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      稀土摻雜漫反射板星上光譜定標(biāo)技術(shù)

      2015-03-12 10:26:50劉宇翔伏瑞敏李明丁世濤杜國(guó)軍
      航天返回與遙感 2015年6期
      關(guān)鍵詞:成像儀聚四氟乙烯定標(biāo)

      劉宇翔 伏瑞敏 李明 丁世濤 杜國(guó)軍

      (北京空間機(jī)電研究所,北京 100094)

      0 引言

      光譜成像儀是同時(shí)獲取地物圖像和光譜信息[1],且能獲得連續(xù)的光譜數(shù)據(jù)的光學(xué)遙感儀器。與一般相機(jī)獲取的圖像相比,光譜成像儀多了光譜維的信息。很多譜段數(shù)目的組合應(yīng)用可以為不同需求用戶(hù)提供大量的遙感圖像產(chǎn)品[2]。

      光譜成像儀的應(yīng)用以定量化的數(shù)據(jù)為基礎(chǔ),因此需要對(duì)其進(jìn)行準(zhǔn)確定標(biāo)。光譜定標(biāo)的目的是確定CCD每個(gè)像元的序號(hào)與入射輻射的波長(zhǎng)之間的對(duì)應(yīng)關(guān)系,并確定儀器總的光譜范圍。

      經(jīng)過(guò)發(fā)射以及在軌運(yùn)行,星載光譜成像儀的光學(xué)、結(jié)構(gòu)和電子學(xué)部件會(huì)發(fā)生性能改變,導(dǎo)致實(shí)驗(yàn)室輻射定標(biāo)建立的數(shù)字化輸出和地面景物輻亮度之間的關(guān)系發(fā)生改變,同時(shí)也會(huì)使像面上譜線位置發(fā)生改變。為了得到準(zhǔn)確的光譜圖像數(shù)據(jù),必須對(duì)這些變化進(jìn)行校正,這就要求在實(shí)驗(yàn)室定標(biāo)的基礎(chǔ)上對(duì)光譜成像儀進(jìn)行星上定標(biāo)[3]。

      目前,星載光譜成像儀的星上光譜定標(biāo)方法有:1)稀土摻雜聚四氟乙烯漫反射板法;2)太陽(yáng)夫瑯和費(fèi)線法;3)氧氣A吸收帶法;4)大氣吸收線法;5)具有特殊吸收峰的濾光片法;6)邁拉聚酯薄膜法。MERIS、Hyperion、CHRIS、OMI、MOS、HRIS、MODIS、HISUI[4-11]等衛(wèi)星上的光譜成像儀均使用了以上方法中的1~3種進(jìn)行星上光譜定標(biāo)。

      本文針對(duì)某光譜成像儀的特點(diǎn)及任務(wù)需求選擇了稀土摻雜聚四氟乙烯漫反射板法對(duì)其進(jìn)行星上光譜定標(biāo),并且進(jìn)行了地面模擬,相比其他方法具有一定優(yōu)勢(shì)。首先,該方法可以通過(guò)選擇摻雜稀土元素的種類(lèi)和數(shù)量改變漫反射板吸收峰的位置和數(shù)量,使其適應(yīng)光譜成像儀的譜段范圍和光譜響應(yīng)區(qū)間。其次,該方法不需要通過(guò)地球大氣,在實(shí)驗(yàn)室可以通過(guò)太陽(yáng)模擬器進(jìn)行地面模擬。此外,此光譜成像儀參考了MERIS的星上光譜定標(biāo)方法,是我國(guó)首例使用稀土摻雜聚四氟乙烯漫反射板法進(jìn)行星上光譜定標(biāo),通過(guò)此次方案設(shè)計(jì)、模擬,可以為后續(xù)應(yīng)用提供技術(shù)參考。

      1 星上定標(biāo)系統(tǒng)簡(jiǎn)介

      某光譜成像儀采用光柵作為分光元件,采用面陣探測(cè)器作為信號(hào)接收元件,探測(cè)器行方向?qū)?yīng)視場(chǎng)維、列方向?qū)?yīng)光譜維。光譜范圍 400~950nm,光譜色散率為 1.25nm/像元。光譜成像儀由星上定標(biāo)系統(tǒng)、光學(xué)鏡頭和焦面組件、遮光罩、支撐結(jié)構(gòu)、電子學(xué)系統(tǒng)和熱控系統(tǒng)等組成。星上定標(biāo)系統(tǒng)位于光學(xué)系統(tǒng)的前端,采用太陽(yáng)定標(biāo)方法進(jìn)行光譜成像儀的星上定標(biāo)。星上定標(biāo)系統(tǒng)見(jiàn)圖 1,由定標(biāo)轉(zhuǎn)盤(pán)、傳動(dòng)機(jī)構(gòu)、電機(jī)、旋轉(zhuǎn)變壓器、擋光板、遮光罩、地球窗口玻璃和其它結(jié)構(gòu)組成。

