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      撓性光互聯(lián)彎曲損耗研究*

      2018-10-13 07:13:36佘雨來周德儉陳小勇
      電子機(jī)械工程 2018年4期
      關(guān)鍵詞:包層芯層纖芯

      佘雨來, 周德儉,陳小勇

      (桂林電子科技大學(xué), 廣西 桂林 541004)

      引 言

      隨著電子裝備集成度和工作頻率的提高,傳統(tǒng)電互聯(lián)的寄生效應(yīng)(寄生電容、延遲時(shí)間、信號串?dāng)_等)問題變得十分顯著,基于金屬銅等傳統(tǒng)互聯(lián)方式無法高效地傳輸信號,無法有效解決電磁干擾以及功率密度提高帶來的熱問題。并且傳統(tǒng)的電子產(chǎn)品依賴于剛性的印刷電路板技術(shù),無論是電子元器件還是聯(lián)接電子元器件的導(dǎo)體部分都分布在剛性電路板上,雖然剛性電路板有利于保護(hù)電子元器件,增加電子元器件的剛性,使其在使用過程中不會輕易損壞,但這不可避免地制約了電子產(chǎn)品的延展性和柔韌性。新興的撓性光互聯(lián)不僅可折疊、彎曲,而且能夠低功耗、穩(wěn)定大容量傳輸,且無信號延遲,無電磁干擾,具有潛在優(yōu)勢[1]。

      撓性光互聯(lián)是用撓性基板代替?zhèn)鹘y(tǒng)的剛性印制板,將光路層完全嵌入撓性電路板中,采用光波導(dǎo)或光纖等傳輸介質(zhì)代替?zhèn)鹘y(tǒng)銅導(dǎo)線,實(shí)現(xiàn)板與板之間高速信息傳輸[2]。由于光波導(dǎo)制作工藝復(fù)雜,光衰減問題較為突出,很難兼容常規(guī)的印制電路板(PCB)制作工藝;而光纖具有較低的衰減性和較高的機(jī)械魯棒性,能夠兼容常規(guī)工藝,還能用于彎曲半徑較小的地方,具有較低的彎曲損耗,能夠保證傳輸質(zhì)量。因此,光纖在撓性PCB等產(chǎn)品中的應(yīng)用及其抗彎性能研究引起研究者的廣泛關(guān)注。

      在實(shí)際通信線路中,彎曲損耗小于0.1dB/turn時(shí)才能更好地保證系統(tǒng)的傳輸性能,但是當(dāng)彎曲半徑較小時(shí),普通單模光纖的彎曲損耗較大,這對光纖的彎曲損耗性能提出了更高的要求,因此國內(nèi)外學(xué)者對光纖彎曲損耗展開了研究。文獻(xiàn)[3]提出了一種新的單模抗彎光纖(雙槽輔助光纖),在彎曲半徑為10 mm時(shí),其彎曲損耗降低為4.4 × 10-10dB/turn。文獻(xiàn)[4]設(shè)計(jì)了具有納米尺寸特征的單??箯澒饫w,在包層制作一圈由納米孔組成的環(huán),在入射波長為1 550 nm、彎曲半徑為5 mm時(shí),彎曲損耗小于0.1 dB/turn,而且其光參數(shù)也完全符合電信級單模光纖的標(biāo)準(zhǔn)。文獻(xiàn)[5]設(shè)計(jì)了具有微結(jié)構(gòu)芯層的槽輔助光纖(TAMCF)和孔輔助光纖(HAMCF)。有限元軟件分析發(fā)現(xiàn),TAMCF光纖能夠獲得大于1 000 μm2的有效模場面積,彎曲損耗小于0.1 dB/m,而當(dāng)光纖彎曲至7.5 cm時(shí),HAMCF的彎曲損耗小于10-5dB/m,但是有效模場面積較小。文獻(xiàn)[6]采用摻雜Ga-Sb-S硫族玻璃模擬PCF光纖的傳輸性能,此光纖具有較高的非線性系數(shù),較小的模場面積,彎曲損耗較低。

      光纖彎曲性能研究主要集中在北京交通大學(xué)任國斌教授實(shí)驗(yàn)室。文獻(xiàn)[7]設(shè)計(jì)了多芯層(由高低不同的折射率構(gòu)成的環(huán))的大模場、低彎曲損耗光纖。仿真分析發(fā)現(xiàn),通過調(diào)整參數(shù),光纖能夠獲得100 ~ 12 000 μm2的有效模場面積,并通過實(shí)驗(yàn)獲得了理想的有效模場面積,降低了彎曲損耗。文獻(xiàn)[8]采用粒子群算法對單模槽輔助光纖參數(shù)進(jìn)行了優(yōu)化,發(fā)現(xiàn)優(yōu)化后光纖的性能指標(biāo)優(yōu)于目前的商用抗彎光纖。文獻(xiàn)[9]推導(dǎo)了適用少模光纖高階模式彎曲損耗的計(jì)算公式,研究了下陷層輔助彎曲不敏感拋物線型少模光纖的主要參數(shù)(包括芯層半徑、芯層到下陷層的距離、下陷層寬度及下陷層折射率差)對其彎曲損耗特性的影響。研究表明,對于少模光纖,模式階數(shù)越高,光纖的彎曲敏感性越高;隨纖芯與下陷層間距離的變化,光纖各階模式的彎曲損耗均存在一個(gè)最小值。文獻(xiàn)[10]設(shè)計(jì)制作出了超低彎曲損耗的彎曲不敏感光纖,在入射波長為1 550 nm、彎曲半徑為5 mm的條件下,光纖的彎曲損耗為0.05 dB/turn。文獻(xiàn)[11]研究了少模光纖下的單模運(yùn)行模式。研究結(jié)果表明,光纖適當(dāng)?shù)膹澢軌驕p小環(huán)形模式和高階模式之間的強(qiáng)耦合,實(shí)驗(yàn)中在彎曲半徑為7.5 mm條件下LP01的彎曲損耗低于0.001 dB/turn。

