鄧 青,汪粲星,萬(wàn)川川,張 浩
(南京電子技術(shù)研究所,江蘇南京 210039)
用于X波段相控陣系統(tǒng)的高線性度低附加相移數(shù)字衰減器設(shè)計(jì)
鄧 青,汪粲星,萬(wàn)川川,張 浩
(南京電子技術(shù)研究所,江蘇南京 210039)
設(shè)計(jì)了一款應(yīng)用于X波段相控陣系統(tǒng)的6位數(shù)字衰減器,該衰減器具有高線性度和低附加相移的特點(diǎn)。對(duì)常規(guī)開(kāi)關(guān)Pi型衰減器的附加相移和線性度進(jìn)行了分析,通過(guò)電感和電容補(bǔ)償技術(shù),實(shí)現(xiàn)了在寬帶頻率范圍和不同衰減狀態(tài)下都具有低的附加相移。此外,利用浮動(dòng)襯底技術(shù)來(lái)實(shí)現(xiàn)較高的線性度。該衰減器基于0.13μm的BiCMOS工藝設(shè)計(jì)。仿真結(jié)果顯示該衰減器的插入損耗為6.67 dB,10 GHz下在最小衰減和最大衰減處的1 dB壓縮點(diǎn)輸入功率分別為15.5 dBm和10 dBm。
X波段;衰減器;相位校正;高線性度;相控陣;TSV;BiCMOS
衰減器是現(xiàn)代通信系統(tǒng)和雷達(dá)系統(tǒng)的關(guān)鍵部件之一,廣泛應(yīng)用于自動(dòng)控制環(huán)路、調(diào)制器和相控陣系統(tǒng)中[1]。在相控陣系統(tǒng)中,衰減器在不同衰減狀態(tài)下必須具有非常低的相位誤差[2]。此外,到達(dá)衰減器處的信號(hào)通常非常大,因此衰減器必須具有足夠高的線性度來(lái)處理大信號(hào)[3]。
大多數(shù)數(shù)字衰減器基于兩種基礎(chǔ)的拓?fù)浣Y(jié)構(gòu):Pi型衰減器和T型衰減器,由開(kāi)關(guān)和電阻組成,因此衰減器的性能高度依賴(lài)于開(kāi)關(guān)性能[4,5]。由于微波頻率下晶體管的開(kāi)關(guān)性能很差,開(kāi)關(guān)難以通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)的CMOS工藝實(shí)現(xiàn)。電路中的開(kāi)關(guān)主要是由III-V族半導(dǎo)體器件構(gòu)成,例如具有低導(dǎo)通電阻和截止電容的GaAs HEMT或PIN二極管。但是GaAs工藝產(chǎn)量低,需要外部控制電路,并且價(jià)格昂貴。
本文采用的衰減器的結(jié)構(gòu)如圖1所示。6位數(shù)字衰減器采用了電感和電容補(bǔ)償結(jié)構(gòu),具有31.5 dB的高衰減范圍,衰減步徑為0.5 dB,由0.13 μm的BiCMOS工藝制備。0.5 dB衰減器采用T型網(wǎng)絡(luò),其他衰減器采用Pi型網(wǎng)絡(luò)。16 dB衰減器由兩個(gè)8 dB衰減器串聯(lián)級(jí)聯(lián),可在最大衰減狀態(tài)下獲得良好的線性度。在每?jī)杉?jí)衰減器之間,使用小值電感來(lái)諧振寄生電容以獲得良好的端口阻抗匹配,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)良好的幅度步進(jìn)誤差。電感和電容補(bǔ)償也用于實(shí)現(xiàn)低相位誤差和低幅度步進(jìn)誤差。從負(fù)載效應(yīng)和功率處理能力兩方面考慮,來(lái)選擇適當(dāng)比特排序以獲得最佳性能。
圖1 衰減器的結(jié)構(gòu)示意圖
