李婷 劉曙 蔡婧 林苗

摘 要 采用表面印跡技術(shù)，以Cr（Ⅲ）為模板離子，2（2-吡啶）甲醇為功能單體，3-碘丙基三乙氧基硅烷為交聯(lián)劑，介孔硅材料MCM-41為固相載體，設(shè)計(jì)并合成了含氮雙齒配體修飾的鉻離子印跡介孔二氧化硅材料（Cr（Ⅲ）-IIPs）。采用紅外光譜、固態(tài)核磁共振、小角X射線衍射、掃描電鏡、透射電鏡和氮?dú)馕?脫附（BET）實(shí)驗(yàn)對(duì)此印跡材料的結(jié)構(gòu)和形貌進(jìn)行了表征。BET測(cè)試結(jié)果表明，Cr（Ⅲ）-IIPs的比表面積（625.3 m2/g）大于Cr（Ⅲ）-NIPs（527.1 m2/g）。溫度為25℃，pH=5，吸附時(shí)間為30 min時(shí)，此印跡材料對(duì)Cr3+離子的吸附達(dá)到平衡，吸附容量為151.2 mg/g。等溫吸附模型和吸附動(dòng)力學(xué)研究表明，吸附等溫模型符合Langmuir模型，相關(guān)系數(shù)為0.9929；吸附動(dòng)力學(xué)符合Pseudo-second-order模型，相關(guān)系數(shù)為0.9806。Cr（Ⅲ）-IIPs對(duì)Cr3+/CrO24、 Cr3+/Cu2+、Cr3+/Cd2+、Cr3+/Hg2+、Cr3+/Co2+、Cr3+/Ni2+的相對(duì)選擇性系數(shù)分別為5.13、1.21、1.97、1.71、1.27和4.00， 對(duì)Cr3+具有較強(qiáng)的選擇性。Cr（Ⅲ）-IIPs 經(jīng)10次再生后，吸附量為初始量的90.7%， 再生循環(huán)效果較好。

關(guān)鍵詞 Cr（Ⅲ）； 印跡材料； 介孔二氧化硅； 吸附性能

1 引 言

自然界中鉻的主要存在價(jià)態(tài)為Cr（Ⅲ）和Cr，微量Cr（Ⅲ）對(duì)調(diào)節(jié)人體正常糖代謝、脂質(zhì)代謝具有重要作用，但Cr的毒性約為Cr（Ⅲ）的100倍，具有致癌作用[1]。我國(guó)國(guó)標(biāo)GB 21900-2008[2]、GB 3838-2002[3]及Leather Standard by OEKO-TEX[4]等國(guó)內(nèi)外相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)均規(guī)定了Cr鉻相應(yīng)的限量水平，因此，快速、準(zhǔn)確測(cè)定水中的Cr具有重要意義[5]。目前，各種原子光譜技術(shù)，如原子吸收光譜（AAS）、電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜（ICP-AES）、電感耦合等離子體質(zhì)譜（ICP-MS）被用于總鉻含量的測(cè)定[6]，Cr（Ⅲ）和Cr的形態(tài)分析需借助于離子色譜[7]或固相萃取的分離[8]。Cr（Ⅲ）和Cr選擇性吸附材料的設(shè)計(jì)和開發(fā)，是Cr（Ⅲ）和Cr形態(tài)分析領(lǐng)域面臨的重要挑戰(zhàn)。

活性炭[9]、沸石[10]、改性樹脂[11]等傳統(tǒng)吸附劑在重金屬吸附分離領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用，但普遍存在選擇吸附能力性不強(qiáng)等缺點(diǎn)。二氧化硅材料作為吸附劑近年來引起廣泛關(guān)注，具有比表面積大、有序度高、穩(wěn)定性好、可循環(huán)使用的優(yōu)點(diǎn)，其表面硅羥基可進(jìn)行離子印跡點(diǎn)位功能修飾，可通過調(diào)控功能單體，提高識(shí)別點(diǎn)位與目標(biāo)離子之間的傳質(zhì)作用，實(shí)現(xiàn)對(duì)目標(biāo)離子的選擇性吸附分離[12，13]，在復(fù)雜基質(zhì)超痕量元素檢測(cè)、元素形態(tài)分析等領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景[14～16]。目前，已成功制備了凹凸棒石為載體的偶氮二甲酰胺印跡Cr（Ⅲ）吸附材料[17]、以硅膠顆粒為載體的3-（2-氨基乙基氨基）丙基三甲氧基硅烷（AAPTS）印跡Cr（Ⅲ）吸附材料[18]、以SBA-15介孔二氧化硅材料為載體的3-氨基丙基三乙氧基硅烷（APTES）印跡Cr（Ⅲ）吸附材料[19]、以高密度磷酸基團(tuán)功能化的介孔硅材料MCM-41[20]和雙硫腙（DZ）印跡Cr（Ⅲ）吸附材料[21]等，然而吸附能力更強(qiáng)、分離效果更好的Cr（Ⅲ）印跡材料仍是目前研究的熱點(diǎn)。

