蔡立輝 張濤 方前鋒 楊俊峰

摘 ?要：利用直流反應(yīng)磁控濺射技術(shù)，在不銹鋼和硅襯底上分別制備了三元MoCN、MoSiN、MoAlN、MoWN、WTaN 及四元MoAlSiN、MoSiCN、WSiCN涂層。利用XRD、XPS、TEM、SEM等方法分析了薄膜的微觀結(jié)構(gòu)和表面形貌;利用納米壓痕儀、劃痕儀、摩擦磨損測(cè)試儀、以及熱重分析法測(cè)試了薄膜的硬度、膜基結(jié)合力、摩擦系數(shù)、及抗氧化溫度。結(jié)果表明四元MoSiCN、WSiCN 涂層具有更加優(yōu)異的綜合性能，可望向工業(yè)領(lǐng)域轉(zhuǎn)化。

關(guān)鍵詞：磁控濺射 ?硬質(zhì)涂層 ?氮化物 ?鎢 ?鉬

中圖分類(lèi)號(hào)：TG174 ? 文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼：A 文章編號(hào)：1672-3791（2019）11（a）-0048-05

Abstract： Ternary MoCN、MoSiN、MoAlN、MoWN、WTaN and quaternary MoAlSiN、MoSiCN、WSiCN coatings were sputter deposited on stainless steel and silicon substrates by direct current reactive magnetron sputtering technique. Microstructure of these coatings was characterized using x-ray diffraction （XRD），X-ray photoelectron spectroscopy（XPS），Transmission electron microscope （TEM），and scanning electron microscope（SEM）. Nanohardness，adhesion strength，friction coefficient，and oxidation resistance temperature of these coatings were measured using Nanoindenter，Scratcher，Tribometer，and TGA. Results demonstrate that quaternary coatings possess superior comprehensive properties in comparison with that of ternary coatings，and could be easily applied in industrial field.

Key Words： Magnetron sputtering; Hard coatings; Nitride; Tungsten; Mmolybdenum

硬質(zhì)及超硬涂層是指通過(guò)物理或化學(xué)的方法在基體表面沉積的硬度分別大于20GPa和40GPa的涂層[1]。超硬涂層可分內(nèi)稟性超硬涂層和外稟性超硬涂層：前者源于材料自身的化學(xué)鍵，如c-BN、B3N4[2-4]等;而后者主要是由于材料的微結(jié)構(gòu)，例如由納米晶和非晶組成的納米復(fù)合結(jié)構(gòu)[5-7]，以及由不同剪切模量的材料交替沉積所獲得的納米多層結(jié)構(gòu)，如CrNx/TiNy[8]、TiN/NbN[9]。外稟性超硬涂層材料選擇自由度大，可以通過(guò)調(diào)控微觀結(jié)構(gòu)來(lái)優(yōu)化材料的綜合性能，因此具有更大的發(fā)展空間和應(yīng)用前景[10，11]。

目前，硬質(zhì)涂層已經(jīng)被廣泛應(yīng)用于加工制造業(yè)，并發(fā)揮著越來(lái)越重要的作用。特別是硬質(zhì)涂層在切削工具表面的應(yīng)用，不僅可以改善服役性能、提高切削的精準(zhǔn)度， 而且可以拓展使用范圍，加工普通切削工具難以加工的材料，因此被認(rèn)為是切削史上的一次革命。以刀具為例，目前工業(yè)發(fā)達(dá)國(guó)家中涂層刀具已占全部刀具使用量的80%以上，并呈繼續(xù)增長(zhǎng)的趨勢(shì)[12]。

近年來(lái)，隨著加工業(yè)和制造業(yè)的高速發(fā)展，各種難加工材料不斷涌現(xiàn)，同時(shí)對(duì)材料的加工精度和效率也提出了更高的要求，這要求切削工具表面涂層在高硬、耐磨的同時(shí)兼具良好的潤(rùn)滑性能。目前，在工業(yè)領(lǐng)域應(yīng)用最廣泛的硬質(zhì)涂層主要是鈦基或鉻基的碳、氮化物涂層，如Balzers的Al2CrN涂層，Platit的（nc-Ti1-xAlxN）/（α-Si3N4）涂層，CemeCon的TINALOXSN超氮涂層，Metaplas的AlTiN2saturn涂層等，它們的摩擦系數(shù)較高（>0.4）[13-15]。因此，亟需開(kāi)發(fā)出新型的綜合性能優(yōu)異的涂層。

