談淑詠,吳湘君,張旭海,張 炎,蔣建清,朱雪鋒,江先彪
(1江蘇省先進(jìn)結(jié)構(gòu)材料與應(yīng)用技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,南京211167;2南京工程學(xué)院 材料工程學(xué)院,南京211167;3東南大學(xué) 材料科學(xué)與工程學(xué)院,南京211189)
在二元單層結(jié)構(gòu)涂層中,涂層性能的改善主要是通過(guò)改變涂層沉積的工藝參數(shù)而實(shí)現(xiàn)的[1-3]。進(jìn)一步對(duì)二元涂層進(jìn)行多元合金化[4-6]或多層化[7,8]是提高其性能的主要手段。多層涂層通過(guò)在沉積過(guò)程中打亂貫穿基底到涂層的柱狀生長(zhǎng)、細(xì)化涂層晶粒以及多層界面對(duì)位錯(cuò)和裂紋擴(kuò)展的阻礙作用使涂層性能明顯提高[9,10]。目前,納米多層涂層致硬機(jī)理的模型主要有模量差異致硬、協(xié)調(diào)應(yīng)變致硬、結(jié)構(gòu)勢(shì)壘致硬、Hall-Petch關(guān)系、量子電子效應(yīng)、Orowan模型[11]和固溶體致硬等。雖然模型不同,但都著眼于界面強(qiáng)化。這些模型針對(duì)不同的研究對(duì)象能對(duì)多層涂層硬化給出一定程度的解釋,對(duì)硬質(zhì)多層涂層的設(shè)計(jì)有一定的指導(dǎo)意義。但由于納米多層涂層種類繁多,結(jié)構(gòu)各異,形成的組織結(jié)構(gòu)和界面極其復(fù)雜,導(dǎo)致其制備工藝、界面結(jié)合、顯微組織的控制等很多問(wèn)題還沒(méi)有弄清楚,也必然會(huì)給致硬機(jī)理的深入研究帶來(lái)困難。
近幾年,對(duì)CrN/CrAlN,TiN/MoSx,AlN/ZrN/AlN,AlN/CrN,TiN(或CrN,VN,SiN)/TiAlN 等多層涂層的研究很多[12-14],主要探討涂層的磨損機(jī)理、硬化機(jī)理、氧化行為等方面,并致力于開(kāi)發(fā)新的納米涂層。CrN涂層具有相當(dāng)?shù)挠捕?、?nèi)應(yīng)力低、韌性和耐腐蝕性好、熱穩(wěn)定性高等特點(diǎn),不但可作為耐磨涂層用于工模具和切削工具的表面強(qiáng)化,而且在表面防腐和裝飾等許多工業(yè)領(lǐng)域也有重要用途。但直流磁控濺射法制備的CrN單層涂層結(jié)構(gòu)較為疏松,硬度較低[15,16],本工作擬采用 Cr/CrN 多層結(jié)構(gòu)涂層的設(shè)計(jì)思路,期望通過(guò)引入多層結(jié)構(gòu)可以提高涂層性能。實(shí)驗(yàn)選擇軟金屬Cr層對(duì)CrN層進(jìn)行多層化,主要基于多層涂層的膜基結(jié)合和韌性這一考慮,多層結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)主要是通過(guò)改變調(diào)制周期和層厚比這兩個(gè)重要參數(shù)加以實(shí)現(xiàn)的。通過(guò)研究層厚比對(duì)Cr/CrN多層涂層組織結(jié)構(gòu)、力學(xué)性能的影響規(guī)律,優(yōu)化涂層制備工藝參數(shù),為此類涂層的工業(yè)化生產(chǎn)及應(yīng)用提供一定的依據(jù)。
實(shí)驗(yàn)采用JGP450A2型超高真空磁控濺射儀制備Cr/CrN多層涂層?;瑸殓R面304不銹鋼,靶材為純度99.8%的Cr(尺寸為φ80mm×5mm)。在不銹鋼基底上先沉積Cr層,然后沉積CrN層,隨后使這一過(guò)程交替進(jìn)行,最終形成Cr/CrN多層涂層。其中,Cr層沉積氣氛為氬氣,氣流量為10sccm,CrN沉積氣氛為氬氣和氮?dú)獾幕旌蠚怏w,氣流量分別為10sccm和23sccm。沉積過(guò)程中工作氣壓為0.5Pa,基底負(fù)偏壓為200V,功率為150W。濺射過(guò)程中靶基距均為60mm,基底由水冷卻。實(shí)驗(yàn)中,設(shè)定調(diào)制周期為400nm(即單一Cr層和CrN層的厚度之和為400nm),通過(guò)對(duì)Cr層和CrN層沉積時(shí)間的控制,調(diào)節(jié)層厚比(即CrN層厚度/(CrN層+Cr層厚度))分別為0.2,0.5,1.0和2.0,具體參數(shù)如表1所示。
表1 Cr/CrN多層涂層沉積參數(shù)Table1 Deposited parameters of Cr/CrN multilayer coatings