在本研究組的前期工作中，采用雙吡唑功能單體4-（二（1-氫吡唑））甲基苯酚，通過3-碘丙基三乙氧基硅烷表面接枝SBA-15材料，實(shí)現(xiàn)了對(duì)Cr（Ⅲ） 和Cr的吸附分離，該材料的吸附容量為72.5 mg/g[22]。通過比對(duì)不同種類介孔二氧化硅材料對(duì)Pb（Ⅱ）吸附性能，發(fā)現(xiàn)在吸附容量及選擇性上MCM-41相比SBA-15、FDU-12更具有優(yōu)勢(shì)[23]?；诖?，本研究設(shè)計(jì)了分子尺寸更小、空間利用率更高的新型雙齒含氮配體2（2-吡啶）甲醇，通過3-碘丙基三乙氧基硅烷偶聯(lián)劑接枝MCM-41介孔二氧化硅材料，成功制備了雙吡啶功能化Cr（Ⅲ）離子印跡介孔二氧化硅材料（Cr（Ⅲ）-IIPs），對(duì)產(chǎn)物進(jìn)行了形態(tài)和結(jié)構(gòu)表征，研究了此材料與非印跡材料的吸附性能，包括pH值的影響、飽和吸附量、吸附動(dòng)力學(xué)、吸附選擇性、循環(huán)使用性能等，為Cr（Ⅲ） 和Cr的形態(tài)分析提供了參考。

2 實(shí)驗(yàn)部分

2.1 儀器與試劑

iCAP 6000 SERIES型電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜儀（鉻元素測(cè)定波長(zhǎng)為 267.7 nm）、FEI TF20型透射電鏡、FEI TF20型X射線能譜儀（賽默飛世爾科技有限公司）；AVATAR-360型傅里葉變換紅外光譜儀（美國(guó)尼高力儀器公司）；S4800型掃描電鏡（日本日立公司）； TriStar II 3020型比表面與孔隙度分析儀（美國(guó)麥克儀器公司）；梅特勒-托利多儀器有限公司；FE20-Plus型pH計(jì)（梅特勒-托利多儀器有限公司）。實(shí)驗(yàn)中所用玻璃儀器均經(jīng)10%HNO3浸泡24 h，并經(jīng)超純水沖洗烘干后備用。

2（2-吡啶）酮（阿拉丁試劑（上海）有限公司）；有序介孔二氧化硅材料MCM-41（南京先豐納米材料科技有限公司）；3-碘丙基三乙氧基硅烷偶聯(lián)劑（曲阜晨光化工有限公司）；CrCl3·6H2O、甲醇、硫脲、濃HNO3（分析純，國(guó)藥集團(tuán)化學(xué)試劑有限公司）。濃度均為1000 μg/L的Cr（Ⅲ）、Cr、Cu、Cd、Hg、Co、Ni的單元素標(biāo)準(zhǔn)溶液（介質(zhì)均為1.0 mol/L HNO3），購(gòu)于國(guó)家有色金屬及電子材料測(cè)試中心。實(shí)驗(yàn)用水均為超純水。

2.2 Cr（Ⅲ）印跡介孔二氧化硅材料（Cr（Ⅲ）-IIPs）的制備

2.2.1 MCM-41活化和2（2-吡啶）甲醇的合成 稱取適量介孔二氧化硅材料MCM-41， 于80℃下真空干燥12 h，除去MCM-41表面的吸附水，活化其表面羥基[24]。2（2-吡啶）甲醇的合成：稱取適量2（2-吡啶）酮（0.921 g）和NaBH4（0.190 g）溶于30 mL甲醇中，0℃下攪拌1.5 h后，減壓蒸餾，將所得產(chǎn)物溶于50 mL 1 mol/L HCl中，加入NaHCO3調(diào)節(jié)至pH 8，用乙酸乙酯萃取3次，得到還原后的2（2-吡啶）甲醇（產(chǎn)率為99%）[25，26]。

