非接觸式測試技術(shù)在氣霧化制粉研究中的應(yīng)用

劉 楊，張國慶，李 周，許文勇，鄭 亮，袁 華，劉 娜

(中國航發(fā)北京航空材料研究院 先進高溫結(jié)構(gòu)材料重點實驗室，北京 100095)

1 前 言

氣霧化制粉是目前高品質(zhì)球形合金粉末主要的制備技術(shù)之一，所制備的粉末具有粉末成分均勻、粒徑小、雜質(zhì)氣體含量低、夾雜物含量較低、球形度較高等優(yōu)勢，可制備鎳合金、鈦合金、鋁合金、高速鋼以及金屬間化合物粉末，廣泛應(yīng)用于粉末冶金、增材制造、熱噴涂、釬焊等領(lǐng)域[1-3]。該方法屬于物理法制粉工藝，利用高速惰性氣流沖擊合金熔體，在剪切力的作用下將熔體破碎為細小液滴并最終凝固成粉末顆粒。

霧化過程是氣霧化制粉工藝的核心步驟，直接決定著終態(tài)合金粉末的性能，因此開展霧化過程研究對于提高粉末品質(zhì)具有重要意義，但是氣霧化過程時間尺度小，氣流速度快，溫度梯度大，涉及氣液固三相交互作用，是一種非常復(fù)雜的物理冶金過程，常規(guī)的測試手段無法有效地表征整個氣霧化過程，而在粒度測試方面也大多采用終態(tài)粉末檢驗的方法，存在時效性較差以及成本較高的缺點?；谝陨弦蛩?，采用有效的非接觸式測試技術(shù)研究氣霧化制粉過程非常必要。

本文根據(jù)氣霧化制粉工藝過程的特點，介紹了幾種通用性較高的非接觸式測試技術(shù)，論述了這些技術(shù)的原理、設(shè)備結(jié)構(gòu)以及其在霧化相關(guān)領(lǐng)域的應(yīng)用，為氣霧化制粉實驗研究提供指導(dǎo)。

2 非接觸式測試技術(shù)分類

氣霧化制粉過程屬于高溫超音速多相射流范疇，根據(jù)研究對象，將非接觸式測試技術(shù)按流場形貌、速度分布、液滴粒徑分布、溫度場4個類別分別進行闡述。

2.1 流場形貌測試技術(shù)

流場形貌測試技術(shù)在流體力學(xué)領(lǐng)域應(yīng)用較為成熟，包括示蹤粒子技術(shù)、壁面絲線技術(shù)以及光學(xué)技術(shù)等方法。在進行氣霧化制粉過程研究時，往往對霧化器出口區(qū)域的流場更為關(guān)注，霧化介質(zhì)氣流和熔融金屬在該區(qū)域發(fā)生交互作用，該區(qū)域是霧化過程發(fā)生的關(guān)鍵區(qū)域。為了追求較高的細粉末收得率，氣霧化制粉設(shè)備大多采用收斂型(convergent，C)或收斂發(fā)散型(convergent-divergent，C-D)霧化器，加載壓力通常大于1 MPa，導(dǎo)致霧化器出口區(qū)域氣流往往處于欠膨脹超音速流動狀態(tài)，氣流密度也隨之發(fā)生波動，采用紋影技術(shù)可有效地對霧化關(guān)鍵區(qū)域進行研究分析。

紋影技術(shù)作為一種經(jīng)典的流體形貌顯示技術(shù)，具有結(jié)構(gòu)簡單、可移植性強的特點，廣泛應(yīng)用于流體流動行為的測量與研究，其理論基礎(chǔ)是格拉德斯通-代爾(Gladstone-Dale)定律，即可壓縮流體折射率和其組分密度相關(guān)，其表達式為下式(1)：

(1)

其中n為氣體折射率，Ki為組分i的Gladstone-Dale常數(shù)，ρi為組分i的密度[4]。該方法原理如圖1所示，整個紋影系統(tǒng)由氣瓶、閥門、霧化器、鹵鎢燈、狹縫、凹面鏡、發(fā)射鏡、刀口以及高速攝影機組成。鹵鎢燈光源通過狹縫和凹面鏡照射拍攝區(qū)域后聚焦在刀口位置，最后被相機捕捉，拍攝區(qū)域因氣流擾動會引起光線在刀口面偏折，光線偏折會導(dǎo)致在相機接收位置出現(xiàn)強度襯度，從而反映出流場的特征。

