季美琴,趙 鑫,張英東,岳冬梅,張立群
(北京化工大學 先進彈性體材料研究中心,北京 100029)
反式-1,4-聚異戊二烯(TPI)被稱為人工合成杜仲橡膠,與天然橡膠(NR)主要結構互為同分異構體,低于60 ℃迅速結晶,呈現(xiàn)α晶型和β晶型兩種晶型[1]。相對于NR種類繁多的衍生品,TPI功能化研究卻比較少,目前主要集中在TPI環(huán)氧化[2-5]和氯化改性等領域[6-7]。硅氫化加成反應指在催化劑作用下氫硅烷或硅氧烷(含Si—H鍵)與不飽和化合物進行加成反應以制得含有機硅單體的聚合物[8-10]。以碳原子為主的有機基團與硅元素通過硅-碳鍵的結合同時賦予硅元素和有機化合物新的功能,使得這一新型化合物具備廣泛的工業(yè)應用前景。
本研究首次提出TPI的硅氫化改性,以期拓寬TPI的應用領域。
Φ160×320型兩輥開煉機,廣東湛江橡塑機械廠產品;AV600型液體核磁共振波譜儀、AV300-400MHz型核磁共振波譜儀和Bruker D8型X射線衍射(XRD)儀,德國Bruker公司產品;TGA/DSC1型同步熱分析儀,Mettler Toledo公司產品;CMT4104型微控電子萬能試驗機,深圳市新三思材料檢測有限公司產品。
1.3.1 硅氫化TPI(HsTPI)
將TPI在兩輥開煉機上薄通5次,然后將TPI膠片剪碎溶于甲苯中,制成質量濃度為20 g·L-1的TPI-甲苯溶液,置于三口燒瓶中。取一定量的三苯基膦、催化劑RhCl(PPh3)3和三乙基硅烷,加入三口燒瓶中,利用三通抽排氮氣3次,打開攪拌,在氮氣保護下,按照設定溫度和時間開始反應。
1.3.2 HTPI和HsTPI硫化膠
膠料配方為:HTPI或HsTPI 100,白炭黑70,氧化鋅 5,硬脂酸 2,防老劑4020 2,硫黃2,促進劑CZ 2,促進劑D 1。
HTPI和HsTPI膠料分別按常規(guī)加料順序在兩輥開煉機上混煉,混煉膠放置24 h后硫化,硫化條件為143 ℃/15 MPa×30 min,樣片厚度為2 mm。硫化膠放置24 h后進行性能測試。
核磁共振氫譜(1H-NMR)分析:采用AV600型液體核磁共振波譜儀測試試樣中氫元素的位置,對HsTPI結構進行表征。核磁共振硅譜(Si-NMR)分析:采用AV300-400MHz型核磁共振波譜儀對硅氫化產物中是否含有硅進行表征。差示掃描量熱(DSC)分析:采用TGA/DSC1型同步熱分析儀表征硅氫化產物的玻璃化溫度(Tg)變化和硅氫化前后HsTPI的結晶變化。熱重分析(TGA):采用TGA/DSC1型同步熱分析儀測定試樣的熱降解性能。XRD分析:采用Bruker D8型XRD儀表征硅氫化產物的結晶變化,掃描角度范圍為5°~45°。拉伸性能:采用CMT4104型微控電子萬能試驗機測試,實驗室溫度為(23±2) ℃,拉伸速率為(500±5)mm·min-1,采用厚度為2 mm的啞鈴形試樣,每個試樣重復測試5次。
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2.1.1 反應溫度
反應溫度對硅氫化反應的影響如圖1所示。
圖1 反應溫度對硅氫化反應的影響
在硅氫化反應中,反應溫度對硅氫化反應速率和催化活性及選擇性的影響十分顯著。從圖1可以看出:當反應溫度低于60 ℃時,產物的硅氫化度小于16%,說明反應速度極為緩慢,這是反應溫度沒有達到硅氫化反應活化溫度的緣故;當反應溫度高于60 ℃后,產物的硅氫化度開始上升,說明硅氫化反應開始;待反應溫度達到105 ℃時,產物的硅氫化度為52.7%,繼續(xù)升高溫度至110 ℃時,產物的硅氫化度反而隨著溫度的上升略有下降。綜上所述,在RhCl(PPh3)3催化體系中,TPI的硅氫化反應溫度可控制在105 ℃。
