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      巖溶地質(zhì)條件對(duì)花灘子水庫壩址選擇影響分析

      2019-06-28 06:53:54王銀軍
      水科學(xué)與工程技術(shù) 2019年3期
      關(guān)鍵詞:暗河壩址河谷

      王銀軍

      (貴州省水利水電勘測設(shè)計(jì)研究院,貴陽550002)

      1 工程概況

      擬建貴州省花灘子水庫位于清渡河上,該河流屬長江流域?yàn)踅担瑸闉踅患?jí)支流。壩址位于貴州省思南縣孫家壩鎮(zhèn)冉氏堂至花灘子河段,該河段河谷狹窄,分布巖性以硬質(zhì)巖為主。壩址之上主河道長45km,集雨面積452km2,河流多年平均流量8.37m3/s,多年平均徑流量2.64 億m3。建壩位置河床高程395~400m,正常蓄水位493m,壩高110m,水位抬升100m,水庫回水長度20km。水庫主要功能是以供水和灌溉為主的多功能水庫,正常蓄水位庫容1.2億m3,興利庫容1.0億m3,為大(2)型水庫。

      2 壩址工程地質(zhì)條件及評(píng)價(jià)

      根據(jù)地形、地質(zhì)條件,本工程在擬建壩河段選擇兩個(gè)壩址進(jìn)行比選。其中,冉氏堂附件的峽谷口位置為上壩址,其下游為下壩址,對(duì)兩個(gè)壩址地質(zhì)條件進(jìn)行評(píng)價(jià)。

      2.1 上壩址

      上壩址為河灣地形,適合建壩河段長300m。兩岸山體雄厚,無低矮埡口分布。河谷縱向上地形呈喇叭口形狀,上游寬闊,往下游逐漸收窄。橫向兩岸地形左陡右緩,為不對(duì)稱“V”型峽谷,正常蓄水位高程493.0m時(shí)河谷寬高比為2.3。建壩河段河床比降0.32%。

      該壩址位置分布地層巖性為二疊系下統(tǒng)棲霞組(P1q)及茅口組(P1m)中至厚層塊狀灰?guī)r,局部夾幾厘米至3m生物屑含黏土質(zhì)灰?guī)r或含有機(jī)質(zhì)鈣質(zhì)黏土巖。往河流上游分布有二疊系下統(tǒng)梁山組(P1l)及志留系中上統(tǒng)韓家店群(S2-3hn)石英砂巖、砂巖、泥質(zhì)粉砂巖、粉砂質(zhì)泥巖等碎屑巖。建壩巖體主要P1m、P1q灰?guī)r,巖質(zhì)堅(jiān)硬,抗風(fēng)化能力強(qiáng),其強(qiáng)溶蝕風(fēng)化層厚3~8m,弱溶蝕風(fēng)化層厚10~30m,微溶蝕風(fēng)化層厚20~40m。壩址處無斷裂發(fā)育,為單斜構(gòu)造,局部發(fā)育小揉皺。受小揉皺影響,巖層產(chǎn)狀略有變化,為270°~298°∠26°~35°,巖層總體傾下游略傾左岸,河谷總體為橫向谷。

      該壩址上游150m處河谷兩岸平緩處分布有崩塌堆積體,估算方量22.5萬m3,對(duì)建壩影響小。壩址峽谷兩岸懸崖邊上發(fā)育卸荷裂隙,其走向與懸崖基本平行。據(jù)統(tǒng)計(jì),上壩址位置主要發(fā)育5組裂隙。同時(shí),在棲霞組(P1q)及茅口組(P1m)灰?guī)r中局部夾軟質(zhì)巖(碎屑巖)夾層。除此之外,據(jù)平硐揭露,上壩址泥化夾層發(fā)育,主要發(fā)育于強(qiáng)溶蝕風(fēng)化帶巖體內(nèi),向深部逐漸尖滅,其發(fā)育深度一般小于15m。

      上壩址分布基巖巖質(zhì)堅(jiān)硬,雖局部軟質(zhì)巖夾層發(fā)育,強(qiáng)溶蝕風(fēng)化帶巖體內(nèi)軟弱泥化夾層發(fā)育,但構(gòu)造不發(fā)育,分布的崩塌堆積體距離建壩位置較遠(yuǎn)。因此,上壩址不存在嚴(yán)重制約建壩的工程地質(zhì)條件,經(jīng)工程措施處理后可建壩。