圖1 霧化器流場紋影系統(tǒng)結(jié)構(gòu)示意圖Fig.1 Schematic diagram of atomizer schlieren system

ünal[5]利用紋影設(shè)備對一種C-D型環(huán)縫霧化器流場進行了研究，研究表明：隨著壓力的增大，霧化器流場激波和膨脹波的分布發(fā)生改變(圖2)，因而出現(xiàn)波動破碎和成膜破碎兩種霧化行為。通過分析波動行為，發(fā)現(xiàn)導(dǎo)流管伸出長度對霧化流場具有重要影響，為了保證氣流充分膨脹做功，即霧化方式為成膜破碎，導(dǎo)流管臨界伸出長度應(yīng)小于H(如式(2)):

(2)

其中a為霧化器環(huán)縫寬度；θ=arcsin(1/M)，為環(huán)縫出口處的馬赫角(M為馬赫數(shù))。當(dāng)導(dǎo)流管伸出長度大于H,則會形成較長的擴散波，降低霧化效率。

圖2 不同壓力條件氣流場紋影圖[5]：(a)1.05 MPa, (b) 1.65 MPa, (c) 2.4 MPaFig.2 Schlieren images of gas flow field under different pressures[5]: (a) 1.05 MPa, (b) 1.65 MPa, (c) 2.4 MPa

Mates等[6]采用經(jīng)典結(jié)構(gòu)的紋影設(shè)備，研究了兩種結(jié)構(gòu)緊密耦合霧化器的流場特征，研究發(fā)現(xiàn)速度駐點位置靜壓和環(huán)境背壓比值為52～55，即Po/Pa∈[52, 55]條件下，C型霧化器氣流場形態(tài)由開渦狀態(tài)(圖3a)變?yōu)殚]渦狀態(tài)(圖3b)，并且在Po/Pa=55時，流場駐點下游位置出現(xiàn)了馬赫盤(圖3b)；C-D型霧化器達到閉渦狀態(tài)需要的壓比更大，在壓比達到52時(圖3d)也沒有出現(xiàn)準(zhǔn)閉渦形貌。

圖3 不同壓比條件下氣流場紋影圖[6]:(a) C型，Po/Pa=45; (b) C型，Po/Pa=55; (c) C-D型，Po/Pa=41; (d) C-D型，Po/Pa=52Fig.3 Schlieren images of gas flow field under different pressure ratios[6]: (a) Type C, Po/Pa=45; (b) Type C, Po/Pa=55; (c) Type C-D, Po/Pa=41; (d) Type C-D, Po/Pa=52

在此基礎(chǔ)上，Mates等[7]利用紋影技術(shù)研究了錫合金霧化過程中的流場形貌特征，分析了初始霧化區(qū)域和二次霧化區(qū)域的特征。研究表明：在壓比Po/Pa=50、氣液比GMR=2.0的條件下，初始霧化過程為一種快速破碎機制，而不是通常認為的膜狀破碎機制。液態(tài)錫在導(dǎo)流管末端位置被霧化氣流分離開，這種模式類似于同軸燃油霧化器的破碎方式，該過程產(chǎn)生的細微液滴較少，主要剝離出較大尺寸液滴(圖4a)。二次霧化主要發(fā)生在導(dǎo)流管下游位置，距離為10個導(dǎo)流管直徑，在此區(qū)域部分初始霧化形成的大液滴受氣流剪切力作用以剝離的方式破碎為細小的液滴，這些微滴趨向于在渦結(jié)構(gòu)末端聚集，與此同時未被破碎的大液滴產(chǎn)生了明顯的“質(zhì)量過載效應(yīng)”，即霧化氣流不足以完成所有大液滴的二次破碎，從而導(dǎo)致液滴對原始氣流場的渦流形貌產(chǎn)生干擾(圖4b)。

圖4 錫合金霧化過程紋影圖[7]：(a) 初始霧化區(qū)域，(b) 二次霧化區(qū)域Fig.4 Schlieren images of Tin alloy atomization process[7]:(a) primary atomization area，(b) secondary atomization area

2.2 速度分布監(jiān)測技術(shù)