2.1.2 反應時間
反應時間對硅氫化反應的影響如圖2所示。
圖2 反應時間對硅氫化反應的影響
從圖2可以看出:當反應時間為2 h時,產物的硅氫化度低于15%,說明此時體系內反應物之間反應不夠充分;隨著反應時間的延長,在2~12 h內,產物的硅氫化度明顯增大,說明該時間段內反應效率較高,體系內的雙鍵和三乙基硅烷在催化劑作用下得到充分反應;當繼續(xù)延長反應時間,產物的硅氫化度增幅減小。綜合考慮,將反應時間控制在12 h。
2.1.3 催化劑用量
催化劑用量對硅氫化反應的影響如圖3所示。
從圖3可以看出:當催化劑相對TPI質量分數(shù)從0.02增大至0.07時,產物的硅氫化度由23%緩慢增大至52%,說明隨著催化劑濃度增大,反應活性中心變多,有利于TPI中C=C雙鍵的打開,硅氫化度增大;而當催化劑相對TPI質量分數(shù)增大至0.08,產物的硅氫化度沒有明顯變化,進一步增大催化劑濃度,產物的硅氫化度有非常明顯的降低,這可能是由于反應進行到一定程度,加成到TPI中C=C雙鍵上的硅烷基和TPI本身的側鏈產生了非常大的空間位阻,此刻催化劑作用反而減弱。因此催化劑最佳用量可控制在相對TPI質量分數(shù)為0.07。
圖3 催化劑用量對硅氫化反應的影響
2.1.4 三乙基硅烷用量
本研究選取三乙基硅烷作為TPI硅氫化反應的供硅物質,其反應活性較高,有利于硅氫化反應的發(fā)生。三乙基硅烷用量對硅氫化反應的影響如圖4所示。
圖4 三乙基硅烷用量對硅氫化反應的影響
從圖4可以看出:當三乙基硅烷與TPI中乙烯基(C=C雙鍵)摩爾比為0.2時,產物的硅氫化度為16.5%;逐步增大摩爾比至0.5,產物的硅氫化度為36.8%,至三乙基硅烷與TPI中乙烯基等摩爾時,產物的硅氫化度為50.3%;之后繼續(xù)增大摩爾比,產物的硅氫化度略有增大。這是因為三乙基硅烷濃度相對較低時,反應活性不夠,反應不充分;當三乙基硅烷與C=C雙鍵等摩爾時,硅氫化反應充分,硅氫化程度較高。
TPI和HsTPI(硅氫化度為26.6%)的1H-NMR譜對比如圖5所示。
圖5 TPI和HsTPI的1H-NMR譜
圖5(a)化學位移為5.2×10-6處的特征峰為C=C雙鍵上的H質子峰,化學位移為1.67×10-6處的特征峰為不飽和C=C雙鍵上連接的甲基(—CH3)特 征 峰,化 學 位 移 為1.9×10-6和2.1×10-6處的特征峰為不飽和C=C雙鍵上連接的亞甲基(—CH2—)特征峰。對比圖5(a)和(b)可以看出,上述3個特征峰在硅氫化反應后均變小,說明不飽和C=C雙鍵被還原為飽和的C—C單鍵結構。同時,HsTPI的1H-NMR譜上生成了3個新的特征峰,分別以a,b和c表示,a峰為與主鏈上飽和C—C單鍵相連的—CH3特征峰,說明C=C雙鍵被還原;b峰為與硅烷相連接的—CH3特征峰,c峰為硅烷上的—CH2—特征峰,說明硅烷直接加成在TPI分子鏈主鏈上。
HsTPI(硅氫化度為26.6%)的Si-NMR譜如圖6所示。
從圖6可以看出,在化學位移-112.0×10-6處出現(xiàn)了硅原子的特征峰,進一步證明了硅烷成功地接枝在了TPI的主鏈上。
圖6 HsTPI的Si-NMR譜
TPI和不同硅氫化度的HsTPI的DSC譜如圖7所示。
圖7 TPI和HsTPI的DSC譜
