李俊杰,董群鋒,2,張輝,2,武瑞青
(1. 西安工業(yè)大學(xué) 理學(xué)院,西安 710021;2. 咸陽(yáng)師范學(xué)院 物理與電子工程學(xué)院,陜西 咸陽(yáng) 712000)
太赫茲(THz)波是一種頻率很高的電磁波,它處于微波和遠(yuǎn)紅外之間,頻率在0.1~10 THz這一范圍內(nèi)。太赫茲波與微波相比具有穿透性強(qiáng)、帶寬更寬、傳輸效率高的特點(diǎn)。太赫茲波本身具有低能量性、相干性、瞬態(tài)性以及很高的透射性,較好的相干性、寬帶性這些特點(diǎn)。目前來(lái)說(shuō),太赫茲波尚未被完全開(kāi)發(fā),因此該波段叫做“太赫茲鴻溝”[1-2]。
等離子體隱身技術(shù)是20世紀(jì)提出的一種非常規(guī)隱身技術(shù),目前美俄等軍事強(qiáng)國(guó)正在大力發(fā)展。這種技術(shù)的隱身機(jī)理實(shí)際上就是通過(guò)某種方法使飛行器的金屬表層上能形成一層等離子體。電磁波在非均勻等離子體中的碰撞吸收很大,該種隱身技術(shù)使得電磁波在非均勻等離子體薄層內(nèi)發(fā)生更多的吸收和折射,更少的反射,從而導(dǎo)致回波的能量降低,雷達(dá)更難發(fā)現(xiàn)目標(biāo)[3]。
近年來(lái),等離子體與太赫茲波的相互作用受到研究人員的關(guān)注。Kolner等人[4]研究了THz脈沖在等離子體中的傳輸特性。Glyavin等人[5]研究了THz輻射的產(chǎn)生及其與等離子體和氣體的相互作用。李茜等[6]研究了太赫茲波對(duì)抗等離子體隱身技術(shù)。蔣金等[7]研究了太赫茲波在非均勻等離子體鞘套中的傳播特性。陳文波等[8]研究了THz電磁波在時(shí)變非磁化等離子體中的傳播特性。楊玉明等[9]研究了太赫茲雷達(dá)反等離子體隱身技術(shù)。鄭靈等[10]研究了太赫茲波在均勻非磁化等離子體中的傳播特性。文獻(xiàn)[11]研究了塵埃等離子體中太赫茲波傳輸特性。董群鋒等[12]研究了太赫茲波在均勻非磁化等離子體中的傳播特性。陳春梅、周天翔等[13-14]分別研究了均勻磁化等離子體中太赫茲波的傳播特性。從目前研究來(lái)看,主要研究太赫茲波與非磁化等離子體、均勻等離子體的相互作用。文中應(yīng)用WKB近似法研究了太赫茲波斜入射到非均勻磁化等離子體的衰減特性,分析了太赫茲波入射頻率、碰撞頻率、電子密度、入射角度、外加磁場(chǎng)強(qiáng)度等因素對(duì)太赫茲波在磁化非均勻等離子體中衰減特性的影響。
文中考慮的是非均勻磁化等離子體,太赫茲波在等離子體中的傳輸模型如圖1所示[15],其中d為等離子體厚度。
圖1 太赫茲波在非均勻等離子體中傳輸模型
在一維的情況下,磁化冷等離子體的相對(duì)介電常數(shù)εr為[13]:
式中:ω為太赫茲波的入射頻率;ωp為等離子體頻率,;ωc為電子回旋頻率;e為電子電量;ne為電子密度;ε0為真空介電常數(shù);me為電子質(zhì)量;B為磁場(chǎng)強(qiáng)度;ven為有效碰撞頻率。
平面電磁波的色散關(guān)系為[15]:
式中:k0為自由空間波數(shù),k0=ω/c。
令電磁波的入射角為θ,則在第n層等離子體的入射角和回波的出射角分別為θn、θt。根據(jù)斯菲涅爾定律有:
式中:nn為第n層的等離子體折射率。當(dāng)電場(chǎng)沿y方向時(shí),非均勻磁化等離子體內(nèi)電磁波的波動(dòng)方程可寫(xiě)為:
那么第n層內(nèi)傳播的電磁波的場(chǎng)量可表示為:
式中:±表示波的傳播方向,向上或向下;x、y表示極化的方向。
由式(4)可得出非均勻等離子體內(nèi)電磁波的波動(dòng)方程為:
式(6)的WKB解為:
式中:E0為入射波電場(chǎng)強(qiáng)度;Ey為電場(chǎng)沿y方向的強(qiáng)度。
由于金屬邊界的存在,當(dāng)電磁波從z=d處以θ入射到等離子體內(nèi)部并在z=0處被反射回來(lái),則太赫茲波斜入射到非均勻磁化等離子體的雙程衰減為[15]:
式中:p表示透射功率;p0表示太赫茲波的入射功率;z表示等離子體的厚度;k1為等離子體中的波數(shù)。
等離子體中的電子密度分布是影響電磁特性的重要因素。通常情況下,等離子體的電子密度分布近似為Epstein分布,其表達(dá)式為[16]:
式中:σ1=0.1;σ2=1.0;n0為等離子體電子密度峰值;L為等離子體厚度。以下仿真的電子密度峰值取為1018m-3。
當(dāng)?shù)入x子體厚度為10 cm(分10層),電子密度峰值為1018m-3,入射角為30°,碰撞頻率為0.3 THz,外加磁場(chǎng)強(qiáng)度分別取3、5、7、9 T時(shí),外加磁場(chǎng)對(duì)太赫茲波衰減的影響如圖2所示??梢钥闯?,隨著外加磁場(chǎng)的增大,衰減的最大值向著太赫茲波頻率較高的方向移動(dòng)。隨著太赫茲波頻率的增大,衰減先增大后減小。引起上述情況的原因是:在恒定磁場(chǎng)下,等離子體中自由振蕩的電子將會(huì)以一定的回旋頻率在與磁場(chǎng)線垂直的平面內(nèi)做圓周運(yùn)動(dòng),電子運(yùn)動(dòng)將會(huì)被限制。
圖2 外加磁場(chǎng)對(duì)太赫茲波衰減的影響
當(dāng)?shù)入x子體厚度為10 cm,電子密度峰值為1018m-3,磁場(chǎng)強(qiáng)度為3 T,碰撞頻率為0.3 THz,入射角分別取0°、30°、50°、70°時(shí),入射角度對(duì)太赫茲波衰減的影響如圖3所示。可以看出,對(duì)于同一入射波頻率,入射角增大,衰減增大。這是由于入射角越大,太赫茲波在等離子體中傳播距離也就越大,等離子體中電子吸收的能量變大。
當(dāng)?shù)入x子體厚度為10 cm,入射角為60°,磁場(chǎng)強(qiáng)度為3 T,碰撞頻率為0.3 THz,電子密度峰值分別取1×1017、1×1018、1×1019m-3時(shí),等離子體電子密度對(duì)太赫茲波衰減的影響如圖4所示??梢钥闯觯S著電子密度峰值的不斷增大,衰減不斷增大。隨著太赫茲波入射頻率的不斷增大,衰減曲線呈下降趨勢(shì),這與文獻(xiàn)[14]結(jié)果一致。這是由于當(dāng)?shù)入x子體密度增加時(shí),等離子體中電子數(shù)目增多,入射電波與帶電粒子的碰撞概率增大,電子從入射電波中吸收更多的能量加速自身無(wú)規(guī)則運(yùn)動(dòng)。
當(dāng)?shù)入x子體厚度為10 cm,電子密度峰值為1018m-3,入射角為30°,磁場(chǎng)強(qiáng)度為3 T,碰撞頻率分別取0.1、0.13、0.15、0.17 THz時(shí),碰撞頻率對(duì)太赫茲波衰減的影響如圖5所示??梢钥闯觯S著碰撞頻率的不斷增大,衰減不斷變小。當(dāng)太赫茲波的入射頻率增大時(shí),衰減先增大后減小。其原因是:當(dāng)?shù)入x子體碰撞頻率增加時(shí),電子與中性粒子的碰撞幾率變大,通過(guò)碰撞傳給中性粒子的能量變大,從而導(dǎo)致衰減增加;但當(dāng)碰撞頻率過(guò)高時(shí),電子在碰撞前被電場(chǎng)加速的時(shí)間很短,未能從電場(chǎng)獲取更多的能量,從而導(dǎo)致衰減減小。
利用電子密度為Epstein分布的條件建立了一維非均勻磁化等離子體模型,通過(guò)仿真可以得出以下結(jié)論。
1)當(dāng)外加磁場(chǎng)強(qiáng)度增大時(shí),衰減的最大值向著較高太赫茲波頻率的方向移動(dòng)。
2)入射角度不斷增大,衰減不斷增大。
3)電子密度峰值不斷增大,衰減不斷增大。
4)碰撞頻率不斷增大,衰減不斷減小。
由此,可以通過(guò)調(diào)節(jié)外加磁場(chǎng)強(qiáng)度、等離子體電子密度和碰撞頻率,使得太赫茲波在等離子體中傳播的過(guò)程中衰減發(fā)生變化,為太赫茲雷達(dá)反等離子體隱身技術(shù)提供了重要參考。