氮化鉬和氮化鎢涂層的硬度和抗氧化溫度較低[16，17]，但是它們的潤(rùn)滑性能要優(yōu)于氮化鈦（鉻）基涂層[18，19]。因此，如果通過(guò)納米復(fù)合和固溶強(qiáng)化等技術(shù)來(lái)進(jìn)一步提高氮化鉬和氮化鎢的硬度和抗氧化性能，則可望得到綜合性能良好的氮化鉬（鎢）基硬質(zhì)或超硬涂層。該文中，我們采用磁控濺射方法，制備了一系列的三元MoCN、MoSiN、MoAlN、MoWN、WTaN及四元MoAlSiN、MoSiCN、WSiCN涂層，優(yōu)化了涂層的工藝參數(shù)，獲得了具有優(yōu)異綜合性能的硬質(zhì)及超硬涂層，該類(lèi)涂層可望應(yīng)用于刀刃具和工模具的表面。

1 ?試驗(yàn)

1.1 涂層制備

涂層制備所用儀器為JGP-350B型磁控濺射儀。通過(guò)直流磁控濺射由高純鉬或鎢（φ60mm×2mm）分別與高純石墨、鋁、硅、鉭等鑲嵌而成的復(fù)合靶，在不銹鋼和硅襯底上分別制備三元MoCN、MoSiN、MoAlN、MoWN、WTaN及四元MoAlSiN、MoSiCN、WSiCN涂層。

在涂層制備前，將單晶硅片和機(jī)械拋光過(guò)的不銹鋼片按照以下步驟處理：（1）在鹽酸、雙氧水和去離子水混合液（按體積百分比1∶2∶5 配置）中煮沸5～10min;（2）用去離子水沖洗;（3）用乙醇或丙酮超聲清洗。硅片襯底是為了測(cè)試涂層的成分及厚度，不銹鋼襯底是為了涂層的結(jié)構(gòu)表征及性能測(cè)量。

涂層制備工藝：靶基距為60mm，濺射的本底真空為3×10-4Pa，濺射氣壓為0.5～1Pa，濺射功率固定在90～160W，襯底偏壓為-80V，氬氣為濺射氣體，氮?dú)鉃榉磻?yīng)氣體，通過(guò)質(zhì)量流量計(jì)調(diào)整氮偏壓（0.5～0.75Pa），沉積溫度為400℃～500℃。

1.2 涂層的表征及性能測(cè)量

利用X射線衍射儀對(duì)樣品進(jìn)行物相和晶體結(jié)構(gòu)分析;利用場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡觀察薄膜的表面和截面形貌;利用X射線光電子能譜儀對(duì)薄膜成分進(jìn)行分析，試驗(yàn)前我們利用3keV能量的氬離子對(duì)薄膜表面轟擊3min，以消除表面的氧化層;利用納米壓痕儀測(cè)量沉積在不銹鋼襯底上的薄膜的硬度和彈性模量，采用劃痕儀評(píng)估涂層和基體的結(jié)合情況，采用摩擦磨損測(cè)試儀測(cè)量涂層的摩擦系數(shù)，利用熱重分析儀研究薄膜在空氣氣氛下的抗氧化性，升溫速率為10℃/min。

2 ?試驗(yàn)結(jié)果和討論

2.1 微觀結(jié)構(gòu)