通過(guò)高值電阻對(duì)開(kāi)關(guān)的柵極和襯底施加偏壓。該結(jié)構(gòu)在RF頻率下呈現(xiàn)高阻抗,并且開(kāi)關(guān)的柵極和襯底的輸入電壓由單個(gè)MOSFET的漏極和源極電壓控制,可獲得良好的功率處理能力和高線性度[6]。
2.1 幅度和相位補(bǔ)償
圖2是Pi型衰減器的拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)及其等效電路。從圖2(a)可以看出,MOSFET是數(shù)字步進(jìn)衰減器的關(guān)鍵元件。為簡(jiǎn)化分析,開(kāi)關(guān)模型可以由如圖2(b)和圖2(c)所示的導(dǎo)通電阻Ron和截止電容Coff近似,該模型忽略了體寄生電容和串聯(lián)寄生電感。從圖2(c)可以看出,輸入信號(hào)可以直接通過(guò)Coff輸出,這可能導(dǎo)致衰減不夠。為了增大高頻下的衰減,增加了與電阻Rp并聯(lián)的電容Cp,當(dāng)頻率增加時(shí),并聯(lián)阻抗變小,從而補(bǔ)償衰減值。
圖2 Pi型衰減器的拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)及其等效電路
從圖2可以看出,截止?fàn)顟B(tài)的傳輸函數(shù)為高通特性,導(dǎo)致衰減態(tài)的相位比參考相位超前。為了壓縮該相,并聯(lián)了一個(gè)低通特性電路。因此,電路中增加了改變相位的電感Ls和電容Cp[7]。原理圖和等效電路如圖3所示。
圖3 壓縮相位的Pi型電路原理圖及等效電路
通過(guò)選擇合適的Ls和Cp,衰減態(tài)的傳輸相位可以近似于期望頻率處的非衰減相位。在低衰減狀態(tài)下,由于相位偏差較小,所以不需要補(bǔ)償電感。并聯(lián)的電容Cp和電阻Rp可以形成低通濾波器,并實(shí)現(xiàn)相位補(bǔ)償。為了避免并聯(lián)網(wǎng)絡(luò)影響衰減程度,將電阻Rc與電感Ls串聯(lián)。圖4為常規(guī)結(jié)構(gòu)和補(bǔ)償結(jié)構(gòu)的8 dB衰減器的相位特性。
圖4 常規(guī)結(jié)構(gòu)和補(bǔ)償結(jié)構(gòu)的衰減器相位特性
2.2 高線性度設(shè)計(jì)
從T型和Pi型這兩種基本類(lèi)型的衰減器可以看出,數(shù)字衰減器由MOSFET和電阻組成。CMOS數(shù)字衰減器的非線性響應(yīng)(如輸入壓縮點(diǎn))主要是由于阻抗變化導(dǎo)致的[8,9]。通常,電阻的線性度非常好,非線性度主要來(lái)自有源器件,即MOSFET。在衰減器中,開(kāi)關(guān)是工作在三極管區(qū)的單個(gè)NMOS晶體管,其導(dǎo)通電阻可以由下式給出:
其中Kn由工藝決定,Vgs是柵極和源極之間的電壓。Vth是MOSFET的閾值電壓,θ是和一階源串聯(lián)電阻、垂直電場(chǎng)引起的遷移率退化和短溝道器件中橫向電場(chǎng)引起的速率飽和等效應(yīng)相關(guān)的系數(shù)。Vth0是當(dāng)Vbs=0時(shí)的閾值電壓,γ是體閾值參數(shù),φf(shuō)是體費(fèi)米電勢(shì),Vbs是體和源之間的電壓。
從公式(1)和(2)可以看出,導(dǎo)通電阻是MOSFET的Vgs和Vbs的函數(shù)。較小的電壓擺動(dòng)導(dǎo)致小的阻抗變化。當(dāng)輸入信號(hào)非常大時(shí),Vgs和Vbs變化很大,會(huì)導(dǎo)致巨大的非線性度。為了獲取固定阻抗,希望Vgs和Vbs不隨輸入信號(hào)變化而變化。常規(guī)的RF MOSFET開(kāi)關(guān)如圖5(a)所示。
圖5 MOSFET開(kāi)關(guān)