2.2.2 Cr（Ⅲ）-IIPs的制備 稱取2（2-吡啶）甲醇（0.558 g， 3 mmol）和CrCl3·6H2O（0.264 g， 1 mmol）、NaH （60%， 0.240 g， 6 mmol， 2.0 equiv ），溶于80 mL四氫呋喃中，65℃下攪拌回流2 h后，逐滴加入3-碘丙基三乙氧基硅烷 （1.038 g， 3 mmol），所得混合物在65℃下加熱回流10 h后，得到紅色溶液，該反應(yīng)液在氮?dú)獗Ｗo(hù)下過濾到活化好的介孔材料MCM-41中（2.91 g），常溫?cái)嚢?0 min，減壓移除四氫呋喃溶液，真空干燥得到固體，加入100 mL重蒸甲苯，110℃下回流攪拌48 h后，在真空下抽干溶劑，所得固體用二氯甲烷反復(fù)洗滌，干燥后研磨過篩，制得含Cr（Ⅲ）配位、2（2-吡啶）甲醇修飾的介孔MCM-41材料。用3 mol/L HCl將此材料的Cr（Ⅲ）洗脫，用超純水洗至中性，60℃下真空干燥12 h，得到Cr（Ⅲ）-IIPs。 非印跡介孔二氧化硅材料（NIP）的制備除不添加六水合三氯化鉻外，其余步驟與印跡材料相同。

2.3 吸附實(shí)驗(yàn)

2.3.1 pH對(duì)材料吸附Cr（Ⅲ）、Cr的影響 將5 mg Cr 印跡材料（Cr（Ⅲ）-IIPs）及5 mg非印跡材料NIP分別加入到50 mL相同規(guī)格的離心管中，分別加入20 mL含5 mg/L的Cr（Ⅲ）、Cr的水溶液，將上述溶液各配制7份，用 1 mol/L HNO3和NaOH調(diào)節(jié)pH值在2.0～8.0之間。將混合溶液在25℃下水浴振蕩30 min， 4000 r/min離心3 min，取上清液，用0.45 μm濾膜過濾后，用ICP-AES測(cè)定得到的上清液中Cr（Ⅲ）、Cr的濃度，不同pH下材料吸附性能的影響用吸附率（Adsorption rate， AR（%））衡量。

2.3.2 等溫吸附實(shí)驗(yàn) 準(zhǔn)確稱取5 mg Cr 印跡材料（Cr（Ⅲ）-IIPs）和非印跡（NIP）材料，分別加入到5～60 mg/L的Cr（Ⅲ）溶液（pH=5）中， 25℃下恒溫振蕩30 min，4000 r/min離心3 min，取上清液，用0.45 μm濾膜過濾后，用ICP-AES測(cè)定濾液中Cr（Ⅲ）的濃度。

2.3.3 吸附動(dòng)力學(xué)實(shí)驗(yàn) 取相同規(guī)格的50 mL離心管，加入80 mg/L Cr（Ⅲ）溶液，將已配制好的溶液用1 mol/L HNO3和NaOH調(diào)節(jié)至所需酸度，定容至20 mL，分別加入5 mg Cr（Ⅲ）印跡材料，25℃下恒溫振蕩10、20、30、40、50和60 min， 4000 r/min離心3min，取上清液，用0.45 μm濾膜過濾后，采用ICP-AES測(cè)定濾液中Cr（Ⅲ）的含量。

2.3.4 選擇性研究 為了研究Cr（Ⅲ）印跡材料對(duì)Cr（Ⅲ）的吸附選擇性，選取CrO24、Cu2+、Cd2+、Co2+、Ni2+作為競(jìng)爭(zhēng)離子（X）。準(zhǔn)確稱取5 mg的Cr（Ⅲ）印跡或非印跡介孔二氧化硅材料，加入到20 mL、濃度均為10 mg/L的Cr3+/X二元混合溶液（pH=5）中，25℃下水浴振蕩30 min ，離心，上清液用0.45 μm濾膜過濾，用ICP-AES分別測(cè)定濾液中Cr3+/X離子濃度。