涂層采用D8DISCOVER型X射線衍射儀(XRD)進(jìn)行物相分析,選用的輻射源為銅 Kα,λ=1.5406nm,管電壓為40kV,管電流為40mA,采用連續(xù)掃描的方式,2θ角掃描范圍為30~85°。顯微硬度測(cè)試在FM-700數(shù)字式顯微硬度計(jì)上進(jìn)行,載荷為0.098N,測(cè)試6點(diǎn)取平均值。在中科院蘭州化物所生產(chǎn)的WS-2005薄膜附著力自動(dòng)劃痕儀上測(cè)得涂層與基體的結(jié)合強(qiáng)度(臨界載荷),并用金相顯微鏡觀察劃痕形貌。利用WTM-2E磨損儀測(cè)量涂層的摩擦磨損性能,對(duì)磨材料為Si3N4球,加載載荷為100g,摩擦速率為0.25m/s,摩擦實(shí)驗(yàn)在濕度為50%,溫度為25℃的環(huán)境下進(jìn)行。利用Dektak3ST型臺(tái)階儀測(cè)量磨痕深度及磨痕寬度,計(jì)算出總的磨損體積,通過(guò)磨損率來(lái)評(píng)價(jià)涂層的耐磨性。采用Sirion場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡(SEM)觀察涂層的組織形貌及磨痕形貌,利用其附帶的能譜儀測(cè)定成分。
圖1是具有不同層厚比的Cr/CrN多層涂層的XRD譜圖。由圖可見(jiàn),單層CrN涂層主要由fcc-CrN單相構(gòu)成,呈現(xiàn)明顯的(200)擇優(yōu)生長(zhǎng);多層涂層均由fcc-CrN和bcc-Cr兩相組成,其中 CrN 以(200)峰為主,Cr以(110)峰為主。加入緩沖層Cr層后,涂層的擇優(yōu)取向仍主要為CrN(200)。單層氮化物薄膜經(jīng)過(guò)多層化形成金屬/氮化物多層膜后,多層薄膜的擇優(yōu)取向不會(huì)發(fā)生改變這一現(xiàn)象在多種涂層中已發(fā)現(xiàn),如電弧離子鍍 Cr/CrN 多層膜[17]、Ti/TiN 及 Al/TiN 薄膜[18]。但隨著層厚比從2.0降至0.2,CrN(200)衍射峰強(qiáng)度增大,而Cr(110)衍射峰強(qiáng)度減小,這是由于涂層中CrN含量增多和Cr含量減小所導(dǎo)致的。Cr/CrN多層涂層中的CrN(200)衍射峰發(fā)生一定程度的右移,這可能是由于涂層壓應(yīng)力釋放所致[19]。
圖1 不同層厚比Cr/CrN多層涂層X(jué)RD譜圖(a)單層CrN;(b)層厚比2.0;(c)層厚比1.0;(d)層厚比0.5;(e)層厚比0.2Fig.1 XRD patterns of Cr/CrN multilayer coatings with different layer thickness ratio(a)single layer CrN;(b)layer thickness ratio of 2.0;(c)layer thickness ratio of 1.0;(d)layer thickness ratio of 0.5;(e)layer thickness ratio of 0.2
圖2為不同層厚比Cr/CrN多層涂層的橫截面形貌。由圖可見(jiàn),Cr/CrN界面數(shù)量均為14,隨著層厚比從2.0降至0.2,Cr層厚度減小,CrN層厚度增大。層厚比為2.0時(shí),涂層呈明顯的柱狀結(jié)構(gòu),且Cr層柱狀結(jié)構(gòu)比CrN層更為明顯,組織疏松,Cr/CrN界面清晰。層厚比為0.2時(shí),Cr層和CrN層的柱狀結(jié)構(gòu)均不明顯,Cr/CrN界面變得模糊,涂層結(jié)構(gòu)更為致密[12]。這表明Cr層的存在,帶來(lái)了大量的中間界面,可抑制柱狀晶的生長(zhǎng)[20],有助于提高多層涂層致密性,細(xì)化涂層晶粒。
Cr/CrN多層涂層的硬度和結(jié)合力隨層厚比的變化關(guān)系如圖3所示。由圖可見(jiàn),隨著層厚比從2.0降至0.2,涂層的硬度從1550HV大幅增至2300HV,而涂層的結(jié)合力則從21N先略增至23N后降至16N。
圖3 不同層厚比Cr/CrN多層涂層硬度和結(jié)合力Fig.3 Microhardness and adhesion of Cr/CrN multilayer coatings with different layer thickness ratio
涂層硬度隨著層厚比的降低而增大,這與多層結(jié)構(gòu)中CrN層厚度的增大、Cr層厚度的減小,以及涂層致密化結(jié)構(gòu)(見(jiàn)圖2)有關(guān)。根據(jù)硬度混合法則,取Cr和CrN的硬度分別為930,1800HV,計(jì)算出層厚比為0.2,0.5,1.0和2.0時(shí)多層涂層的混合硬度分別為1656,1506,1365HV和1217HV,結(jié)合圖3可知,多層涂層的硬度均高于混合法則所得到的硬度,即Cr/CrN多層結(jié)構(gòu)涂層能夠提高涂層硬度。