      2.2 下壩址

      下壩址位于上壩址下游約1.1km處,適合建壩河段長620m。兩岸山體雄厚,無低矮埡口分布。河谷縱向上地形呈喇叭口形狀,上游寬闊,往下游逐漸收窄。橫向兩岸地形左陡右緩,為基本對(duì)稱“V”型峽谷,正常蓄水位高程491.0m時(shí)河谷寬高比為2.2。建壩河段河床比降0.4%。

      該壩址位置分布地層巖性為二疊系上統(tǒng)長興組(P2c)灰、深灰色中厚、厚層狀灰?guī)r,局部夾泥質(zhì)灰?guī)r、炭質(zhì)灰?guī)r或炭質(zhì)泥巖,含燧石結(jié)核。建壩巖體總體巖質(zhì)堅(jiān)硬,抗風(fēng)化能力強(qiáng),其強(qiáng)溶蝕風(fēng)化層厚3~18m,弱溶蝕風(fēng)化層厚10~30m,微溶蝕風(fēng)化層厚20~30m。壩址處無斷裂發(fā)育,為單斜構(gòu)造,局部發(fā)育小揉皺。受小揉皺影響,巖層產(chǎn)狀略有變化,為265°~315°∠12°~34°,巖層總體傾下游,河谷為橫向谷。

      該壩址河谷兩岸坡腳分布有少量崩塌塊石,其方量小,對(duì)建壩影響小。壩址峽谷兩岸懸崖邊上發(fā)育卸荷裂隙,其走向與懸崖基本平行。據(jù)統(tǒng)計(jì),下壩址位置主要發(fā)育3組裂隙。同時(shí),在長興組(P2c)灰?guī)r中局部夾泥質(zhì)灰?guī)r、炭質(zhì)灰?guī)r或炭質(zhì)泥巖,厚0~2.0m,其延展性好。除此之外,強(qiáng)溶蝕風(fēng)化至弱溶蝕風(fēng)化上部巖體中發(fā)現(xiàn)泥化夾層發(fā)育,尤其是壩址左岸,據(jù)左岸平硐PD1揭露,該位置發(fā)育巖溶深槽,導(dǎo)致平硐26.9~36.0m處為溶蝕破碎帶,層間泥化夾層較發(fā)育。推測泥化夾層主要發(fā)育于強(qiáng)溶蝕風(fēng)化帶巖體內(nèi),向深部逐漸尖滅,其發(fā)育深度一般為15.0~20.0m,局部由于溶蝕深槽或溶蝕破碎帶的發(fā)育,泥化夾層發(fā)育深度可達(dá)30m。

      下壩址分布基巖巖質(zhì)堅(jiān)硬,雖局部軟質(zhì)巖夾層發(fā)育,強(qiáng)溶蝕風(fēng)化帶巖體內(nèi)軟弱泥化夾層發(fā)育,但構(gòu)造不發(fā)育,分布的崩塌堆積方量較小。因此,下壩址不存在嚴(yán)重制約建壩的工程地質(zhì)條件,經(jīng)工程措施處理后可建壩。

      3 巖溶地質(zhì)條件及評(píng)價(jià)

      3.1 上壩址

      上壩址上游200m的河谷左岸發(fā)育較大規(guī)模溶洞系統(tǒng),為干洞,其洞口有兩個(gè)(R1,R2),分布高程為459,453m。據(jù)溶洞測繪,該溶洞總體走向?yàn)镾49°W,與巖層走向(S45°W)基本一致,溶洞順巖層走向發(fā)育,其發(fā)育可探深度125m。溶洞內(nèi)發(fā)育大廳,最寬處10m,高15~20m。溶洞向山體內(nèi)規(guī)模逐漸變小,直至尖滅;在溶洞底部堆積有順巖層面剝落、坍塌的塊石,沖洪積的砂卵石等。由于溶洞位于上壩址左壩肩靠上游,距離壩址200m,與河床走向基本垂直,對(duì)建壩影響較小,對(duì)左岸防滲帷幕的形成影響較大。除此之外,未發(fā)現(xiàn)壩址發(fā)育較大規(guī)模巖溶,左岸巖體溶蝕作用相對(duì)較弱,右岸較強(qiáng),在河床高程之上巖體局部溶蝕嚴(yán)重,溶隙、溶孔等較發(fā)育。

      據(jù)鉆孔水位觀測,左、右岸地下水位均高于河水位,建壩河段屬補(bǔ)給型河谷,水力坡降為16%。

      該壩址共進(jìn)行鉆孔壓水試驗(yàn)184段,據(jù)統(tǒng)計(jì),呂榮值≥5Lu 的共41段,占22%;5Lu<呂榮值>3Lu的61段,占33%;呂榮值≤3Lu 的共82段,占45%?;?guī)r巖體內(nèi)透水性較好,反映P1m、P1q巖體內(nèi)縫合線、節(jié)理裂隙等較發(fā)育,巖體完整性較差。下伏的S2-3hn碎屑巖內(nèi)透水率普遍小于3Lu,巖體完整性較好,隔水性好。