流場速度測試技術(shù)主要有熱線風(fēng)速儀(hot-wire anemometry)、激光多普勒測速(laser Doppler velocimetry，LDV)技術(shù)以及粒子圖像測速(particle image velocimetry，PIV)技術(shù)等方法。熱線風(fēng)速儀是利用在流場中放置的恒溫?zé)峋€，測量因?qū)α鲗?dǎo)致的溫度變化，該變化與流體速度有關(guān)，從而可以獲得流體速度，但是該方法是一種接觸式測量方法，一定程度上會干擾流場，同時該方法對于高頻低速流動測量結(jié)果誤差較大，并且測量結(jié)果無法表征整個速度場的分布[8]。激光多普勒測速技術(shù)和粒子圖像測速技術(shù)是非接觸式速度場測量方法，本節(jié)將對這兩種方法進行分析。

2.2.1 激光多普勒測速技術(shù)

激光多普勒測速技術(shù)是利用激光多普勒效應(yīng)測量流體運動速度的一種非接觸式測量技術(shù)，在航空航天、能源、化工等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。其原理是運動粒子穿過雙束激光產(chǎn)生的干涉條紋區(qū)域，會散射出光強度隨時間變化的多普勒信號，該信號頻率與粒子速度有關(guān)，采用探頭接收此信號并用式(3)計算，就可以測出粒子速度u：

(3)

其中α為雙束激光半交角，λ為入射波長，fD為多普勒頻率[9]。激光多普勒測速系統(tǒng)主要包括激光器、發(fā)射和接收探頭、信號處理器以及計算機，如圖5所示，具有結(jié)構(gòu)簡單和可移植性強的優(yōu)勢，在霧化器單相氣流場研究中，通過空壓機和粒子發(fā)生器添加一定比例的示蹤粒子可以測量氣流場速度；在多相霧化過程中，也可以利用霧化液滴作為示蹤粒子測量液滴速度。

圖5 激光多普勒測速系統(tǒng)示意圖Fig.5 Schematic diagram of laser Doppler velocimetry system

Sou等[10]采用計算機模擬和LDV實驗結(jié)合的方法研究了一種L型霧化器結(jié)構(gòu)內(nèi)部液相流動行為，模型網(wǎng)格按結(jié)構(gòu)化網(wǎng)格劃分，數(shù)量為280萬個，實驗流體選擇液態(tài)水并混合了平均粒徑3 μm的SiC顆粒，補償LDV信號強度。圖6為霧化器不同水面平均速度和湍流速度的模擬與實驗結(jié)果，其中z為距離霧化器凸臺距離，流動輸入壓力保持P=0.22 MPa，入射速度v=12.8 m/s，雷諾數(shù)Re=27 700。通過對比可以看出，采用Smagorinsky和Vreman兩種亞網(wǎng)格模型在該工況條件下結(jié)果具有很好的一致性，與LDV測量的平均速度趨勢和絕對值吻合度較高；而在z=1.5 mm位置，計算的均方湍流速度顯著低于LDV測量值，經(jīng)過分析認為，可能與該位置距離凸臺較近，網(wǎng)格尺寸較粗有關(guān)，在z=3，6 mm位置，計算結(jié)果具有較高精度。

圖6 不同水面平均速度和湍流速度的模擬曲線與實驗結(jié)果[10]: (a)平均速度，(b) 均方湍流速度Fig.6 Simulation curves and experiment results of mean and turbulence velocities at different horizontal location[10]: (a) mean velocity and (b) RMS of turbulence velocity

2.2.2 粒子圖像測速技術(shù)

粒子圖像測速技術(shù)是基于粒子測速來獲得流體速度場分布的測試技術(shù)，是目前應(yīng)用最為廣泛的非接觸式流體測速方法之一，該方法具有精度高、設(shè)備結(jié)構(gòu)簡單、可移植性強的優(yōu)點。其原理為利用雙脈沖激光在固定的時間間隔以片光的形式對流場示蹤粒子進行照射，曝光照片被CCD相機捕捉(相機設(shè)置在與光源入射方向呈90°的水平位置)，照片經(jīng)過計算機數(shù)字圖像處理進而獲得了整個拍攝流場的速度場信息[11]。其中示蹤粒子一般采用空壓機將其注入流場，對于氣霧化制粉設(shè)備也可以利用霧化液滴作為示蹤粒子，其典型結(jié)構(gòu)如圖7所示。該方法理論基礎(chǔ)為經(jīng)典速度計算公式，如式(4)：

(4)

其中Δx為同一個示蹤粒子的位移，Δt為兩次曝光照片的時間間隔，對照片進行網(wǎng)格微區(qū)灰度函數(shù)傅里葉變換，計算出每一顆示蹤粒子的位移矢量，從而獲得整個速度場分布圖[12]。

