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      基于IPD工藝的無反射低通濾波器設(shè)計*

      2018-07-26 02:19:42王浩洋邢孟江李小珍楊曉東
      通信技術(shù) 2018年7期
      關(guān)鍵詞:阻帶低通濾波器等效電路

      王浩洋,邢孟江,李小珍,張 磊,楊曉東

      (1.昆明理工大學(xué) 信息工程與自動化學(xué)院,云南 昆明 650504;2.昆明學(xué)院 信息技術(shù)學(xué)院,云南 昆明 650214)

      0 引 言

      濾波器在電子系統(tǒng)中普遍存在,其理論研究和實用設(shè)計已經(jīng)持續(xù)了一個世紀(jì)。在今天,實用性濾波器的設(shè)計和實現(xiàn)依然是電子通信領(lǐng)域最活躍的研究領(lǐng)域[1]。傳統(tǒng)濾波器通過將阻帶信號反射回源端達(dá)到濾波效果。這種抑制不需要信號的方式,有時可能由于非線性器件中的雜散混合、敏感有源組件的無意重新偏置或各種信號路徑之間的串?dāng)_,而導(dǎo)致與系統(tǒng)中其他組件的有害交互[2]。一直以來,設(shè)計人員針對減小反射提出了一些措施。比如,在敏感器件前后插入衰減器或隔離放大器,但會降低整個系統(tǒng)的信噪比和動態(tài)范圍;利用雙工器一個端口實現(xiàn)對阻帶反射信號的吸收,但這對設(shè)計電路有較大的空間需求,且仍然會因為一些反射信號造成阻抗失配;使用差分式濾波器緩解阻帶反射信號的影響,使得濾波器的帶寬受制于電橋的帶寬,使之不適合寬帶應(yīng)用[3];通過卓越的阻抗匹配減小反射,需要很大數(shù)量的元件,即使一階濾波器也需要很多元件[4]。

      這些改善方法效果不明顯,還會帶來其他弊端。因此,設(shè)計者開始從拓?fù)浣嵌汝P(guān)注無反射濾波器的研究。2011年,美國國家射電天文臺Matthew A. Morgan等提出了新型的無反射濾波器拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)和設(shè)計方法。為驗證理論,用分立元件設(shè)計測試了325 MHz的無反射低通濾波器和中心頻率210 MHz帶寬200 MHz的無反射帶通濾波器[1]。2014年,電子科技大學(xué)秦巍巍等提出了采用微帶線結(jié)構(gòu)實現(xiàn)的一種新型吸收式帶通濾波器。該濾波器通帶內(nèi)插入損耗小于3 dB,通帶電壓駐波比小于2,帶外駐波比在很大頻率范圍內(nèi)小于3.5[5]。同年,上海交通大學(xué)張程等利用耦合相消原理設(shè)計了一種調(diào)頻頻率為5.17~5.56 GHz的無反射可調(diào)帶阻濾波器。該濾波器在通帶內(nèi)插損值約為0.44 dB,在阻帶抑制大于15dB 的基礎(chǔ)上,回波損耗保持在10 dB以上[6]。2016年,韓國的Tae-Hak Lee等人提出了一階無反射集總元件低通和帶通濾波器的設(shè)計方法,并采用集總式表面貼裝器件(SMD)的方式,設(shè)計加工了中心頻率為95 MHz、3 dB帶寬、30 MHz的無反射帶通濾波器[4]。

      無反射濾波器從分立元件到集總元件的發(fā)展過程,說明了無反射濾波器小型化的必然趨勢。它在追求更小器件體積的同時,實現(xiàn)了更小的阻帶信號反射。薄膜集成無源器件(Thin Film-Integrated Passive Device,TF-IPD)工藝具有高精度、小尺寸、高可靠性及與半導(dǎo)體工藝相兼容等優(yōu)點。使用靈活的材料和工藝流程,降低了雜散電感和雜散電容的影響,提高了無源器件的性能,適合于高頻應(yīng)用。IPD工藝與新型無反射濾波器拓?fù)浣Y(jié)合設(shè)計制作無反射低通濾波器,能在減小器件尺寸的同時實現(xiàn)更好的無反射效果。

