• 
    

    
    

      99热精品在线国产_美女午夜性视频免费_国产精品国产高清国产av_av欧美777_自拍偷自拍亚洲精品老妇_亚洲熟女精品中文字幕_www日本黄色视频网_国产精品野战在线观看 ?

      基于氣敏元件的ZnO薄膜的RF制備及表征

      2018-10-31 01:56:08李超
      山東工業(yè)技術 2018年18期
      關鍵詞:磁控濺射電阻率薄膜

      摘 要:本文用磁控濺射的方法在片上沉積薄膜,探討了襯底溫度、氧氬比和退火處理和薄膜的結晶速率、結晶質(zhì)量和電阻率的關系,為沉積符合氣敏元件的敏感薄膜提供研究參考。

      關鍵詞:薄膜;磁控濺射;氣敏元件;電阻率

      DOI:10.16640/j.cnki.37-1222/t.2018.18.041

      1 引言

      作為新型寬帶半導體材料,具有很好的光電、壓電、氣敏、壓敏特性以及很高的化學穩(wěn)定性與熱穩(wěn)定性,又因其原材料來源豐富、價格低廉和無毒等特點,被廣泛應用在表面波器件、太陽能電池和氣敏傳感器等諸多領域[1-3]。當前,大氣污染在全國各地的情況越來越嚴峻,人們對此事也越來越關注,從而更加快了半導體氣敏材料的研究進程。作為氣敏材料,是依靠吸附氣體前后電阻發(fā)生較大的變化來識別氣體的[4]。它對還原性和氧化性氣體都具有敏感性,可應用在探測、和液化石油氣來避免泄露,探測進行環(huán)境污染監(jiān)測,作為酒精探測器控制酒后駕駛等方面。

      制備薄膜的方法有很多,如磁控濺射、脈沖激光沉積、化學氣相沉積、溶膠凝膠法、電子束蒸發(fā)等,但因磁控濺射方法具有沉積速率高、成膜均勻致密、便于大面積制備等優(yōu)點,因而被廣泛應用[5]。本文主要探討了在磁控濺射薄膜的過程當中,襯底溫度、氧氬比、退火處理和結晶速率、結晶質(zhì)量和電阻率的關系。

      2 實驗方法

      利用濺射儀器和的靶材在片上沉積薄膜。選擇在不同的制備參數(shù)下進行,具體為襯底溫度為常溫和,和,和的空氣中退火。薄膜的厚度、結晶狀況、表面形貌和電阻率分別用臺階儀、射線衍射儀、原子力顯微鏡和四探針測量儀進行測量。

      3 結果與討論

      3.1 薄膜的結晶速率分析

      實驗對在不同濺射參數(shù)下沉積的薄膜進行厚度測量,歸納出了薄膜的結晶速率數(shù)據(jù),具體見表1。由樣本1和樣本3的數(shù)據(jù)可知,隨著氧氬比的比例增大,薄膜的結晶速率加強。這可能是因為氬分壓的增大使得氬離子的能量增大,從而被濺射出來的有效粒子的能量也相應增大,所以加快了薄膜的生長速度。由樣本2和樣本3的結果可知,襯底溫度的升高減慢了薄膜的結晶速度,這是因為較高的襯底溫度增大了氧離子的能量,從而破壞了薄膜的生長環(huán)境,因此結晶速率下降。

      3.2 薄膜的結晶質(zhì)量分析

      圖1是常溫時,以和的條件沉積薄膜的圖。從圖中可以發(fā)現(xiàn),薄膜峰的相對強度因為氧氬比的增大而變低,峰的相對強度因為氧氬比的增大而變高。這多是因為氧氬比的增大削弱了一些氧的電離能力,使粒子在基底表面的活動能量較弱,難以在基底表面進行大范圍的分散和遷移,從而很難生長成晶粒致密的薄膜。同時氧分壓的降低有利于沉積過程中薄膜缺陷的形成,進而破壞了薄膜的結構。

      圖2是常溫時,以ψ(Ar : O2)=24:6和24:3的條件沉積薄膜的圖。它們的分別是6.50nm和7.85nm,這可能是由于氧氬比過大(即氧分壓過?。┎焕诮Y晶,從而降低了薄膜的結晶質(zhì)量,結論與上述的結果分析一致。