圖7 粒子圖像測速系統(tǒng)示意圖Fig.7 Schematic diagram of particle image velocimetry system

Lampa等[13]利用大渦模擬(large eddy simulation，LES)湍流模型模擬了一種緊密耦合霧化器爐內(nèi)流場分布，并利用2D-PIV技術(shù)對該流場進行了研究，其霧化工況條件為壓力P=0.5 MPa、氣液比GLR=0.64，PIV相機觀測區(qū)域尺寸為57 mm×57 mm。首先研究了軸線位置100～150 mm范圍內(nèi)的速度分布，結(jié)果表明，采用LES湍流模型計算的速度值與PIV測量值一致性較高，計算的速度標(biāo)準(zhǔn)差和PIV測量的標(biāo)準(zhǔn)差基本保持一致(圖8a)。對于徑向方向，模擬的速度值和標(biāo)準(zhǔn)差均與PIV測量值保持了較高的一致性，相比于軸線方向，徑向方向速度計算的絕對值略低于PIV測量結(jié)果(圖8b)。

圖8 模擬和實驗所得的軸線方向(a)和徑向方向(b)的速度分布[13]Fig.8 Simulated and experimental velocity distribution in axial (a) and radial (b) direction[13]

圖9為霧化流場PIV速度矢量圖，該矢量圖反映出霧化流場邊界存在大尺寸和小尺寸的渦流結(jié)構(gòu)，液滴受渦流結(jié)構(gòu)的影響出現(xiàn)了團聚，具體可以分為兩種情況：一種是液滴受大尺寸渦流影響直接團聚(t2)，另一種是液滴趨向具有高變形速率和低湍流強度的小尺寸渦流團聚(t1)，該結(jié)論也和Li等[14]的研究結(jié)果類似。

圖9 利用PIV技術(shù)獲得的霧化流場速度矢量圖[13]Fig.9 Velocity vector diagram of spray cone by PIV technology[13]

Kirmse[15]利用PIV技術(shù)測量了一種用于真空感應(yīng)熔煉制粉設(shè)備的環(huán)縫式霧化器的流場，導(dǎo)流管內(nèi)徑為4 mm，霧化壓力為3.0 MPa，合金液材料選擇X5CrNi18-10鋼，PIV觀測區(qū)域位于導(dǎo)流管末端下游7 mm位置，觀測尺寸保持在90 mm×120 mm。圖10為PIV測量后擬合得到的瞬態(tài)速度云圖，研究表明液流霧化破碎位置位于距離導(dǎo)流管末端60 mm處，并且速度保持在120～210 m/s范圍，這也和Zeoli等[16]采用模擬計算方法得到的結(jié)果一致。

圖10 利用PIV技術(shù)獲得的霧化流場瞬態(tài)速度云圖[15]Fig.10 Contour map of instantaneous velocity magnitude of spray cone by PIV technology[15]

2.3 液滴粒徑分布測試技術(shù)

液滴尺寸測量技術(shù)依據(jù)原理主要分為直接圖像法、光強度法、時間漂移法、脈沖延遲法以及干涉法[17]，霧化過程產(chǎn)生的液滴屬于高溫熔融狀態(tài)的重粒子，同時考慮到霧化爐體設(shè)備結(jié)構(gòu)，選擇基于干涉法的相位多普勒分析(phase Doppler anemometry，PDA)技術(shù)能有效測試霧化過程中的液滴粒度分布。

PDA技術(shù)是在激光多普勒測速技術(shù)上發(fā)展而來，是用于測量流體中顆粒流動的速度和粒徑分布的方法，通過放置多個探頭，每個探頭接收到相同頻率的多普勒信號，但是這些信號間存在一定的相位差，這個相位差正比于粒子的直徑，對相位信息按式(5)進行處理得到粒子直徑Dp：

(5)

其中Lf為透鏡焦距，δ為激光干涉條紋間距，ψ為相位差，ΔL為兩探頭距離，K為光學(xué)常數(shù)[18]。PDA系統(tǒng)在氣霧化制粉設(shè)備中的安裝結(jié)構(gòu)如圖11所示，整個系統(tǒng)包括激光器、發(fā)射探頭、兩個接收探頭、信號處理器、控制軟件幾個部分。