從圖5(a)可以看出,柵極電壓由于寄生電容Cgs和高值電阻Rg而隨源極電壓Vin變化,這僅實(shí)現(xiàn)了Vgs保持近似恒定。當(dāng)輸入信號(hào)Vin改變時(shí),電壓Vbs仍然會(huì)隨之變化。因而采用了如圖5(b)所示的浮動(dòng)襯底技術(shù),MOSFET的襯底不是直接接地,而是通過(guò)高值電阻Rb接地。與柵極類(lèi)似,當(dāng)Vin改變時(shí),由于寄生電容Cbs和電阻Rb,襯底電壓隨之改變,從而維持Vgs和Vbs幾乎不變。要實(shí)現(xiàn)浮動(dòng)的NMOSFET襯底,需要采用深阱工藝以隔離各個(gè)晶體管。通常,電阻Rg和Rb越大越好,但是大的Rg將會(huì)降低開(kāi)關(guān)速度。因此,Rb的阻值可以非常大,甚至可以將晶體管襯底網(wǎng)絡(luò)開(kāi)路。圖6是相同尺寸下的兩種拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)MOSFET開(kāi)關(guān)的仿真結(jié)果??梢钥闯?,浮體開(kāi)關(guān)的輸入1 dB壓縮點(diǎn)(P1dB)比常規(guī)開(kāi)關(guān)高6 dB。
圖6 4 dB的Pi型衰減器的P1dB
2.3 版圖設(shè)計(jì)
基于IBM的8HP 0.13 μm BiCMOS工藝設(shè)計(jì)了圖1所提出的6位衰減器。衰減器的版圖如圖7所示,包括所有焊盤(pán)和旁路電容在內(nèi)的芯片面積為400 μm× 1400 μm。
為了獲得低幅度步進(jìn)誤差,必須實(shí)現(xiàn)阻抗匹配。多晶硅電阻的絕對(duì)精度非常差。此外,各級(jí)衰減器的參考地被隔離開(kāi),每級(jí)衰減器的參考地通過(guò)TSV直接接地。TSV的電感非常小,僅為約50 pH,小的寄生電感有利于提高高頻特性。
圖7 衰減器版圖
圖8(a)和(b)分別顯示了在7~13 GHz范圍內(nèi)的輸入和輸出匹配性能的仿真結(jié)果。在此頻段內(nèi),S11和S22都低于-20 dB。良好的端口回波損耗可以避免連接到其他設(shè)備時(shí)由于端口阻抗引起的衰減步徑誤差?lèi)夯?/p>
圖8 7~13 GHz范圍內(nèi)輸入和輸出匹配性能仿真結(jié)果
圖9不同增益模式下的衰減器損耗
圖9 顯示了在不同增益模式下衰減器的損耗。從圖9可以看出,10 GHz時(shí)插入損耗約為6.67 dB。圖10顯示了不同衰減等級(jí)下的插入相移,在X波段內(nèi)插入相移低至-1°~0.5°。衰減器的幅度和相位的均方根誤差參見(jiàn)圖11。圖12展示了衰減器的線性度,10 GHz下非衰減的1 dB壓縮點(diǎn)的輸入功率約為15.5 dBm。
圖10 不同衰減等級(jí)下的插入相移
圖11 衰減器的幅度和相位RMS誤差
圖12 輸入1 dB壓縮點(diǎn)
表1是本文和國(guó)內(nèi)外數(shù)控GaAs衰減芯片的性能對(duì)比。從表1中可以看出,本文中設(shè)計(jì)的衰減器的附加相移顯著低于其他GaAs衰減器,并且回波損耗低,端口匹配好,其他性能也可以與各類(lèi)GaAs衰減器相媲美。
本文提出了一種具有高線性度和低附加相移的6位數(shù)控衰減器。該衰減器基于IBM 0.13 μm BiCMOS工藝,其最大衰減量為31.5 dB,步進(jìn)0.5 dB,插入損耗<6.67 dB,回波損耗<-20 dB,10 GHz下輸入l dB壓縮點(diǎn)值為15.5 dBm,附加相移低至-1°~0.5°。仿真結(jié)果表明該衰減器性能可與現(xiàn)有各類(lèi)GaAs衰減器相媲美。
表1 本論文中的設(shè)計(jì)與其他GaAs衰減器的性能對(duì)比
參考文獻(xiàn):