      3.2 下壩址

      壩址鉆孔鉆進(jìn)中未發(fā)現(xiàn)掉鉆現(xiàn)像,未發(fā)現(xiàn)深部、較大規(guī)模巖溶發(fā)育。地表溶溝、溶槽、小溶洞等隨處可見。除此之外,下壩址左岸發(fā)育2個(gè)規(guī)模較大溶洞R3和R4。其中,R3發(fā)育高程500m,順巖層走向、垂直河谷走向發(fā)育,為干洞,洞深28m;R4發(fā)育高程520m,順巖層走向、垂直河谷走向發(fā)育,為干洞,洞深5m。這兩個(gè)溶洞發(fā)育高程高于擬建壩頂高程9m以上,規(guī)模較小,對(duì)建壩影響小。

      右岸發(fā)育1個(gè)大規(guī)模的溶洞(R5),如圖1~圖2。

      圖1 R5溶洞平面

      圖2 R5溶洞縱剖面

      R5溶洞發(fā)育于下壩址河谷右岸山腳下、壩址上游150m處,洞口高程412m。據(jù)調(diào)查,目前溶洞洞口高僅0.8m,洞口前由于下游花灘子電站修建,泥沙淤積嚴(yán)重,暴雨時(shí)有水溢出。該溶洞總體垂直河谷向山體內(nèi)、順巖層走向發(fā)育,最小處僅能成年人爬行通過,最大處寬度可達(dá)50m,高20~30m。溶洞內(nèi)發(fā)育3處巖溶大廳,最大面積可達(dá)1000m2。溶洞逐漸向高海拔處延伸,可測深度580m,盡頭為地下暗河。在靠近出口的兩個(gè)巖溶大廳內(nèi)分布一些灶臺(tái),據(jù)了解為解放前煉硝所用。由此可知,一是該洞分布有灶臺(tái)的溶蝕大廳為干洞;二是分布有灶臺(tái)的兩個(gè)溶蝕大廳往溶洞口段通風(fēng)良好,發(fā)育支洞較多,且與地表相通。

      同時(shí),在下壩址左岸均發(fā)育暗河系統(tǒng) (大槽暗河、黃蠟洞暗河及石門坎暗河系統(tǒng))。其中,大槽暗河系統(tǒng)基本垂直建庫河流—清渡河發(fā)育,由擬建下壩址位置流向?yàn)踅?,出口高?00m。據(jù)鉆孔水位觀測,暗河與清渡河間地下水位高程463.3m,低于擬建水庫正常蓄水位491.0m。

      黃蠟洞暗河系統(tǒng)位于下壩址右岸下游,由岸坡補(bǔ)給壩址下游的清渡河。該暗河基本垂直清渡河發(fā)育,為下壩址庫首地下低鄰谷。在下壩址下游右岸發(fā)育另一條暗河—石門坎暗河,與黃蠟洞暗河分別位于塘頭傾伏向斜兩翼,補(bǔ)給烏江,出口高程360m。

      據(jù)鉆孔水位觀測,左、右岸地下水位均高于河水位,該段河谷為補(bǔ)給型河谷。左岸地下水水力坡降為12%;右岸地下水位較低,僅比河水位高18m,地下水水力坡度較為平緩,為2%。

      該壩區(qū)鉆孔壓水試驗(yàn)共131段。據(jù)統(tǒng)計(jì),呂榮值≥5Lu的共36段,占27%;5Lu<呂榮值>3Lu的57段,占44%;呂榮值≤3Lu的共38段,占29%。從統(tǒng)計(jì)表可發(fā)現(xiàn),兩壩肩上部巖體受卸荷、溶蝕風(fēng)化等影響,完整性較差,透水性較好;河床位置進(jìn)入弱溶蝕風(fēng)化巖體中下部后,其透水性較差。

      3.3 各壩址對(duì)建壩的影響

      上、下壩址建壩位置均未發(fā)現(xiàn)較大規(guī)模溶洞,在進(jìn)入弱溶蝕風(fēng)化巖體內(nèi)時(shí),巖體透水率均較小,一般小于5Lu,為弱透水層,上、下壩址均不存在制約建壩的巖溶水文地質(zhì)條件。