圖11 相位多普勒系統(tǒng)示意圖Fig.11 Schematic diagram of phase Doppler anemometry system

Ziesenis等[19]采用PDA系統(tǒng)對銅合金噴射成形過程進行了在線測試分析，將PDA雙束光設(shè)置于霧化器和沉積器中間位置(圖12)。研究表明，增大霧化壓力會提高銅合金液流破碎效果，在z=350 mm、r=0 mm位置，隨著霧化壓力從0.1增加到0.4 MPa ，液滴z軸速度分量最大達到了80 m/s，與此同時平均粒徑從130降低至100 μm(圖13)；此外分析PDA結(jié)果可知，粒徑200 μm以內(nèi)的液滴占比較高，并且液滴尺寸越大，z軸速度分量越小(圖14)。

圖12 霧化錐PDA測試照片[19]Fig.12 PDA measurement image of spray cone[19]

圖13 不同霧化壓力條件下液滴尺寸和速度的PDA測量結(jié)果[19]Fig.13 PDA-measured mean particle diameter and velocity dependent on the atomization gas pressure[19]

圖14 根據(jù)PDA測量結(jié)果得到的液滴尺寸分布和速度分布[19]Fig.14 Particle size distribution and velocity distribution by analyzing PDA-measured results[19]

Belhadef等[20]利用PDA技術(shù)對一種壓力旋流霧化器流場進行了研究，首先利用計算流體力學(xué)(computational fluid dynamics, CFD)技術(shù)對該結(jié)構(gòu)的霧化流場進行了仿真計算，湍流模型選擇雷諾應(yīng)力模型，壓力條件為0.4～0.8 MPa；在數(shù)值模擬的基礎(chǔ)上利用PDA技術(shù)進行實際流場液滴速度和尺寸的測試，觀測范圍從霧化器出口位置沿軸向y=30 mm位置開始。圖15為軸向液滴平均速度分布曲線，對比發(fā)現(xiàn)模擬得到液滴速度和PDA實際測量值吻合度較高；圖16為不同軸向位置徑向液滴索爾特平均粒徑(Sauter mean diameter,SMD)分布曲線，結(jié)果表明模擬計算得到的液滴粒徑尺寸和分布規(guī)律接近PDA測試結(jié)果，證明采用數(shù)值模擬和PDA結(jié)合的方法可以有效預(yù)測霧化液滴特征。

圖15 軸向液滴平均速度分布曲線[20]Fig.15 Distribution curves of axial droplet mean velocity[20]

圖16 不同軸向位置徑向液滴索爾特粒徑分布曲線[20]Fig.16 Distribution curves of radial droplet SMD at different axial locations[20]

2.4 溫度場測試技術(shù)

霧化制粉是一個快速凝固過程，合金從高溫熔融狀態(tài)凝固為離散粉末態(tài)，開展霧化過程溫度場研究對于改進粉末工藝、優(yōu)化爐體結(jié)構(gòu)以及調(diào)整粉末組織性能具有重要意義。目前非接觸式溫度測試技術(shù)主要有輻射測溫(radiation thermometry，RT)技術(shù)、平面激光誘導(dǎo)熒光(planar laser induced fluorescence，PLIF)技術(shù)、相干反斯托克斯拉曼散射(coherent anti-stokes Raman scattering，CARS)技術(shù)以及濾波瑞利散射(filtered Rayleigh scattering，F(xiàn)RS)技術(shù)。

2.4.1 輻射測溫技術(shù)

輻射測溫技術(shù)是利用熱輻射體輻射特性和溫度之間的函數(shù)關(guān)系測量其表面溫度，由于材料不同狀態(tài)發(fā)射率具有不確定性，會導(dǎo)致結(jié)果出現(xiàn)較大偏差，同時在氣霧化制粉中爐體環(huán)境溫度較高，環(huán)境輻射較強會干擾測試結(jié)果[21, 22]。

2.4.2 平面激光誘導(dǎo)熒光技術(shù)

平面激光誘導(dǎo)熒光技術(shù)是通過激光誘導(dǎo)熒光劑產(chǎn)生熒光，熒光強度是溫度的函數(shù)，通過計算可以獲得溫度場信息[23]，但是該方法需要在測試中添加熒光劑，并不適合在氣霧化制粉設(shè)備中進行操作，同時熒光劑的添加也會導(dǎo)致制粉設(shè)備的污染問題。

2.4.3 相干反斯托克斯拉曼散射技術(shù)