在氬氣氣氛下，分別濺射由鎢、鉬、鋁、鉭、硅等構(gòu)成的復(fù)合靶來(lái)制備三元MoWN、WTaN及四元MoAlSiN、MoSiCN、WSiCN涂層，通過(guò)調(diào)節(jié)濺射功率、襯底溫度、氮偏壓及靶中各成分的相對(duì)含量來(lái)優(yōu)化涂層的制備工藝。優(yōu)化工藝參數(shù)后，部分涂層的結(jié)構(gòu)表征如圖1所示：可以觀察到5個(gè)衍射峰，它們分別來(lái)自晶面（111）、（200）、（220）、（311）、（222）。說(shuō)明這些三元和四元涂層均為面心立方結(jié)構(gòu)。仔細(xì)分辨可以看到，與標(biāo)準(zhǔn)衍射卡片相比，各個(gè)衍射峰的峰位有一定的差別。這主要是由于當(dāng)Al，W加入二元Mo-N或W-N涂層時(shí)，它們會(huì)進(jìn)入Mo-N或W-N的晶格內(nèi)部，形成置換或間隙固溶體，從而影響Mo-N涂層晶格常數(shù)的變化，導(dǎo)致衍射峰的位置發(fā)生偏離。類(lèi)似的結(jié)論適用W-Ta-N涂層。對(duì)于四元涂層，各個(gè)衍射峰明顯寬化，而且衍射峰的強(qiáng)度也減弱。由XPS分析（見(jiàn)圖2）可以看到：在四元Mo-Al-Si-N涂層中，N1s譜和Mo3p譜部分重疊Mo3p的峰位為394.2eV，為面心立方Mo2N相中的Mo原子的結(jié)合能[20]。N1s譜峰可以分解成結(jié)合能分別為396.8eV，397.3eV、397.6eV的3個(gè)峰，分別對(duì)應(yīng)著AlN，Mo2N，和Si3N4中氮原子的結(jié)合能，這與文獻(xiàn)[21-23]報(bào)道的結(jié)果一致。在四元W-Si-C-N涂層中，N1s譜峰可以分解為結(jié)合能分別為397.3eV、397.7eV、398.2eV的3個(gè)峰，分別對(duì)應(yīng)于立方W2N相中W-N，非晶Si3N4中Si-N鍵，及非晶相CNx中C-N鍵的結(jié)合能[24-26]。在三元W-Ta-N涂層中，N1s峰可以分解為結(jié)合能分別為，397.3eV和398eV的兩個(gè)峰，前者對(duì)應(yīng)著W2N中的W-N鍵[24]，后者對(duì)應(yīng)于Ta-N中的Ta-N鍵[27]。圖3為Mo-Al-Si-N涂層的高分辨透射電鏡照片及相應(yīng)的選區(qū)電子衍射花樣，可以看出涂層由尺寸約為7個(gè)納米的晶粒和非晶相組成。結(jié)合XRD，HRTEM及XPS分析，可以得出結(jié)論：三元涂層由面心立方相組成，且該相為固溶體;四元Mo-Al-Si-N涂層和W-Si-C-N的相成分分別為：立方晶相Mo2N+非晶相Si3N4和立方晶相W2N+非晶相Si3N4+非晶相CNx。在四元涂層中，非晶相的存在對(duì)晶相的長(zhǎng)大起到了一定的抑制作用，晶粒尺寸得到細(xì)化，在XRD上表現(xiàn)為衍射峰變寬。