3 結(jié)果與討論

3.1 Cr（Ⅲ）-IIPs的制備

Cr（Ⅲ）印跡材料的制備過程如圖1所示，2（2-吡啶）甲醇與CrCl3·6H2O反應(yīng)，生成2（2-吡啶）甲醇與Cr（Ⅲ）的配合物，經(jīng)3-碘丙基三乙氧基硅烷3-碘丙基三乙氧基硅烷偶聯(lián)，與MCM-41介孔二氧化硅材料表面的硅羥基反應(yīng)，接枝到MCM-41介孔二氧化硅材料表面，用3 mol/L HCl洗脫模板的Cr3+，在材料的表面留下Cr3+的3D孔穴，材料上的吡啶官能團(tuán)能有效地吸附Cr3+，從而達(dá)到特異性吸附的目的。

3.2 材料的表征

圖2為MCM-41（a）、NIP（b）、Cr（Ⅲ）-IIPs（c）及未洗脫Cr3+的Cr（Ⅲ）-IIPs（d）的紅外光圖譜，其中3423 和1636 cm1是MCM-41介孔材料表面Si-OH的伸縮和彎曲振動(dòng)峰，1089 cm1是Si-O-Si鍵的反對(duì)稱伸縮振動(dòng)峰，807和463 cm1 分別是Si-O鍵的對(duì)稱伸縮和彎曲振動(dòng)峰，這些是MCM-41的典型特征峰[27]。由圖2可知，NIP（b）、Cr（Ⅲ）-IIPs（c）及未洗脫Cr3+的Cr（Ⅲ）-IIPs（d）的紅外光譜圖相似，2940 cm1處是硅烷偶聯(lián)劑上C-H鍵的伸縮振動(dòng)峰，1599、1573、1481和1440 cm1可歸屬于含氮雙齒配體2（2-吡啶）甲醇上吡啶環(huán)呼吸振動(dòng)峰[28]，說明2（2-吡啶）甲醇已通過硅烷偶聯(lián)劑成功接枝到MCM-41介孔材料表面。

由圖3的電鏡圖可見，NIP及Cr（Ⅲ）-IIPs在合成過程中六方孔道未發(fā)生坍塌，均很好地保持MCM-41有序介孔孔道特征[29]。

圖4顯示了MCM-41、NIP及Cr（Ⅲ）-IIPs的氮?dú)馕?脫附等溫線（圖4A）和孔隙大小分布圖（圖4B），非印跡材料和印跡材料對(duì)比MCM-41也顯示出IV型吸附等溫線，且在相對(duì)壓強(qiáng)P/P0=0.2～0.4時(shí)，由于孔內(nèi)毛細(xì)管凝聚現(xiàn)象，出現(xiàn)等溫線突躍。在相對(duì)壓強(qiáng)P/P0=0.2～0.8范圍內(nèi)出現(xiàn)H1型滯后環(huán)，表明合成的印跡和非印跡材料具有介孔孔道結(jié)構(gòu)[30]。孔隙大小分布圖（圖4B）只有一個(gè)單峰，表明合成的印跡和非印跡材料具有均勻的孔徑。氮?dú)馕?脫附測(cè)試結(jié)果表明，MCM-41、NIP及Cr（Ⅲ）-IIPs的比表面積分別為841.7、527.1和625.3 m2/g。

MCM-41、NIP及Cr（Ⅲ）-IIPs小角X射線衍射圖譜如圖5所示。Cr（Ⅲ）-IIPs和NIP在2θ=2°附近都存在較強(qiáng)的衍射峰，對(duì)應(yīng)材料的（100）晶面，這是MCM-41型介孔材料特有的布拉格衍射峰，具有良好的有序度[29]。但相比于印跡材料，非印跡材料的衍射峰強(qiáng)度明顯減弱，表明Cr（Ⅲ）-IIPs有序度高于NIP。

3.3 吸附性能研究

3.3.1 pH值對(duì)Cr（Ⅲ）、Cr吸附率的影響 在水溶液中， pH值不僅影響鉻離子的存在狀態(tài)，也會(huì)對(duì)吸附過程產(chǎn)生一定的影響[31，32]。吸附率用公式（1）計(jì)算：