相干反斯托克斯拉曼散射技術(shù)是一種測量精度較高的非接觸式測溫方法，在燃燒、化工等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛，原理是利用3束定頻激光的非線性效應(yīng)在被測介質(zhì)中激發(fā)第4束光，也稱為CARS光，CARS光譜強度為溫度的函數(shù)，因此可以計算出溫度信息，該方法的局限性在于僅僅能測量一維溫度，即單點溫度，想要獲得二維溫度信息需要進行定點掃描，并不適合氣霧化制粉過程測溫[24, 25]。

2.4.4 濾波瑞利散射技術(shù)

濾波瑞利散射技術(shù)是在瑞利散射技術(shù)基礎(chǔ)上發(fā)展而來，相比前幾種測溫技術(shù)，濾波瑞利散射技術(shù)具有測量精度高、可移植性強以及可以測量溫度場信息等優(yōu)勢，是一種較新的非接觸式流場測量方法，設(shè)備較為昂貴，目前應(yīng)用主要集中在燃燒、等離子噴涂領(lǐng)域，在霧化領(lǐng)域還沒有得到普及應(yīng)用，但是該方法原理和操作性適用于氣霧化工藝的研究[26, 27]。

依據(jù)米氏散射原理，當(dāng)米氏因子aM=2πr/λ滿足aM?1時，散射即為瑞利散射，其散射強度與米氏因子單調(diào)相關(guān)，利用分子濾波系統(tǒng)過濾掉散射信號中的米氏散射和光學(xué)結(jié)構(gòu)散射信號，保留和溫度相關(guān)的瑞利散射信號，通過與已知環(huán)境瑞利散射強度(通常為空氣和室溫狀態(tài))對比計算可獲得溫度場信息，具體表達式如式(6)：

(6)

(7)

其中SFRS為測得的瑞利散射強度,是溫度T的函數(shù)，xi為組分i的摩爾分?jǐn)?shù)，Di為瑞利散射微分截面，Ri為瑞利散射曲線函數(shù)，v為激光頻率，ΔfD為散射光的多普勒頻率，Mi組分i摩爾質(zhì)量，對于氣霧化制粉過程，組分通常為氬氣或氮氣[28-30]。典型的濾波瑞利散射系統(tǒng)由脈沖激光器、種子激光器、像增強數(shù)字相機、碘分子濾波器、同步控制器、計算機等部件組成(圖17)。

圖17 濾波瑞利散射系統(tǒng)示意圖Fig.17 Schematic diagram of filtered Rayleigh scattering system

Boguszko等[31]采用FRS設(shè)備研究了一種C型噴嘴射流場特征，噴嘴出口尺寸為6 mm，加載壓力分別為151，188，275和364 kPa，ICCD相機觀測區(qū)域尺寸為18 mm×27 mm。圖18為不同壓力條件下獲得的射流溫度場云圖，計算得出4種工況條件下出口位置的馬赫數(shù)分別為0.8，1.0，1.3和1.5，溫度場分布也隨馬赫數(shù)的增加出現(xiàn)了明顯的超音速射流形貌特征，激波和膨脹波隨著射流距離的增大而衰減，符合經(jīng)典等熵流動理論。

圖18 不同馬赫數(shù)FRS溫度場云圖[31]Fig.18 Contour map of temperature under different Mach number by FRS technology[31]

3 結(jié) 語

本文重點介紹了非接觸式測試技術(shù)在氣霧化制粉研究中的應(yīng)用，分別從制粉工藝中關(guān)鍵的流場形貌、流場速度分布、液滴尺寸分布以及溫度場4個方面進行了綜述，闡述了幾類技術(shù)的原理和設(shè)備結(jié)構(gòu)，介紹了其在氣霧化制粉領(lǐng)域應(yīng)用研究成果?？傮w而言，氣霧化制粉設(shè)備屬于真空容器，壁面觀察窗尺寸、數(shù)量、位置等都有一定的要求，因此具有多種功能的、尺寸較小、可移植性強以及成本相對較低的非接觸式測試技術(shù)是未來的發(fā)展方向。

目前以增材制造為代表的先進制造技術(shù)帶動了整個氣霧化制粉行業(yè)的發(fā)展，同時對合金粉末提出了高品質(zhì)低成本的要求，面對行業(yè)的巨大需求，開展氣霧化制粉工藝優(yōu)化控制是氣霧化制粉從業(yè)者所努力的方向，同時也是推動行業(yè)發(fā)展的必經(jīng)之路，而采用先進非接觸式測試技術(shù)則是開展氣霧化制粉研究工作的必要手段。