2.2 硬度和模量

圖4和圖5分別為三元和四元氮化鉬（鎢）基硬質(zhì)及超硬涂層的硬度和楊氏模量?？梢钥吹?，三元MoAlN、MoSiN、MoCN涂層的硬度和楊氏模量分別介于27～30GPa 和350～500GPa之間。其硬度值接近于MoN薄膜的硬度[28]，但卻遠(yuǎn)高于MoN塊體材料的硬度13～18GPa[29]。而MoWN涂層的硬度和楊氏模量高達(dá)47GPa和580GPa。四元MoSiCN涂層的硬度和楊氏模量分別為27GPa和270GPa，與三元MoSiN和MoCN涂層的硬度和楊氏模量相比并沒(méi)有明顯的改進(jìn)。而四元MoAlSiN和WSiCN涂層的硬度高達(dá)40GPa，彈性模量介于400～450GPa之間。三元MoWN涂層的硬度遠(yuǎn)高于其他三元涂層，主要是由于固溶強(qiáng)化、晶粒細(xì)化、膜的致密性以及電荷分布的變化等多方面聯(lián)合作用的結(jié)果。據(jù)文獻(xiàn)報(bào)道[30]，CrWN薄膜的力學(xué)性能強(qiáng)烈地受到電荷在Cr、W、N間分布狀態(tài)的影響，CrWN薄膜中更高的共價(jià)鍵比例導(dǎo)致CrWN薄膜的硬度遠(yuǎn)高于CrN薄膜。在CrTiN薄膜和CrMoN薄膜中[28，30]也觀察到了類(lèi)似的結(jié)果。另一方面，較大的客體原子（W）替換主體原子（Mo）導(dǎo)致晶格內(nèi)產(chǎn)生壓應(yīng)力，這也會(huì)導(dǎo)致硬度增加。相對(duì)于三元涂層，四元涂層硬度的增加主要是由于形成了納米晶和非晶所組成的納米復(fù)合結(jié)構(gòu)。這種設(shè)計(jì)納米復(fù)合超硬材料的概念是：在二元（或多元）系統(tǒng)中，通過(guò)熱力學(xué)驅(qū)動(dòng)的強(qiáng)沉淀分解現(xiàn)象（如Spinodal分解）而形成相互鑲嵌和匹配的兩相顆粒以及強(qiáng)結(jié)合的界面。一方面，其界面很好地結(jié)合以致晶界不易滑動(dòng);另一方面，在納米尺度范圍，位錯(cuò)和微裂紋的生成和擴(kuò)展受到極大限制。因此，這種復(fù)合結(jié)構(gòu)對(duì)硬度的增強(qiáng)作用既和晶相本身的性質(zhì)特別是硬度有關(guān)，也和非晶相的相對(duì)含量有關(guān)。當(dāng)分散在晶粒周?chē)姆蔷酁橐粋€(gè)原子層厚度時(shí)，硬度增強(qiáng)效果最明顯。四元W-Si-C-N涂層和MoAlSiN涂層的硬度及楊氏模量要高于四元MoSiCN涂層，這主要是由于晶相本身的性質(zhì)不同，Mo（Al）N固溶體和WN的硬度都要高于Mo-N的硬度。

2.3 抗氧化溫度

圖6為MoCN、MoWN、WTaN、MoAlN、WSiCN、 MoAlSiN涂層的熱重曲線，測(cè)試氣氛為空氣?？梢钥吹疆?dāng)加熱溫度分別為約510℃、520℃、600℃、650℃、680℃、780℃時(shí)，WTaN、MoWN、MoCN、MoAlN、WSiCN、MoAlSiN涂層的重量開(kāi)始迅速增加，說(shuō)明涂層開(kāi)始急劇氧化。因此，可以認(rèn)為WTaN、MoWN、MoCN、MoAlN、WSiCN、MoAlSiN涂層的抗氧化溫度分別為510℃、520℃℃、600℃、650℃、680℃、780℃。與MoN涂層的抗氧化溫度450℃～500℃相比，C和Al的加入使得MoN涂層的抗氧化溫度提高了約100多度，這是因?yàn)镃的加入可以使得涂層的表面變得更加致密，而鋁的加入可以在涂層的最外層表面形成了一層穩(wěn)定的非晶Al2O3薄層，阻止了薄膜的進(jìn)一步氧化，其抗氧化機(jī)制與TiAlN薄膜的一致[31]。Si和C的加入，不僅可以使得涂層本身致密化，涂層表面覆蓋的Si3N4層也有利于涂層抗氧化性能的提高。而Al和Si的加入，使得涂層致密的同時(shí)，還在涂層表面形成氧化鋁保護(hù)層，在雙重保護(hù)的作用下，涂層的抗氧化溫度搞到780℃，其抗氧化機(jī)制與TiAlSiN涂層一致[32]，其抗氧化性能滿足絕大多數(shù)工業(yè)應(yīng)用對(duì)抗氧化能力的要求。

2.4 摩擦系數(shù)