Cr吸附率的影響。如圖6所示，在pH=2～5時(shí)，隨pH值增大， 添加了吸附劑的印跡材料對(duì)Cr（Ⅲ）溶液的吸附率逐漸上升；在pH=5時(shí)，印跡材料對(duì)Cr（Ⅲ）的去除率為86%，非印跡材料對(duì)Cr（Ⅲ）的去除率為80%。當(dāng)pH=6時(shí)，Cr（Ⅲ）的去除率達(dá)到83%，這是由于25℃時(shí)根據(jù)金屬氫氧化物的溶度積計(jì)算，20和5 mg/L的Cr（Ⅲ）在pH>5.7時(shí)會(huì)產(chǎn)生Cr（OH）3沉淀，從而抑制Cr（Ⅲ）與配體的絡(luò)合，在酸性條件下吡啶上的氮原子容易質(zhì)子化，從而影響其對(duì)Cr（Ⅲ）的吸附。對(duì)于添加吸附劑的Cr溶液，在pH=2～8時(shí)，Cr的吸附率約為8%，表明配體對(duì)Cr基本沒有產(chǎn)生化學(xué)作用，主要是介孔材料對(duì)離子的物理吸附。所以在pH=5時(shí)材料對(duì)Cr3+離子能進(jìn)行選擇性吸附，有利于Cr（Ⅲ）和Cr的選擇性分離。

3.3.2 吸附等溫線和飽和吸附量 吸附材料對(duì)Cr（Ⅲ）的吸附量qe的計(jì)算公式如下：

Co和Ce分別是溶液中Cr（Ⅲ）的初始濃度和平衡濃度（mg/L）；m是鉻印跡（Cr（Ⅲ）-IIPs）、非印跡（NIP）材料的質(zhì)量，g；V是Cr（Ⅲ）溶液的體積（L）。圖7為Cr（Ⅲ）-IIPs 和 NIP的吸附等溫線，隨著初始濃度的增大，Cr（Ⅲ）-IIPs 和 NIP的吸附量逐漸增加，Cr（Ⅲ）-IIPs在Cr 濃度大于40 mg/L時(shí)，吸附量達(dá)到飽和，為151.2 mg/g。NIP在Cr 濃度大于35 mg/L時(shí)，吸附量達(dá)到飽和，為108.3 mg/g。能譜分析表明，Cr（Ⅲ）-IIPs、NIP氮含量分別為6.3%和4.2%，兩者物質(zhì)的量比值為1.5，與兩種材料飽和吸附量比值（1.4）基本一致，表明材料吸附量主要由功能單體負(fù)載量決定。Cr（Ⅲ）-IIPs的吸附量與文獻(xiàn)報(bào)道的鉻印跡材料吸附量對(duì)比如表1所示。

由表2吸附等溫模型擬合參數(shù)可知，Langmuir吸附等溫模型的擬合相關(guān)系數(shù)（R2=0.9929）大于Freundlich吸附等溫模型，且更接近1，所以Langmuir吸附等溫模型能更好地模擬Cr（Ⅲ）印跡材料對(duì)Cr（Ⅲ）的吸附。且Langmuir吸附等溫模型計(jì)算的最大吸附量qm為163.9 mg/g，與測(cè)得值（151.2 mg/g）相近，表明此吸附過程發(fā)生在吸附劑表面且為單分子層吸附[33～35]。

3.3.3 吸附動(dòng)力學(xué)研究 吸附時(shí)間對(duì)吸附性能的影響結(jié)果如圖8所示。在25℃，pH=5，Cr 初始濃度為80 mg/L的條件下，吸附約在30 min達(dá)到平衡。

為了進(jìn)一步闡述吸附動(dòng)力學(xué)，采用動(dòng)力學(xué)模型來分析印跡材料的吸附動(dòng)力學(xué)過程，分別采用準(zhǔn)一級(jí)動(dòng)力學(xué)模型（式（5））和準(zhǔn)二級(jí)動(dòng)力學(xué)模型（式（6））對(duì)吸附速率的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)進(jìn)行擬合[36～39]，擬合參數(shù)列于表4中。