從圖7可以看出,硅氫化后,TPI的結晶峰消失,說明硅氫化反應使得TPI原有的結構規(guī)整性被打破,從而破壞了其結晶性。從圖7還可以看出,TPI的Tg為-68.99 ℃;隨著硅氫化度的增大,HsTPI的Tg顯著提高,硅氫化度為16.0%時,Tg為-66.45 ℃,至硅氫化度為52.7%時,Tg提高至-53.96 ℃。這是由于C=C雙鍵的減少降低了鏈段的柔順性,且硅氫化反應使TPI的分子鏈上加成了空間位阻較大的硅烷側基,不利于分子鏈的運動,從而降低了TPI的耐低溫性能。
TPI和不同硅氫化度HsTPI的TG曲線如圖8所示,DTG曲線如圖9所示。
圖9 TPI和HsTPI的DTG曲線
從圖8可以看出,硅氫化的HsTPI起始分解溫度均大于TPI,并且隨著硅氫化度的增大而提高。這說明TPI中C=C雙鍵被還原為C—C單鍵,分子鏈更加穩(wěn)定,熱穩(wěn)定性提高。
圖8 TPI和HsTPI的TG曲線
從圖9可以看出,TPI為一階質量損失,硅氫化后HsTPI的熱質量損失峰轉變?yōu)槎A,圖中375 ℃的質量損失峰為C=C雙鍵部分的分解,416 ℃的質量損失峰為C—C單鍵的分解,這是因為硅氫化反應破壞了部分C=C雙鍵而產生新的C—C單鍵,因而由原來C=C雙鍵在375 ℃處的一階質量損失變?yōu)樵?75和416 ℃處的二階質量損失。
TPI在溫度低于60 ℃時即迅速結晶,是具有高硬度和高拉伸強度的結晶型聚合物,其在結晶時會形成一種球形超結晶結構,具有高度的規(guī)整性。TPI中至少存在兩種確定的晶型:α晶型和β晶型,一般低溫利于β晶型的生長,而高溫利于α晶型的生長。采用XRD表征TPI硅氫化后晶型的變化,結果如圖10所示。TPI的XRD曲線中α晶型的峰位出現(xiàn)在圖中標注 的a,b,d和f處,β晶 型 的 峰 位 在c和e處[11]。
圖10 TPI和HsTPI的XRD曲線
從圖10可以看出:隨著TPI硅氫化度的增大,在硅氫化度為12.0%和13.0%時,a,b,d和f處的α晶型峰變得非常不明顯,而位于c和e處的β晶型峰變大,說明α晶型向β晶型轉變;當硅氫化度繼續(xù)增大至16.9%和47.7%時,所有的結晶峰都不明顯,說明TPI經過硅氫化后結晶消失,這和DSC分析結果一致。
硅氫化度對HsTPI硫化膠物理性能的影響如表1所示。
表1 硅氫化度對HsTPI硫化膠物理性能的影響
從表1可以明顯看出,隨著硅氫化度的增大,HsTPI硫化膠的100%定伸應力、300%定伸應力和拉伸強度均減小,原因主要是TPI大分子側鏈上接入的C—Si基團破壞了TPI的結晶性,形成了HsTPI彈性體,存留在分子內的微晶區(qū)會產生一定的應變誘導結晶,當硅氫化度增大時,HsTPI彈性體結晶性下降,應變誘導結晶隨之降低,從而導致其力學性能下降。
(1)TPI的最佳硅氫化反應工藝參數(shù)為:反應溫度 105 ℃,反應時間 12 h,催化劑相對TPI質量分數(shù) 0.07,三乙基硅烷與TPI中乙烯基等摩爾。
(2)1H-NMR和Si-NMR分析表明,HsTPI中三乙基硅烷接枝在TPI的碳-碳主鏈上。TG和DTG分析表明,HsTPI的分解溫度隨著硅氫化度的增大逐漸提高,產品的熱質量損失由TPI的一階變?yōu)镠sTPI的兩階。DSC分析表明,HsTPI的Tg隨著硅氫化度的增大而提高。XRD分析表明,隨著硅氫化度的增大,HsTPI的晶型發(fā)生轉變,隨后結晶能力變小。
(3)隨著硅氫化度的增大,HsTPI的力學性能變差,分析原因認為是當TPI大分子側鏈上接入C—Si基團,TPI的結晶性遭到破壞,形成了HsTPI彈性體,存留在分子內的微晶區(qū)會產生一定的應變誘導結晶,當硅氫化度增大時,HsTPI彈性體結晶性下降,應變誘導結晶隨之降低,從而導致其力學性能下降。