根據(jù)圖3中所示的涂層表面劃痕形貌可見(jiàn),劃痕周邊均未出現(xiàn)大塊的剝離和脫落現(xiàn)象,顯示Cr/CrN多層涂層具有較好的膜基結(jié)合。另外,涂層結(jié)合情況隨著層厚比的降低有所改善,但層厚比過(guò)低,膜基結(jié)合又會(huì)下降。這說(shuō)明適當(dāng)厚度的Cr過(guò)渡層可以改善涂層與基體的結(jié)合。涂層結(jié)合情況的改善與涂層中殘余應(yīng)力的大小相關(guān)。研究表明,軟硬交替的膜層結(jié)構(gòu)具有較小的殘余應(yīng)力[21],有助于膜基結(jié)合力的增加。
圖4為不同層厚比Cr/CrN多層涂層的磨損率和摩擦因數(shù)。由圖可見(jiàn),層厚比由2.0下降到0.5時(shí),涂層的磨損率首先由2.4×10-8mm3·N-1·m-1緩慢下降到1.8×10-8mm3·N-1·m-1,當(dāng)層厚比為0.2時(shí),磨損率達(dá)到最小值0.6×10-8mm3·N-1·m-1;Cr/CrN多層涂層的摩擦因數(shù)保持在0.85左右,基本不隨著層厚比的變化而改變,且數(shù)值和CrN薄膜的摩擦因數(shù)(約0.83)相近。
圖4 不同層厚比Cr/CrN多層涂層磨損率和摩擦因數(shù)Fig.4 Wear rate and friction coefficient of Cr/CrN multilayer coatings with different thickness ratio
圖5為具有不同層厚比的Cr/CrN涂層磨損后的表面形貌。由圖可見(jiàn),磨痕表面均較為平整。在Cr/CrN多層涂層中,硬質(zhì)相CrN和軟質(zhì)相Cr是交替分布的,在磨球(磨球?yàn)镾i3N4)和涂層表面相互接觸和磨損的過(guò)程中,表面的硬質(zhì)CrN會(huì)發(fā)生剝離并形成硬質(zhì)磨粒,這些硬質(zhì)磨粒隨后將會(huì)嵌入到軟質(zhì)相Cr中而難以從磨痕表面掙脫,導(dǎo)致參與磨粒磨損的磨粒將會(huì)減少,磨痕表面平整光滑。對(duì)層厚比為0.5的涂層磨痕表面進(jìn)行線掃描發(fā)現(xiàn),磨痕表面顏色較深的地方Cr和N元素含量下降,O和Si(磨球?yàn)镾i3N4)元素含量升高,說(shuō)明磨屑在此處出現(xiàn)了堆積。其中,Cr元素下降表明涂層和磨球之間發(fā)生了元素轉(zhuǎn)移,O元素的增加說(shuō)明涂層磨損過(guò)程發(fā)生了氧化。當(dāng)層厚比降為0.2時(shí),涂層表面磨痕寬度顯著減小,耐磨性最佳。且由于Si3N4磨球硬質(zhì)壓入薄膜表面后對(duì)其切削,形成了犁溝和擠出脊,涂層表面具有磨粒磨損的形貌特征[22]。
圖5 不同層厚比Cr/CrN多層涂層磨損形貌(a)層厚比2.0;(b)層厚比1.0;(c)層厚比0.5;(d)層厚比0.2Fig.5 Wear morphology of Cr/CrN multilayer coatings with different layer thickness ratio(a)layer thickness ratio of 2.0;(b)layer thickness ratio of 1.0;(c)layer thickness ratio of 0.5;(d)layer thickness ratio of 0.2
一般認(rèn)為,涂層的耐磨性取決于涂層的硬度以及涂層與基底的結(jié)合強(qiáng)度[23]。結(jié)合圖3和圖4,本實(shí)驗(yàn)中層厚比為0.2的Cr/CrN涂層具有最高的硬度和最佳耐磨性,符合磨損量和f/H(f為摩擦因數(shù),H為顯微硬度)之間的正比關(guān)系[24]。
(1)采用直流磁控濺射法制備出具有不同層厚比的Cr/CrN多層涂層。在調(diào)制周期相同的條件下(400 nm),當(dāng)層厚比為2.0,1.0,0.5和0.2時(shí),Cr/CrN 多層涂層始終由Cr和CrN兩相組成,呈現(xiàn)較為明顯的CrN(200)擇優(yōu)生長(zhǎng)。
(2)層厚比的減小,使Cr/CrN多層涂層變得致密起來(lái),帶來(lái)硬度的上升和耐磨性的改善。
(3)Cr/CrN多層涂層與基體的結(jié)合情況較好。
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