

      圖8 信號(hào)處理后Kmax值與循環(huán)次數(shù)的關(guān)系Fig.8 Kmaxvariation of the treated magnetic memory signal according to different cycles

      當(dāng)微觀裂紋在疲勞載荷的作用下發(fā)展為宏觀裂紋時(shí),造成該處磁導(dǎo)率急劇降低。這是因?yàn)樵谕饧討?yīng)力作用下,在該處產(chǎn)生磁疇的固定節(jié)點(diǎn),裂紋處磁荷逐漸累積,形成磁極[14],并與試件本身磁極相反。根據(jù)磁荷的觀點(diǎn),磁荷與退磁場(chǎng)Hd是互為因果的,退磁場(chǎng)的方向與磁化強(qiáng)度方向相反,當(dāng)材料均勻磁化時(shí),材料內(nèi)的退磁場(chǎng)可以寫(xiě)成:

      式中:N為退磁因子,M為磁化強(qiáng)度[4]。

      產(chǎn)生宏觀裂紋時(shí),在裂紋兩端面形成N,S極,磁荷分布于裂紋端面。由式(9)可知,在裂紋局部由于磁極的產(chǎn)生將引起與磁化強(qiáng)度相反的退磁場(chǎng),從而使該處磁場(chǎng)強(qiáng)度降低,造成裂紋處表面磁記憶信號(hào)強(qiáng)度降低。因此,試件表面檢測(cè)到的磁記憶信號(hào)發(fā)散,Hp(y)sub與Kmax降低。利用該降低點(diǎn)可以檢測(cè)/監(jiān)測(cè)宏觀裂紋的產(chǎn)生,但尚需進(jìn)行進(jìn)一步研究。

      3 結(jié)論

      (1)未經(jīng)處理的試樣沿缺口處在疲勞初始階段磁記憶信號(hào)隨機(jī)分布,循環(huán)加載一定后,磁記憶信號(hào)曲線轉(zhuǎn)變?yōu)榫哂幸粋€(gè)波峰-波谷的曲線波形。

      (2)應(yīng)力大于70MPa時(shí),由附加磁場(chǎng)引起的磁化與初始磁化相反,由于磁彈性效應(yīng),試件表面散射磁場(chǎng)降低。在試樣缺口位置,由于應(yīng)力集中效應(yīng),該處附加磁場(chǎng)急劇增加,隨著循環(huán)次數(shù)的增加,試樣中心由附加磁場(chǎng)引起的磁化增加量大于初始磁化,導(dǎo)致試件中心表面散射磁場(chǎng)反轉(zhuǎn)。

      (3)宏觀裂紋出現(xiàn)后,在裂紋局部產(chǎn)生磁極,形成退磁場(chǎng),導(dǎo)致磁記憶信號(hào)曲線波形發(fā)散。

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