      本文基于IPD工藝和新型電路結(jié)構(gòu)設(shè)計了一款無反射低通濾波器,其3 dB截止頻率為1.25 GHz,帶外抑制在1.25~8 GHz之間大于20 dB,帶內(nèi)回波損耗大于28 dB,帶外回波損耗在1.25~7.5 GHz之間大于27 dB。器件尺寸僅為1 mm×1 mm×0.3 mm,在許多不同應(yīng)用中優(yōu)勢明顯。

      1 IPD工藝

      本文所設(shè)計無反射低通濾波器采用硅基薄膜集成無源器件工藝[7-9]。襯底采用的高阻硅具有價格低、熱導(dǎo)率良好與IC制作工藝兼容等優(yōu)點。電容采用MIM薄膜電容,利用金屬作為電極,降低了電阻值,提高了元件共振頻率,適用于高頻應(yīng)用。所用電容均為平行板電容器,兩極板之間填充高介電材料提高電容量。電感采用平面螺旋電感,通過硅平面刻蝕技術(shù)實現(xiàn),主要設(shè)計考慮如何降低其寄生電容和提高品質(zhì)因子(Q)??紤]到降低其直流阻抗可以提高Q值,所以電感導(dǎo)線的膜厚設(shè)置為10 μm。電阻由NiCr合金組成,采用磁控濺射共沉積方法獲得精準(zhǔn)電阻。

      圖1所用IPD工藝疊層圖,給出了每一層的材質(zhì)和厚度。其中,R為NiCr高精度薄膜電阻;M1為1 μm的Cu層,用于互聯(lián)和MIM電容的下極板;M2為0.65 μm的Cu層,作為電容上極板;M3為10 μm的Cu層,用于實現(xiàn)電感和互聯(lián);M1和M2之間的D1層為0.2 μm的SiNx,作為MIM電容的電介質(zhì)層;D2和D3都是低k電介質(zhì)層,用于絕緣隔離。

      圖1 硅基IPD工藝疊層圖

      2 理論推導(dǎo)與電路設(shè)計

      2.1 理論推導(dǎo)

      為設(shè)計無反射低通濾波器,從一個結(jié)構(gòu)對稱的二端口網(wǎng)絡(luò)開始。對稱平面將其分成完全對稱的兩部分。當(dāng)施加偶模信號時,因為兩端口的信號同相且相等,所以對稱平面上沒有電流通過,通過對稱平面的線相當(dāng)于斷路。此時,這個半電路為偶模等效電路,反射系數(shù)為Γeven。當(dāng)施加奇模信號時,因為兩端口的信號相等且反相,所以通過對稱平面對地電壓為零,通過對稱平面的節(jié)點相當(dāng)于對地虛短。此時,這個半電路為奇模等效電路,反射系數(shù)為Γodd。

      根據(jù)線性網(wǎng)絡(luò)的疊加性,得到:

      從而得到:

      為得到無反射濾波器,s11和s22應(yīng)為0,得到:

      由式(5)可知,偶模等效電路中反射的頻率為最終兩端口網(wǎng)絡(luò)傳輸?shù)念l率,說明偶模等效電路和最終全兩端口網(wǎng)絡(luò)的阻帶和通帶是相反的。以低通濾波器為設(shè)計目標(biāo)時,應(yīng)以高通濾波器作為偶模等效電路。

      得:

      由式(6)可知,要使濾波器無反射,需要偶模等效電路的輸入阻抗和奇模等效電路的輸入導(dǎo)納相等,這被稱作對偶條件。

      2.2 電路設(shè)計

      本文以三階高通濾波器作為設(shè)計起點,如圖2(a)所示。畫出其對偶作為奇模等效電路,依然為高通。此時,并不能看出奇偶模等效電路關(guān)于對稱平面對稱。為了得到對稱網(wǎng)絡(luò),在不改變原網(wǎng)絡(luò)輸入阻抗和頻率響應(yīng)的情況下,對電路進(jìn)行以下變化以恢復(fù)對稱結(jié)構(gòu)[10]。如圖2(b)所示,在偶模一側(cè)交換最后的電容和串聯(lián)的終端電阻的位置;在奇模一側(cè)改變第一個電感和終端電阻的接地連接,由絕對接地變?yōu)樘摂M接地。如圖2(c)所示,在偶模一側(cè)于輸入節(jié)點和對稱平面(是一個開路電路)之間添加一個電感;相似地,在電阻和對稱平面之間添加一個開路連接線;在奇模一側(cè)于對稱平面(虛短)到地之間添加一個電容。經(jīng)過以上變換,得到無反射低通濾波器如圖2(d)所示,然后根據(jù)目標(biāo)指標(biāo)求個元件值。

      根據(jù)文獻(xiàn)[11]可知,以3 dB截止頻率為設(shè)計指標(biāo)的gk如下:

      于是,可以計算特征阻抗為50 Ω,3 dB截止頻率為1.25 GHz的無反射低通濾波器的元件值為:

      圖2 無反射低通濾波器拓?fù)渫茖?dǎo)

      圖3為本文設(shè)計的三階無反射低通濾波器的電路原理圖?;趫D3的電路拓?fù)浜陀嬎愕玫降脑担贏nsoft Designer中建立電路并進(jìn)行仿真優(yōu)化,得到如圖4所示的S參數(shù)仿真結(jié)果。由圖4可知,該濾波器3 dB截止頻率為1.25 GHz,帶外抑制大于15 dB,回波損耗大于20 dB,滿足設(shè)計要求,能良好地實現(xiàn)無反射。

      圖3 無反射低通濾波器原理

      圖4 無反射低通濾波器的Ansoft Designer仿真結(jié)果

      3 無反射低通濾波器的建模與仿真

      當(dāng)?shù)玫皆O(shè)計的無反射低通濾波器Ansoft Designer的仿真優(yōu)化結(jié)果后,本文基于IPD工藝設(shè)計標(biāo)準(zhǔn),在三維電磁場仿真軟件HFSS中建立其三維電磁模型并進(jìn)行仿真。模型采用平面螺旋電感、MIM薄膜電容和NiCr薄膜電阻。襯底厚度300 μm,平面結(jié)構(gòu)如圖 5(a)所示。在1 mm×1 mm的平面結(jié)構(gòu)中,主導(dǎo)器件面積的是螺旋電感,使之均勻分布于四個象限,以減小整體面積。S為信號端,G為接地端,均通過金屬垂直通孔接地。圖5(b)是無反射低通濾波器集成無源器件三維結(jié)構(gòu)圖。用HFSS對模型進(jìn)行仿真,得到插入損耗(S21)和回波損耗(S11)如圖6所示。可知,其3 dB截止頻率為1.25 GHz,帶外抑制在1.25~8 GHz之間大于20 dB,帶內(nèi)回波損耗大于28 dB,帶外回波損耗在1.25~7.5 GHz之間大于27 dB。仿真結(jié)果符合設(shè)計要求,能良好地實現(xiàn)無反射。分析可知,HFSS的仿真結(jié)果與原理圖的Ansoft Designer仿真有偏差,原因在于原理圖仿真中所加寄生電感不能完全表現(xiàn)模型中的寄生效應(yīng)。

      圖5 無反射低通濾波器模型

      圖6 無反射低通濾波器的HFSS仿真結(jié)果

      4 結(jié) 語

      本文基于IPD工藝設(shè)計了一款三階無反射低通濾波器。通過HFSS建模仿真得到該濾波器3 dB截止頻率為1.25 GHz,帶外抑制在1.25~8 GHz之間大于20 dB,帶內(nèi)回波損耗大于28 dB,帶外回波損耗在1.25~7.5 GHz之間大于27 dB。器件尺寸僅為1 mm×1 mm×0.3 mm。這款濾波器體積小、精度高、阻帶信號吸收良好,能有效減少各信號路徑之間的串?dāng)_,在許多對反射信號敏感的電子系統(tǒng)中具有良好的應(yīng)用優(yōu)勢。

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