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      高頻熱等離子體法合成納米ZrC粉體及其表征

      2019-08-31 01:56:22劉宏瑞趙彥偉白柳楊李軍平
      宇航材料工藝 2019年4期
      關(guān)鍵詞:炭黑粉體碳源

      劉宏瑞 趙彥偉 白柳楊 李軍平

      (1 航天材料及工藝研究所,北京 100076)

      (2 中國科學(xué)院過程工程研究所,北京 100190)

      文 摘 以炭黑和甲烷分別作為碳源,四氯化鋯作為鋯源,采用高頻熱等離子體法合成了超細ZrC粉體。分別采用XRD、高頻紅外燃燒、SEM、化學(xué)重量法對實驗產(chǎn)物進行了表征,分析了超細ZrC粉體的物相、純度、粒徑與碳源及進氣量之間的影響規(guī)律。研究表明:采用不同碳源所合成的ZrC粉體粒徑均在100 nm以下,相比較炭黑為碳源,甲烷作為碳源合成的產(chǎn)品純度高,氧含量低,產(chǎn)率大,因此,甲烷作為碳源更適于批量制備超細ZrC粉體。

      0 引言

      ZrC是一種耐腐蝕、高強度且化學(xué)穩(wěn)定性好的高溫結(jié)構(gòu)材料[1]。它綜合了金屬和陶瓷的特性,具有高熔點(3 813 K[2])、高維氏硬度(27 GPa[2-3])、高彈性模量(355 GPa[2,4])等優(yōu)異的物理性能。近年來,隨著可重復(fù)使用航天器、新型固體火箭發(fā)動機和高超音速宇宙飛船等新尖端項目的發(fā)展,對所需材料提出了工作溫度3 000℃以上并能在燒蝕環(huán)境下承受高壓氣流和高速粒子侵蝕的新要求,因此發(fā)展具有優(yōu)異抗燒蝕性能的材料已成為世界各國的研究熱點[5-8]。研究表明,TaC、ZrC、HfC等難熔金屬碳化物涂層或摻雜改性C/C復(fù)合材料可以提高其抗氧化能力、降低燒蝕率和承載更高的燃氣溫度或更長的工作時間[9-12],目前已成功在固體火箭噴管、航天器再入大氣層鼻錐、高超聲速前緣和飛機剎車盤等領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用[13-14]。相比較TaC和HfC,ZrC具有較低的密度和較低的成本,具有優(yōu)異的綜合性能。而高質(zhì)量的ZrC粉體原料對制備性能優(yōu)異的高溫ZrC陶瓷和ZrC改性C/C復(fù)合材料至關(guān)重要,因此制備高純超細ZrC粉體是ZrC發(fā)展的一個重要方向。

      ZrC粉體的主要制備方法包括直接合成法、自蔓延高溫合成法[15]、碳熱還原法[16]、機械化學(xué)法[17]和液相前驅(qū)體法[18]等,A.A.MAHDAY等[19]采用機械化學(xué)法,T.TSUCHIDA等[20]采用自蔓延高溫合成法,均利用固相方法具備合成過程簡單、反應(yīng)時間短、成本低等優(yōu)勢合成了ZrC,但是由于反應(yīng)速度太快,原料混合均勻度不理想等原因,反應(yīng)有時會進行得不完全,相應(yīng)造成雜質(zhì)較多,而且其反應(yīng)過程、產(chǎn)物結(jié)構(gòu)以及性能不容易控制。液相前驅(qū)體法采用的有機溶劑對人體有一定危害性,且污染環(huán)境。高頻感應(yīng)熱等離子體法利用高頻感應(yīng)線圈加熱,通過高純氬氣將碳源、鋯源載入到高溫等離子體區(qū)迅速加熱到反應(yīng)溫度,經(jīng)氣相反應(yīng)得到納米級ZrC粉末,而高頻感應(yīng)熱等離子體屬于無電極加熱,可避免電極污染,同時反應(yīng)器內(nèi)溫差很大,因此有益于得到純度較高的顆粒均勻分散的超細ZrC粉體。

      本文采用高頻熱等離子體法制備超細ZrC粉體,系統(tǒng)研究炭黑和甲烷分別做碳源對合成產(chǎn)物的影響,并探討單位時間進料量對合成產(chǎn)物純度的影響,為批量合成ZrC粉末提供理論依據(jù)。