      1 光纖彎曲損耗原理

      在實(shí)際運(yùn)用過程中,光纖不可避免地在一定程度上存在彎曲,光纖的彎曲損耗都是由光路不滿足全反射條件導(dǎo)致的。將光纖埋入撓性基板中,光纖的易彎曲性對信號的傳輸不會造成較大的損耗;如果光纖的彎曲曲率半徑過小,光傳播路徑就會改變,使光從纖芯滲透到包層,甚至可能穿過包層,輻射到外界,引起嚴(yán)重的損耗。光纖未彎曲時(shí),光路會被限制在纖芯,光在纖芯內(nèi)沿軸向傳播常數(shù)U應(yīng)滿足[12]:

      n2k0

      (1)

      式中:n1、n2與k0分別為纖芯折射率、包層折射率與光在真空中的波數(shù)。

      光強(qiáng)在光纖中呈高斯分布,在中心軸線處最強(qiáng),隨著纖芯半徑的增大而逐漸減弱,纖芯邊緣為零。當(dāng)光纖彎曲時(shí),光的場分布會發(fā)生變化。圖1為光纖彎曲狀態(tài)下光的場分布示意圖。從圖1可知,當(dāng)光纖彎曲時(shí),光纖中的一些模場會擴(kuò)散到包層,越靠近外側(cè),其模場的相速度越大。為了能夠保持同相位的電場和磁場在一個(gè)平面上,保持模式的完整性,需要在距纖芯某一臨界距離Lr處,包層中的場以大于光速的速度前行,此時(shí)傳導(dǎo)模變成輻射模,導(dǎo)致光能損失,這就是彎曲光纖所產(chǎn)生的彎曲損耗能量,即產(chǎn)生彎曲損耗的物理本質(zhì)。

      圖1 光纖彎曲狀態(tài)下光的場分布示意圖

      2 光纖彎曲損耗模型理論

      采用COMSOL Multiphysics有限元軟件的二維模式分析光纖彎曲損耗,其滿足的波動方程如下:

      電場E的亥姆霍茲方程為

      ×(×E)

      (2)

      電場E的特征值方程為

      λ0=-jβz

      (3)

      式中,βz為沿軸向的傳播系數(shù)。

      光纖未彎曲時(shí),沿軸向傳播常數(shù)βz虛部為零;光纖彎曲后βz的虛部不為零,此時(shí)損耗產(chǎn)生,將彎曲損耗系數(shù)α表示為由光纖彎曲導(dǎo)致的傳輸常量變化的虛部?βz[13-14]:

      2α=-2Im(?βz)

      (4)

      (5)

      式中,neff為有效折射率。

      對于一個(gè)單位長度為L的光纖,彎曲損耗公式為

      sL=10log10[exp(2αL)]

      (6)

      將式(5)帶入式(6),最終彎曲損耗為

      sL=-8.686k0Imneff

      (7)

      3 COMSOL Multiphysics有限元分析

      3.1 光纖幾何結(jié)構(gòu)

      利用COMSOL Multiphysics有限元軟件模型向?qū)нx擇二維模型,然后添加物理場→光學(xué)→波動光學(xué)→電磁波,頻域(ewfd)→模式分析。光纖參數(shù)見表1。圖2為2種光纖的截面圖和折射率分布圖。由表1和圖2可知,SMF-28光纖分為芯層和包層,芯層直徑為D,芯層摻雜,芯層與包層折射率差為Δa,r為包層半徑;G657B光纖中包層上有低摻雜的下陷層,下陷層到芯層的距離為b,摻雜后與包層的折射率差為Δb,下陷層寬度為c,摻雜后與包層的折射率差為Δc。

      圖2 兩種光纖的截面圖和折射率分布圖

      參數(shù)SMF-28G657BD/μm8.28.2b/μm—4.9c/μm—7r/μm62.562.5Δa0.005 20.005 5Δb—-0.000 4Δc—-0.003 25

      3.2 材料參數(shù)

      在設(shè)置材料參數(shù)時(shí),主要設(shè)置光纖的折射率。光纖的折射率與入射波長有關(guān),根據(jù)Sellmeier公式可以近似得到純硅的折射率[15]:

      (8)

      式中:λ為入射波長;A和B為Sellmeier方程系數(shù),取值見表2。計(jì)算可得,在1 550 nm波長入射光下,包層的折射率為1.444,芯層高摻雜,折射率為1.449 5。

      表2Sellmeier方程系數(shù)

      3.3 邊界條件的設(shè)置

      設(shè)置適當(dāng)?shù)倪吔鐥l件至關(guān)重要,不僅能夠簡化模型,還能提高計(jì)算精度和效率。為了計(jì)算光纖的彎曲損耗,選用PML層(完美匹配層)。PML層可分為矩形層和圓形層,對于小半徑彎曲,選用矩形PML層。

      3.4 網(wǎng)格劃分

      網(wǎng)格決定了計(jì)算速度和精度,網(wǎng)格越細(xì),計(jì)算精度越高,同時(shí)也能增大自由度,得到更多的解,但求解時(shí)間長,消耗內(nèi)存大,因此網(wǎng)格劃分是非常實(shí)際的問題。選用自由三角形網(wǎng)格,最大網(wǎng)格尺寸為1.5 μm,最小網(wǎng)格尺寸為0.003 μm。PML層厚度一般選用20 μm,PML層采用映射來劃分網(wǎng)格,分布單元數(shù)為8。圖3為2種光纖的網(wǎng)格劃分。

      圖3 兩種光纖的網(wǎng)格劃分

      3.5 模式求解

      進(jìn)行模式求解時(shí),選取正確的模式分析頻率(光速/入射波長),在纖芯折射率附近搜索模式的基準(zhǔn)值,手動輸入所需模式,根據(jù)模型的難易程度添加所需的模式求解個(gè)數(shù),然后求解。求解得到有效模式折射率,根據(jù)有效模式折射率找到對應(yīng)的電場模分布,找到正確的模式。圖4為SMF-28光纖不同有效折射率下的電場模和高度表達(dá)式。

      圖4 SMF-28光纖不同有效折射率下的電場模和高度表達(dá)式

      由圖4可知,光在光纖中傳播會產(chǎn)生多種模式。有效折射率為1.446 225時(shí),光能均被束縛在纖芯中,而且其高度表達(dá)式也符合高斯分布,是正解;而有效折射率為1.443 929時(shí),電場不能被束縛在光纖纖芯中,而是分散在光纖包層,光不能向前傳播,為偽解。

      4 結(jié)果與討論

      采用有限元方法分析SMF-28與G657B兩種光纖的彎曲損耗隨波長和彎曲半徑的變化關(guān)系,圖5為2種光纖在入射波長為1 550 nm、彎曲半徑為5 mm條件下的電場模分布。由圖5可知,G657B光纖能夠?qū)⒐饽芨玫厥`在纖芯中,而SMF-28光纖中部分光能進(jìn)入包層,輻射到外界,導(dǎo)致能量損耗。

      圖5 兩種光纖在入射波長為1 550 nm、彎曲半徑為5 mm條件下的電場模分布

      圖6為彎曲半徑為5 mm時(shí),SMF-28與G657B兩種光纖的彎曲損耗隨入射波長的變化曲線。圖6(b)為G657B的放大圖。由圖6可知,彎曲損耗隨波長的增加而增加。SMF-28的損耗明顯大于G657B,當(dāng)入射波長為1 300 nm時(shí),2種光纖的彎曲損耗分別為1.851 6 dB/m和0.001 135 dB/m;當(dāng)入射波長為1 600 nm時(shí),2種光纖的彎曲損耗分別為10.217 dB/m和0.033 1 dB/m。

      圖6 兩種光纖彎曲損耗隨入射波長的變化曲線

      圖7為入射波長為1 550 nm時(shí),SMF-28與G657B兩種光纖的彎曲損耗隨彎曲半徑的變化曲線,圖7(b)為G657B的放大圖。由圖7可知,彎曲損耗隨彎曲半徑的增加而減小,SMF-28的損耗明顯大于G657B,當(dāng)彎曲半徑為3mm時(shí),2種光纖的彎曲損耗分別為21.542dB/m和5.901 6 dB/m;當(dāng)彎曲半徑為10 mm時(shí),2種光纖的彎曲損耗分別為0.568 5 dB/m和2.05×10-4dB/m。

      圖7 兩種光纖彎曲損耗隨彎曲半徑的變化曲線

      5 結(jié)束語

      本文針對撓性光互聯(lián)中存在的光纖彎曲損耗問題進(jìn)行了闡述與分析,利用有限元軟件模擬分析SMF-28和G657B兩種光纖的彎曲損耗。研究表明,彎曲損耗隨入射波長的增加而增加,隨彎曲半徑的增加而減小。在入射波長和彎曲半徑相同的情況下,2種光纖的彎曲損耗出現(xiàn)較大的差異,主要原因在于G657B在光纖結(jié)構(gòu)上的差異,其包層上摻雜了下陷層,增大了芯層和包層之間的折射率的差,增強(qiáng)了光纖芯層的束光能力,降低了光纖的彎曲損耗。

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