隨著生產(chǎn)效率和加工精度的提高，特別是在精密機(jī)械的加工領(lǐng)域，除了對(duì)涂層硬度及抗氧化性的要求，涂層的潤(rùn)滑能力顯得尤為重要。超硬、耐磨、潤(rùn)滑一直是從事表面工程的研究人員不斷追求的目標(biāo)之一。同時(shí)具有較高硬度和較低摩擦系數(shù)的材料不多，主要是金剛石（或類(lèi)金剛石）膜[33]和六角氮化硼薄膜。對(duì)于鎢（鉬）氮化物基涂層，我們最近的研究表明（見(jiàn)圖7）：在大氣環(huán)境下，當(dāng)載荷壓力為100mN，往復(fù)運(yùn)動(dòng)速度為0.1mm/s時(shí)，MoSiN薄膜以及MoN薄膜的摩擦系數(shù)僅為0.22～0.28。對(duì)于MoSiCN涂層，當(dāng)載荷為20～40mN，單向滑動(dòng)速度為0.01mm/s時(shí)，涂層的摩擦系數(shù)僅為0.10～0.15之間。而對(duì)于WSiCNN涂層，當(dāng)載荷高達(dá)2N，轉(zhuǎn)頭往復(fù)運(yùn)動(dòng)的速度高達(dá)100mm/s時(shí)，涂層的摩擦系數(shù)介于0.3～0.4之間。盡管測(cè)試條件并不完全相同，但是還是可以看到載荷增大時(shí)，涂層的摩擦系數(shù)由有一定的增加。雖然這些涂層的摩擦系數(shù)較金剛石薄膜或類(lèi)金剛石膜的摩擦系數(shù)（<0.1）為大，但遠(yuǎn)小于文獻(xiàn)報(bào)道的TiSiN薄膜的摩擦系數(shù)（約0.7）[34]。

2.5 涂層與襯底的結(jié)合力

涂層與襯底的結(jié)合力是在實(shí)際工業(yè)需要中最重要的參數(shù)之一。如果涂層與襯底的結(jié)合不夠牢固，那么涂層在使用過(guò)程中就很容易與襯底剝離，甚至脫落。這樣就會(huì)把涂層內(nèi)部暴漏到外面，使得涂層完全被氧化。也由于增加了表面的粗超度，使得摩擦系數(shù)急劇增加，同時(shí)導(dǎo)致切削精度的下降。目前，對(duì)膜基結(jié)合力的測(cè)量主要有劃痕法、壓入法等。當(dāng)用劃痕法測(cè)量不同膜基體系的結(jié)合強(qiáng)度時(shí)，存在兩個(gè)效應(yīng)，即基體硬度效應(yīng)和涂層厚度效應(yīng)[35]。在我們的研究中，為了盡量避免這兩個(gè)效應(yīng)的影響，選用同樣的襯底，同時(shí)通過(guò)調(diào)節(jié)涂層的濺射時(shí)間，使得所有測(cè)試樣品涂層的厚度保持在約2.5μm，測(cè)試結(jié)果如圖8所示?？梢钥吹较鄬?duì)于三元MoWN和WTaN涂層，四元涂層與襯底的結(jié)合力更強(qiáng)。這一方面與涂層和襯底的成分梯度有關(guān)，即當(dāng)涂層的成分與襯底的成分越接近，越有利于膜基結(jié)合力的增強(qiáng);另一方面是由于上述四元涂層中均有非晶相的存在，它們可以使得涂層中由于濺射過(guò)程中離子的轟擊所產(chǎn)生的壓應(yīng)力得以部分弛豫，這與文獻(xiàn)[36]的報(bào)道一致。

3 ?結(jié)語(yǔ)

使用直流磁控濺射復(fù)合靶的方法制備了一系列的三元和四元鉬（鎢）基氮化物涂層，研究了濺射工藝參數(shù)（襯底溫度、濺射氣壓、氮偏壓、靶基距、濺射功率、負(fù)偏壓）等對(duì)涂層結(jié)構(gòu)及性能的影響，并得出如下結(jié)論。

（1）對(duì)于三元涂層MoAlN、MoWN、WTaN硬度的增強(qiáng)主要是由于固溶強(qiáng)化的作用，對(duì)于MoCN、MoSiN硬度的增加主要是由于形成了納米復(fù)合結(jié)構(gòu)。

（2）對(duì)于四元涂層MoAlSiN、MoSiCN、WSiCN硬度的增強(qiáng)主要是由于納米復(fù)合結(jié)構(gòu)的作用。對(duì)于由納米晶和非晶組成的納米復(fù)合結(jié)構(gòu)，硬度的增強(qiáng)效果除了和非晶的分布及相對(duì)含量有關(guān)外，同時(shí)和納米晶本身的硬度有很大關(guān)系。

（3）Al和Si的加入有利于提高涂層的抗氧化溫度，而C的加入有力于改善涂層的潤(rùn)滑性能。

（4）相對(duì)于三元涂層，四元涂層具有更加優(yōu)異的綜合性能，有利于向工業(yè)領(lǐng)域轉(zhuǎn)化。

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