1）分別是一級(jí)動(dòng)力學(xué)和二級(jí)動(dòng)力學(xué)的速率常數(shù)。

由表3的動(dòng)力學(xué)模型擬合參數(shù)可知，對(duì)于Cr（Ⅲ）-IIPs，準(zhǔn)二級(jí)動(dòng)力學(xué)模型更為符合，其擬合相關(guān)系數(shù)（R2）為0.9806，更接近1。表明其吸附過程主要為化學(xué)吸附[36～39]，主要是2（2-吡啶）甲醇功能單體與Cr（Ⅲ）的印跡螯和吸附。

3.3.4 選擇性吸附實(shí)驗(yàn)

選擇了與Cr 性質(zhì)相近的CrO24、Cu2+、Cd2+、Co2+、Ni2+作為競(jìng)爭(zhēng)離子（X）進(jìn)行選擇性吸附實(shí)驗(yàn)。分配系數(shù)Kd（mL/g），選擇性系數(shù)k，相對(duì)選擇性系數(shù)k′分別用下列公式計(jì)算：

其中， Co和Ce分別為Cr（Ⅲ）在溶液中的初始濃度和平衡濃度（mg/L）； m是印跡介孔吸附材料和非印跡介孔吸附材料的質(zhì)量（g）； V是溶液的體積（L）； k是選擇性系數(shù)， Kd（Cr）和Kd（X）分別是Cr 和競(jìng)爭(zhēng)離子（X）的分配系數(shù)；k′是相對(duì)選擇性系數(shù)kIIP和kNIP分別是印跡介孔吸附材料與非印跡介孔吸附材料的選擇性系數(shù)。選擇性實(shí)驗(yàn)結(jié)果見表4，Cr（Ⅲ）-IIPs對(duì)Cr（Ⅲ）的分配系數(shù)均高于NIP，Cr3+/CrO24、Cr3+/Cu2+、 Cr3+/Cd2+ 、Cr3+/Hg2+ 、Cr3+/Co2+ 、Cr3+/Ni2+的相對(duì)選擇性系數(shù)分別為5.13、1.21、1.97、1.71、1.27和4.00，表明Cr（Ⅲ）-IIPs對(duì)Cr（Ⅲ）的吸附選擇性明顯高于NIP。

3.4 循環(huán)使用性能

循環(huán)使用性能是評(píng)價(jià)吸附材料能否得以應(yīng)用的重要標(biāo)準(zhǔn)。分別用HNO3、HCl和硫脲配制一系列的洗脫液，根據(jù)回收率的大小，選擇最佳的洗脫液。對(duì)已經(jīng)吸附Cr 達(dá)飽和的鉻印跡吸附材料，選用不同體積不同濃度的HNO3、HCl，或兩種酸與硫脲的混合液洗脫Cr（Ⅲ）。 結(jié)果表明， 20 mL 3 mol/L HCl可以定量洗脫吸附的Cr（Ⅲ），Cr 的回收率可達(dá)97.7%。 隨著吸附-脫附次數(shù)的增加，吸附量有所下降，但10個(gè)吸附-脫附循環(huán)后吸附量仍保持在初始的90.7%，表明Cr（Ⅲ）-IIPs具有良好的可循環(huán)性能。

4 結(jié) 論

以Cr（Ⅲ）為模板離子，2（2-吡啶）甲醇作為功能單體，介孔硅材料MCM-41作為固相載體，合成了含氮雙齒配體修飾的鉻印跡介孔硅材料（Cr（Ⅲ）-IIPs）。通過ICP-AES研究了Cr（Ⅲ）-IIPs對(duì)水中Cr3+的吸附性能。 溫度為25℃、 pH=5、 吸附時(shí)間為30 min時(shí)，Cr（Ⅲ）-IIPs對(duì)Cr（Ⅲ）的吸附達(dá)到平衡，吸附容量為151.2 mg/g，約為NIP吸附容量的1.4倍。吸附動(dòng)力學(xué)符合準(zhǔn)二級(jí)動(dòng)力學(xué)模型，吸附等溫模型符合Langmuir模型。Cr（Ⅲ）-IIPs對(duì)Cr（Ⅲ）具有較強(qiáng)的選擇性識(shí)別能力，循環(huán)使用性能良好，可為Cr（Ⅲ）和Cr的選擇性分離提供理論依據(jù)。

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