      定標(biāo)轉(zhuǎn)盤(pán)上有5個(gè)工作位置,如圖2所示,分別為地球窗口、輻射定標(biāo)漫反射板(主份)、輻射定標(biāo)漫反射板(備份)、光譜定標(biāo)漫反射板和遮光位置,不同的工作位置對(duì)應(yīng)著相機(jī)的不同工作模式。

      圖1 某光譜成像儀星上定標(biāo)系統(tǒng)Fig.1 On-board calibration systems of spectral imager

      圖2 定標(biāo)轉(zhuǎn)盤(pán)的5個(gè)工作位置Fig.2 Five positions of calibration disk

      輻射定標(biāo)漫反射板采用聚四氟乙烯白板,光譜定標(biāo)漫反射板采用聚四氟乙烯摻雜稀土元素材料。輻射定標(biāo)漫反射板和光譜定標(biāo)漫反射板方向半球反射比光譜分布見(jiàn)圖3。輻射定標(biāo)漫反射板在400~950nm波段反射率大于95%且具有較好的光譜平坦性。光譜定標(biāo)漫反射板在400~950nm波段范圍內(nèi)具有6個(gè)特征吸收峰,吸收峰波長(zhǎng)分別為407.7、451.9、489.3、521.4、653.7、798.6nm,以光譜定標(biāo)漫反射板的吸收峰波長(zhǎng)作為星上光譜定標(biāo)的特征波長(zhǎng)。

      圖3 輻射定標(biāo)漫反射板和光譜定標(biāo)漫反射板方向半球反射比光譜分布Fig.3 Reflectance of radiometric calibration diffuser plate and spectral calibration diffuser plate

      2 星上光譜定標(biāo)過(guò)程及地面模擬

      2.1 星上光譜定標(biāo)過(guò)程

      用稀土摻雜聚四氟乙烯漫反射板法進(jìn)行星上光譜定標(biāo)時(shí),太陽(yáng)光從太陽(yáng)窗口入射,將定標(biāo)轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)到輻射定標(biāo)漫反射板(聚四氟乙烯白板)位置,得到第一幀數(shù)據(jù)。然后將定標(biāo)轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)到光譜定標(biāo)漫反射板(稀土摻雜聚四氟乙烯漫反射板)位置,得到第二幀數(shù)據(jù)。通過(guò)對(duì)稀土摻雜聚四氟乙烯漫反射板吸收峰附近的兩幀數(shù)據(jù)進(jìn)行對(duì)比,找到吸收峰波長(zhǎng)所對(duì)應(yīng)的像元,從而完成星上光譜定標(biāo)的尋峰處理。對(duì)于不同的空間維,用多個(gè)吸收峰波長(zhǎng)及其對(duì)應(yīng)的像元位置進(jìn)行線性回歸分析求解,便能得到不同視場(chǎng)方向的光譜定標(biāo)方程。

      2.2 地面模擬實(shí)驗(yàn)及結(jié)果

      進(jìn)行星上光譜定標(biāo)地面模擬時(shí),將太陽(yáng)模擬器的光源從太陽(yáng)窗口入射,所成夾角與星上光譜定標(biāo)時(shí)與太陽(yáng)光所成的夾角相同。首先,將定標(biāo)轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)到遮光位置,記錄此時(shí)CCD每個(gè)像元的暗電流值Dij;然后,將定標(biāo)轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)到光譜定標(biāo)漫反射板(稀土摻雜聚四氟乙烯漫反射板)位置,記錄此時(shí)的DN值A(chǔ)ij;最后,將定標(biāo)轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)到輻射定標(biāo)漫反射板(聚四氟乙烯白板)位置,記錄此時(shí)的 DN值 Bij。Aij、Bij和Dij都要多次測(cè)量取平均值,以減小測(cè)量誤差。其中,下標(biāo) i代表行號(hào),即光譜維像元號(hào),i越大,對(duì)應(yīng)的光譜波長(zhǎng)越短;j代表列號(hào),即空間維像元號(hào)。將測(cè)得的光譜響應(yīng)數(shù)據(jù)按式(1)進(jìn)行歸一化整理,得到去除暗電流噪聲后光譜定標(biāo)漫反射板光譜響應(yīng)的歸一化結(jié)果Cij。