      上壩址上游200m的河谷左岸發(fā)育較大規(guī)模溶洞系統(tǒng)(洞口編號(hào)為R1、R2),分布高程459,453m。該溶洞順巖層走向發(fā)育,可探深度125m。溶洞內(nèi)發(fā)育大廳,最寬處10m,高15~20m。溶洞向山體內(nèi)規(guī)模逐漸變小,直至尖滅。由于溶洞距離壩址較遠(yuǎn),與河床走向基本垂直,其對(duì)建壩影響小,對(duì)防滲帷幕影響較大。

      從安全角度考慮,上壩址防滲帷幕底界及端點(diǎn)深入下伏的韓家店群S2-3hn碎屑巖體內(nèi),為全封閉式帷幕,防滲帷幕長1.3km,防滲面積13.5萬m2。防滲處理后,在上壩址位置建壩具成庫條件。

      下壩址河谷左岸發(fā)育的大槽暗河系統(tǒng)基本垂直建庫河流—清渡河,由擬建下壩址位置流向?yàn)踅?,出口高?00m。暗河與清渡河間地下水位高程463.3m,低于擬建水庫正常蓄水位491.0m。右岸發(fā)育的黃蠟洞暗河位于下壩址下游右岸,由岸坡補(bǔ)給壩址下游的清渡河。該暗河基本垂直清渡河發(fā)育,為下壩址庫首地下低鄰谷。下游右岸發(fā)育另一條暗河—石門坎暗河,與黃蠟洞暗河分別位于塘頭傾伏向斜兩翼,補(bǔ)給烏江,出口高程360m。

      在壩址上游右岸150m處山腳下發(fā)育R5溶洞,洞口高程412m。溶洞總體垂直河谷、順巖層走向發(fā)育,最小處僅能成年人爬行通過,最大處寬度可達(dá)50m,高20~30m,面積可達(dá)1000m2。溶洞逐漸向高海拔處延伸,可測深度580m,盡頭為地下暗河。溶洞發(fā)育的支洞較多,且與地表相通。

      綜合分析,下壩址巖溶水文地質(zhì)條件復(fù)雜,從安全角度考慮,下壩址防滲帷幕端點(diǎn)只能向上游接韓家店群(S2-3hn)碎屑巖,其底界以區(qū)內(nèi)最低排泄基準(zhǔn)面—烏江河床360m高程進(jìn)行控制。防滲處理為懸托式帷幕,長2.3km,防滲面積28.6萬m2。處理后,下壩址位置建壩具成庫條件。

      綜合分析,上壩址采用全帷幕進(jìn)行防滲,雖然壩址左岸發(fā)育溶洞系統(tǒng),但其規(guī)模及復(fù)雜程度相對(duì)較簡單,經(jīng)混凝土澆筑封堵后,再采用灌漿進(jìn)行防滲處理,其處理難度相對(duì)較小。下壩址暗河、溶洞系統(tǒng)發(fā)育,巖溶水文地質(zhì)條件復(fù)雜,建庫防滲難度極大。且下壩址防滲采用懸托式帷幕,其可靠性相對(duì)全帷幕差。同時(shí),下壩址防滲工作量是上壩址的2倍有余。因此,在兩個(gè)壩址工程地質(zhì)條件相當(dāng)?shù)那闆r下,本次推薦上壩址作為進(jìn)一步研究壩址。

      4 結(jié)語

      (1) 擬建貴州省花灘子水庫位于烏江支流清渡河上,壩址區(qū)位置河谷狹窄,上、下壩址分布的基巖巖質(zhì)堅(jiān)硬,雖局部軟質(zhì)巖夾層發(fā)育,強(qiáng)溶蝕風(fēng)化帶巖體內(nèi)軟弱泥化夾層發(fā)育,構(gòu)造不發(fā)育,均不存在嚴(yán)重制約建壩的工程地質(zhì)條件,經(jīng)工程措施處理后均可建壩。

      (2)在上壩址河谷左岸發(fā)育溶洞系統(tǒng),但其規(guī)模相對(duì)較小,巖溶水文地質(zhì)條件相對(duì)較簡單。防滲帷幕采用全帷幕,帷幕線相對(duì)較短,處理難度相對(duì)較小。下壩址河谷兩岸暗河、溶洞系統(tǒng)發(fā)育,巖溶水文地質(zhì)條件復(fù)雜,建庫防滲難度極大,防滲工作量大。因此,選擇上壩址作為建庫壩址。

      (3)貴州省是碳酸鹽巖廣泛分布的省份,大部分水庫均建在碳酸鹽巖上,巖溶水文地質(zhì)條件決定了水庫成庫,也決定了壩址位置選擇。

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