      3.3 薄膜的電阻率分析

      實驗中將表1中的幾個薄膜樣本進行了電阻率測試,并將其在不同溫度下退火30min,結果見表2。由樣本2和樣本3的結果發(fā)現(xiàn),薄膜會因為濺射時襯底溫度低而得到較小的電阻率,如300℃下制備的樣品2在未退火前的電阻率太大以至于測量不出來,而常溫下制備的樣品3未退火前的電阻率達到10-3數(shù)量級。這是因為襯底溫度的升高促進了薄膜對氧離子的吸附,從而增大了薄膜的電阻率。

      再由樣本1和樣本3的數(shù)據(jù)可知,薄膜的電阻率隨著氧氬比的增大而降低。在時,磁控濺射法形成的薄膜,其電阻率能低至6.58*10-3Ω.cm,并且在的空氣中退火分鐘后,其電阻率為68.60Ω.cm,變化相當明顯。這是由于在空氣氣氛中對薄膜進行熱處理,促進了薄膜表面對氧氣的大量吸附,從而增大了電阻率,這為在氣敏元件領域的應用奠定了良好的研究基礎。

      注:表格中“——”代表電阻太大,超過儀器測量范圍。

      4 結論

      本文闡述了技術沉積薄膜時,各濺射參數(shù)和薄膜性能之間的關系。結果表明,薄膜的結晶速率因為襯底溫度的升高而變小,因為氧氬比的比例增大而變大。氧氬比過大使薄膜的結晶質(zhì)量降低,但在氧氬比為條件下制備的薄膜,其電阻率更符合氣敏材料的要求。通過在空氣中對薄膜進行熱處理,可增加薄膜的氧空位,改善薄膜的擇優(yōu)取向性和表面平整度,并將電阻率增大幾個數(shù)量級。這種退火處理的方法不僅降低了薄膜的制備成本,還將其電阻率改善到更適宜作氣體傳感器的敏感物質(zhì)行列中。

      參考文獻:

      [1]劉志文,付偉佳,劉明等.磁控濺射ZnO薄膜的退火熱力學行為研究[J].電子顯微學報,2007,26(06):541-547.

      [2]Yu J,Huang B,Qin X,et al.Hydrothermal synthesis and characterization of ZnO films with different nanostructures[J].Applied Surface Science,2011,257(13):5563-5565.

      [3]Ameen S,Akhtar M S,Kim Y S,et al.An effective nanocomposite of polyaniline and ZnO: preparation,characterizations,and its photocatalytic activity[J].Colloid & Polymer Science,2011,289(04):415-421.

      [4]王曉冬.MEMS低功耗氧化鋅氣體傳感器的設計[J].電子制作, 2014(13):1-2.

      [5]宋學萍,周旭,孫兆奇.射頻磁控濺射ZnO薄膜的結構和應力特性[J].合肥工業(yè)大學學報(自然科學版),2007,30(09):1117-1120.

      作者簡介:李超(1989-),女,天津人,碩士研究生,助教,研究方向:傳感器、計算機應用。

      猜你喜歡
      磁控濺射電阻率薄膜
      復合土工薄膜在防滲中的應用
      C/C復合材料表面磁控濺射ZrN薄膜
      β-Ga2O3薄膜的生長與應用
      光源與照明(2019年4期)2019-05-20 09:18:18
      復雜腔體件表面磁控濺射鍍膜關鍵技術的研究
      一種不易起皮松散的柔軟型聚四氟乙烯薄膜安裝線
      電線電纜(2017年2期)2017-07-25 09:13:35
      三維電阻率成像與高聚物注漿在水閘加固中的應用
      微波介質(zhì)陶瓷諧振器磁控濺射金屬化
      CIGS薄膜太陽電池柔性化
      電源技術(2015年12期)2015-08-21 08:58:58
      隨鉆電阻率測井的固定探測深度合成方法
      海洋可控源電磁場視電阻率計算方法
      墨玉县| 青阳县| 涟水县| 来宾市| 宣化县| 安西县| 门头沟区| 阿拉善右旗| 白城市| 莒南县| 玉树县| 特克斯县| 兴海县| 仁布县| 郧西县| 内江市| 龙川县| 宾阳县| 百色市| 织金县| 万盛区| 汶上县| 达孜县| 蕲春县| 乐陵市| 新密市| 广丰县| 行唐县| 宣威市| 苏州市| 拜城县| 商丘市| 阿城市| 乡城县| 福州市| 巴塘县| 鹤壁市| 乐清市| 东乌| 安溪县| 贵阳市|