      通過(guò)理論計(jì)算以及實(shí)驗(yàn)室光譜定標(biāo),光譜定標(biāo)漫反射板的 6個(gè)吸收峰位置(407.7、451.9、489.3、521.4、653.7、798.6nm)在單一視場(chǎng)方向所對(duì)應(yīng)的像元位置應(yīng)分別在 461、425、395、369、263、146附近。

      將得到的光譜定標(biāo)漫反射板光譜響應(yīng)歸一化結(jié)果Cij固定視場(chǎng)方向(選取特定j值),便可得到單一視場(chǎng)方向上光譜維像元號(hào)和歸一化值的對(duì)應(yīng)關(guān)系。取j=500時(shí)(大致在中心視場(chǎng)方向),光譜維像元號(hào)和歸一化值的對(duì)應(yīng)關(guān)系如圖4所示,從圖4中可以明顯地看出光譜定標(biāo)漫反射板的6個(gè)吸收峰位置。

      圖4 光譜定標(biāo)漫反射板光譜響應(yīng)中心視場(chǎng)歸一化結(jié)果Fig.4 Normalized result of spectral response at central field of spectral calibration diffuser plate

      對(duì)于每個(gè)空間維(1

      尋峰處理采用高斯擬合方法計(jì)算,可以較準(zhǔn)確地確定光譜定標(biāo)漫反射板的吸收峰坐標(biāo)。圖5給出了光譜定標(biāo)漫反射板 489.3nm吸收峰在中心視場(chǎng)的歸一化結(jié)果,近似滿足高斯分布,高斯函數(shù)如式(2)所示。通過(guò)高斯擬合,確定其高斯擬合峰中心像元號(hào)395.239,即該像元號(hào)和波長(zhǎng)489.3nm對(duì)應(yīng)。

      式中 Xij表示在空間維第j列某吸收峰附近幾個(gè)連續(xù)像元號(hào);Sj為對(duì)應(yīng)的歸一化結(jié)果;K、Xj、σj為待估參數(shù),分別代表高斯曲線的峰值、峰位和峰寬。

      通過(guò)尋峰處理,可以確定光譜定標(biāo)漫反射板吸收峰Sj峰位和峰位波長(zhǎng)數(shù)據(jù)組[Xij,Yij]。數(shù)組中Xij代表吸收峰峰位像元號(hào),Yij代表吸收峰峰位波長(zhǎng)。

      圖5 中心視場(chǎng)489.3nm吸收峰處歸一化結(jié)果和高斯擬合Fig.5 Normalized result and Gauss fit curve of 489.3nm absorption peak at central field

      因?yàn)楣庾V在CCD探測(cè)器上近似成線性排列,建立光譜定標(biāo)方程模型(式(3))。式中采用最小二乘法對(duì)數(shù)據(jù)組進(jìn)行回歸分析求解,如式(4)所示。

      式中 aj、bj均為待估參數(shù),分別代表光譜定標(biāo)方程的常數(shù)項(xiàng)和一次項(xiàng)系數(shù);m為吸收峰個(gè)數(shù),本例中m取6;分別為空間維取第j列時(shí) Xij和Yij的均值。

      圖6給出了中心視場(chǎng)的回歸分析結(jié)果。其中6個(gè)點(diǎn)為光譜定標(biāo)漫反射板6個(gè)吸收峰位置,直線為定標(biāo)直線,光譜定標(biāo)方程函數(shù)表達(dá)式為

      式中 Y為光譜波長(zhǎng)值;X為CCD像元行號(hào),X∈[1,472];下標(biāo)500代表該方程為空間維第500列的光譜定標(biāo)方程,對(duì)應(yīng)于中心視場(chǎng)。根據(jù)定標(biāo)方程計(jì)算出探測(cè)器466.85像元到25.44像元分別對(duì)應(yīng)400~950nm的波長(zhǎng)范圍。

      為了提高回歸分析的精度,可以提高多項(xiàng)式擬合的次數(shù),即將光譜定標(biāo)模型由式(3)變?yōu)槭剑?)。同樣,用最小二乘法求出a0j,a1j,a2j,…,anj即可。

      圖6 中心視場(chǎng)光譜定標(biāo)回歸分析結(jié)果Fig.6 Regression analysis result of spectral calibration at central field