      1 實驗

      1.1 主要原料

      試驗所用的ZrCl4(ZrCl4+HfCl4≥98%)由義縣金城鋯業(yè)有限公司提供,炭黑(乙炔炭黑)由福建省南平市首創(chuàng)化工有限公司提供,鎂粉(化學(xué)純)由國藥控股化學(xué)試劑有限公司提供,氬氣(99.999%)和甲烷氣體(99.999%)由北京普萊克斯實用氣體有限公司提供。

      1.2 實驗裝置

      試驗采用60 kW 高頻等離子體配套設(shè)備,如圖1所示,加料過程是熱等離子合成制備工藝中重要的一環(huán)。對于以炭黑為碳源的反應(yīng),將按反應(yīng)配比混合好的原料投入加料缸中,由加料系統(tǒng)將ZrCl4和炭黑的混合物經(jīng)螺旋加料器按照設(shè)定的加料速率以固體形式穩(wěn)定輸送至等離子體弧中進行反應(yīng);以甲烷為碳源的反應(yīng),加料缸中的ZrCl4經(jīng)加料系統(tǒng)輸入反應(yīng)部位,同時通過氣體流量計加入配比計量的CH4氣體,使兩者在反應(yīng)部位進行合成。ZrCl4的沸點很低,在進入熱等離子體弧高溫區(qū)域的瞬間就會蒸發(fā)為氣體,與相關(guān)的碳源反應(yīng)生成ZrC。

      圖1 高頻等離子體配套設(shè)備示意圖Fig.1 Schematic illustration of the experimental equipment

      1.3 實驗過程

      本實驗采用不同碳源,按照以下兩個方程式在高頻熱等離子體反應(yīng)器位置進行反應(yīng):

      開機實驗前,對反應(yīng)系統(tǒng)進行整體氣氛置換,用高純氬氣將系統(tǒng)內(nèi)空氣置換出來以達到降低系統(tǒng)氧含量目的。系統(tǒng)氣氛置換完成后起弧,電弧穩(wěn)定后將空載功率提升至額定工作功率對反應(yīng)系統(tǒng)進行預(yù)加熱。5~10 mins預(yù)熱后打開加料系統(tǒng)進行合成反應(yīng)加料。加料過程中,以炭黑作為碳源時,將ZrCl4、炭黑、鎂粉按照化學(xué)計量比在真空手套箱中先混合均勻,氬氣電離弧起弧穩(wěn)定后打開加料系統(tǒng)將混合均勻的反應(yīng)物加入反應(yīng)器中進行反應(yīng);以甲烷作為碳源時,先用高純氬氣做載氣將ZrCl4載入,在觀察到固體料進入等離子反應(yīng)系統(tǒng)后將載氣切換為甲烷,通過氣體流量計匹配化學(xué)反應(yīng),這樣可以避免作為反應(yīng)物的工作氣早于ZrCl4進入反應(yīng)系統(tǒng)從而提高產(chǎn)物純度。反應(yīng)結(jié)束后保持通水通氣直至系統(tǒng)冷卻。對冷卻后的反應(yīng)產(chǎn)物進行收集,然后通過后處理去除產(chǎn)物中未完全轉(zhuǎn)化的ZrCl4以及反應(yīng)過程中產(chǎn)生的雜質(zhì),最后,得到高純度的納米ZrC粉體。

      1.4 樣品表征

      采用德國布魯克公司D8型號X射線衍射儀對產(chǎn)品物相和結(jié)晶度進行分析并對結(jié)果進行晶粒尺寸計算,使用Apollo-300型號電子掃描顯微鏡和TecnaiG2F20場發(fā)射透射電子顯微鏡對產(chǎn)品顆粒的形貌和尺寸進行表征,用化學(xué)沉淀法對產(chǎn)品中Zr含量進行標定,使用高頻燃燒紅外法和惰氣脈沖紅外熱導(dǎo)法分別測定產(chǎn)品中的C、O含量。

      2 結(jié)果與討論

      2.1 碳源對產(chǎn)品純度和粒徑大小的影響

      采用不同碳源所合成產(chǎn)物,經(jīng)過酸洗和醇洗后獲得所需粉體,洗滌產(chǎn)率分別為:以炭黑為碳源合成產(chǎn)物洗滌產(chǎn)率約20%,而以甲烷為碳源合成產(chǎn)物洗滌產(chǎn)率為80%。圖2為不同碳源合成的產(chǎn)物洗滌后粉體的XRD譜圖??芍?,以炭黑為碳源所合成產(chǎn)物中除ZrC衍射峰外還有明顯的ZrO2衍射峰并伴有許多雜峰;而以甲烷為碳源所合成的產(chǎn)物的XRD譜圖的基線較平穩(wěn),產(chǎn)物中主要為ZrC相,僅含有少量ZrO2相。結(jié)合洗滌產(chǎn)率結(jié)果可推測,采用固體炭黑為碳源時,有很多原料未參與反應(yīng),原因是氣態(tài)ZrCl4和固態(tài)炭黑反應(yīng)為氣固反應(yīng),且炭黑沸點高難以進行氣化,動力學(xué)上不易實現(xiàn)均勻混合與反應(yīng),因此產(chǎn)物轉(zhuǎn)化率和純度均較低。而以甲烷為碳源的ZrC合成反應(yīng)比較徹底,該過程為氣氣反應(yīng),反應(yīng)物均勻混合參與反應(yīng),因此,產(chǎn)物有較高的轉(zhuǎn)化率和純度。

      圖2 不同碳源產(chǎn)物的XRD譜圖Fig.2 XRD patterns of ZrC synthesized with different carbon source

      圖3為不同碳源合成產(chǎn)物洗滌后粉體的電子掃描顯微鏡照片??梢姡煌荚此铣傻姆垠w粒徑相差不大,顆粒尺寸均小于100 nm。粉體團聚為軟團聚,通過超聲分散可以將大部分團聚顆粒打開,產(chǎn)品在液相中很穩(wěn)定,后處理洗滌后進行液固分離很困難,也說明了粉體粒徑較細且具有很好的分散性。

      圖3 不同碳源的產(chǎn)物的SEM照片F(xiàn)ig.3 SEM images of ZrC synthesized with different carbon source

      圖4為不同碳源合成產(chǎn)物洗滌后粉體的透射電子顯微鏡照片。可見,不同碳源所合成的ZrC的晶粒度均在30nm左右,采用炭黑碳源的ZrC產(chǎn)物的結(jié)晶度不好,多為非晶態(tài),與XRD結(jié)果相一致;而采用甲烷碳源的ZrC產(chǎn)物能在高分辨照片中發(fā)現(xiàn)大量納米晶(圖中圓內(nèi)),可見,以甲烷作為碳源的ZrC產(chǎn)物的結(jié)晶度更好,與XRD結(jié)果吻合。

      圖4 不同碳源的產(chǎn)物的TEM照片F(xiàn)ig.4 TEM images of ZrC synthesized with different carbon source

      2.2 進料量對產(chǎn)品產(chǎn)率和純度的影響

      影響原料轉(zhuǎn)化率的另一個主要因素是進料量。用炭黑作為碳源,增大單位時間進料量后產(chǎn)品產(chǎn)率由20%降到不足10%,而用甲烷作為碳源增大單位時間進料量產(chǎn)率保持穩(wěn)定,均維持在80%左右。圖5為不同進料量所合成產(chǎn)物經(jīng)過后處理洗滌后所得粉體的XRD譜圖??梢?,隨著進料量增大,ZrC與ZrO2衍射峰的相對強度降低,說明增大進料量,產(chǎn)物的反應(yīng)程度下降,反應(yīng)逐漸不完全。以炭黑作碳源所合成的產(chǎn)物譜圖中的基線不平現(xiàn)象加劇,結(jié)晶更不完善,反應(yīng)不完全的現(xiàn)象尤為明顯。而以甲烷作碳源的反應(yīng),增大進料量對其影響不大,依然可以得到較高純度的ZrC合成產(chǎn)物。表1為不同參數(shù)下ZrC產(chǎn)物的純度。

      表1 不同進料量、不同碳源產(chǎn)物的純度Tab.1 Purity of Zr C synthesized with different input value

      圖5 不同進料量、不同碳源產(chǎn)物的XRD譜圖Fig.5 XRD patterns of ZrCsynthesized with different input value

      3 結(jié)論

      采用高頻等離子體制備的ZrC粉體,無論碳源采用炭黑還是甲烷,均能得到平均粒徑小于100 nm的超細粉體,采用甲烷作為碳源能在較大投料速率下獲得純度較高的產(chǎn)品,且洗滌產(chǎn)率較高,因此采用甲烷作碳源更適合超細ZrC放大工業(yè)生產(chǎn)工藝。高頻熱等離子體法是一種有效制備超細高溫陶瓷粉體的途徑。

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