      表1給出了1~4次多項(xiàng)式擬合在同一像元位置對(duì)應(yīng)的光譜波長(zhǎng)。由表1可以看出,當(dāng)多項(xiàng)式擬合次數(shù)達(dá)到3次及以上時(shí),擬合結(jié)果的差別已很小,故選擇三次多項(xiàng)式擬合可進(jìn)一步提高回歸分析的精度,此時(shí)中心視場(chǎng)光譜定標(biāo)方程函數(shù)表達(dá)式為

      表1 中心視場(chǎng)不同多項(xiàng)式擬合次數(shù)對(duì)應(yīng)波長(zhǎng)Tab.1 Spectral wavelengths of different polynomial fit at central field nm

      2.3 光譜定標(biāo)結(jié)果不確定分析

      通過(guò)分析該光譜成像儀的光譜定標(biāo)過(guò)程,可以發(fā)現(xiàn)影響其定標(biāo)精度的因素主要包括:光譜定標(biāo)漫反射板實(shí)驗(yàn)室標(biāo)定的吸收峰位置的不確定度σa、星上定標(biāo)系統(tǒng)在軌溫度變化(±5℃)引起的光譜定標(biāo)漫反射板譜線位置的不確定度σb、在軌溫度變化(±2℃)引起的焦面譜線位置漂移σc、對(duì)采集到的圖像進(jìn)行尋峰處理時(shí)譜峰定位的不確定度σd和回歸分析過(guò)程中的不確定度σe。

      綜合上面所有因素考慮,利用誤差傳遞公式,可計(jì)算出星上光譜定標(biāo)的綜合不確定度σ。

      星上光譜定標(biāo)不確定度估算見(jiàn)表 2,由式(8)可得,星上光譜定標(biāo)綜合不確定度約為±0.60nm,滿足±1nm的光譜定標(biāo)精度要求。

      表2 星上光譜定標(biāo)不確定度Tab.2 Uncertainty of on-board spectral calibration

      3 光譜定標(biāo)精度實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證

      汞燈譜線帶寬窄、波長(zhǎng)精確度高,使用汞燈為光源通過(guò)地球窗口對(duì)光譜成像儀進(jìn)行照射,可以驗(yàn)證光譜定標(biāo)函數(shù)方程的準(zhǔn)確性。同時(shí),還使用了鹵鎢燈和有吸收峰的濾光片為光源對(duì)光譜定標(biāo)精度進(jìn)行驗(yàn)證。

      在波長(zhǎng)在400~950nm范圍內(nèi),選取404.66、435.84、546.07、576.96nm四個(gè)汞燈標(biāo)準(zhǔn)譜線波長(zhǎng)和445.6、536、585.4、673.6、739.5、807.4、870.6nm七個(gè)濾光片吸收峰波長(zhǎng)對(duì)光譜定標(biāo)精度進(jìn)行驗(yàn)證,中心視場(chǎng)對(duì)比結(jié)果如表3、表4所示,其中最大偏差值不超過(guò)0.6nm。

      表3 中心視場(chǎng)汞燈標(biāo)準(zhǔn)波長(zhǎng)和定標(biāo)波長(zhǎng)對(duì)比Tab.3 Comparison result of the mercury lamp standard lines at central field nm

      表4 中心視場(chǎng)濾光片波長(zhǎng)和定標(biāo)波長(zhǎng)對(duì)比Tab.4 Comparison result of the filter wavelengths at central field nm

      4 結(jié)束語(yǔ)

      本文針對(duì)某光譜成像儀的特點(diǎn)及任務(wù)需求,選用稀土摻雜聚四氟乙烯漫反射板法對(duì)其進(jìn)行星上光譜定標(biāo),并進(jìn)行了地面模擬。通過(guò)尋峰處理和回歸分析得出光譜定標(biāo)函數(shù)方程,完成了對(duì)載荷星上光譜定標(biāo)的地面模擬,并利用汞燈標(biāo)準(zhǔn)譜線和濾光片吸收峰波長(zhǎng)對(duì)定標(biāo)精度進(jìn)行了檢驗(yàn)。在國(guó)內(nèi)首次使用稀土摻雜聚四氟乙烯漫反射板法,實(shí)現(xiàn)了對(duì)光譜成像儀進(jìn)行星上光譜定標(biāo)的地面模擬,經(jīng)定標(biāo)精度的檢驗(yàn),驗(yàn)證了該方法的可行性,滿足了載荷的光譜定標(biāo)精度要求。通過(guò)此次地面模擬,對(duì)稀土摻雜聚四氟乙烯漫反射板法有了進(jìn)一步的了解和研究,可為后續(xù)應(yīng)用提供一定技術(shù)參考。

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