張文俊 梁棟 郭麗瀟 鄧少剛
(中國輻射防護(hù)研究院 太原 030006)
隨著綠色能源太陽能開發(fā)利用規(guī)模的逐漸增大,多晶硅作為光伏電池的原料,其用途用量也逐漸增多,在國內(nèi)的數(shù)量呈幾何增長[1]。據(jù)統(tǒng)計(jì),近年來國內(nèi)多晶硅kt級項(xiàng)目投產(chǎn)量多達(dá)幾十個(gè)[2]。當(dāng)前生產(chǎn)多晶硅的主要方法是改良西門子法,采用這種方法每生產(chǎn)1 t多晶硅就會產(chǎn)生10~15 t四氯化硅副產(chǎn)物,我國每年四氯化硅副產(chǎn)物產(chǎn)量已大于90萬t,而四氯化硅的消耗量遠(yuǎn)未達(dá)到該量,導(dǎo)致四氯化硅儲量與日俱增,其安全儲存及應(yīng)急處置成為不可忽視的問題。
純四氯化硅為無色透明液體、無毒,純度稍低的 呈微黃或淡黃色,有刺激性氣味。常溫常壓下密度為1.48 g/cm3,熔點(diǎn)為-70 ℃,沸點(diǎn)為 57.6 ℃,沸點(diǎn)隨著壓力增大而升高。其能和醇類起劇烈反應(yīng);可溶于四氯化碳、四氯化鈦、四氯化錫;與水接觸可發(fā)生分解,得到硅酸或原硅酸和氯化氫,同時(shí)冒出“白煙”,產(chǎn)熱,發(fā)生的反應(yīng)方程式為
(1)
或
(2)
硅酸的相對密度大,易下沉,有較弱的毒性作用,但氯化氫有較強(qiáng)的毒性作用,同時(shí)與水反應(yīng)得到鹽酸,鹽酸也有較強(qiáng)的毒性作用。因此,四氯化硅中毒原因主要為鹽酸及熱量對人體產(chǎn)生的侵害[3]。
近年來,國內(nèi)發(fā)生數(shù)起四氯化硅儲罐泄漏或四氯化硅儲罐被盜導(dǎo)致泄漏的事件,造成了大面積的人員吸入中毒、植物枯死的后果,產(chǎn)生較大的社會影響[4]。
從已有四氯化硅發(fā)生泄漏事故的處理情況看,主要是采取應(yīng)急處理人員戴自給式呼吸器,穿化學(xué)防護(hù)服,在確保安全情況下堵漏,并噴水霧減慢揮發(fā)(或擴(kuò)散),但不對泄漏物或泄漏點(diǎn)直接噴水,將地面灑上蘇打灰,然后用大量水沖洗,經(jīng)稀釋的洗水排入廢水系統(tǒng)。
這種方案消耗大量的水對四氯化硅與水反應(yīng)產(chǎn)生的硅酸、氯化氫氣溶膠顆粒進(jìn)行壓制,減輕其擴(kuò)散;而在減輕其擴(kuò)散的同時(shí),使用大量的水也擴(kuò)大了對周邊土壤環(huán)境的影響范圍。
氣溶膠壓制技術(shù)是近年來發(fā)展起來的一種針對氣溶膠污染控制的新方法。主要利用霧化發(fā)生裝置,將壓制劑霧化為μm級的霧滴,噴入處理區(qū)域,與待處置的塵?;驓馊苣z粒子發(fā)生碰撞、凝并等,將塵?;驓馊苣z粒子迅速沉降下來。這種方法的優(yōu)點(diǎn)是霧化后的霧滴與氣溶膠粒子粒徑相近,而壓制劑粒徑與塵粒粒徑之比越小,對其捕獲效率越高[5],用液量少,并且在壓制劑內(nèi)可添加中和性材料,進(jìn)一步降低有毒物質(zhì)的毒性。
本研究建立了流體動力型霧化裝置,并根據(jù)泄漏產(chǎn)生HCl氣溶膠的實(shí)際情況,研制了含有碳酸氫鈉的壓制劑,用以在壓制過程中中和其酸性。通過調(diào)節(jié)流體動力型霧化裝置的工作條件,霧化裝置可將壓制劑霧化為粒徑非常小的霧滴。氣溶膠粒徑譜儀分析表明,該壓制劑霧化后的霧滴平均粒徑小于5 μm,而普通工業(yè)噴水裝置產(chǎn)生的水霧的平均粒徑為100 μm左右,大大提高壓制劑霧滴與有毒氣溶膠粒子的結(jié)合效率。試驗(yàn)中,將壓制劑用霧化裝置霧化為霧滴后,通入充滿四氯化硅與水反應(yīng)生成的氣溶膠試驗(yàn)倉內(nèi),對其中的有毒氣溶膠進(jìn)行壓制,驗(yàn)證其壓制效果,為四氯化硅泄漏事故應(yīng)急處理提供一種可行的方法。
主要材料包括壓制劑(自研),流體動力型霧化裝置(自制),模擬氣溶膠發(fā)生箱(自制),3 m3試驗(yàn)倉(自制),氯化氫濃度測量儀(10~1 000 ppm),秒表,Welas 2000氣溶膠粒徑譜儀,2070傳感器(粒徑范圍0~40 μm)。
在溫度環(huán)境控制段采用加濕器控制空氣環(huán)境濕度90%,開啟軸流風(fēng)機(jī),取5 mL四氯化硅溶液置于手套箱內(nèi)蒸發(fā)皿中,使四氯化硅與空氣中的水蒸氣反應(yīng)生成氣溶膠并用風(fēng)機(jī)輸送至3 m3試驗(yàn)倉內(nèi)。
霧化發(fā)生裝置產(chǎn)生的壓制劑霧滴通過輸送管路通入試驗(yàn)倉內(nèi)進(jìn)行壓制。
應(yīng)用HCl濃度檢測儀,適時(shí)記錄試驗(yàn)倉內(nèi)HCl濃度變化。試驗(yàn)裝置如圖1所示。
圖1 四氯化硅氣溶膠壓制試驗(yàn)裝置
(1)氣溶膠自然沉降試驗(yàn)
將四氯化硅與水蒸氣反應(yīng)生成的氣溶膠霧滴輸送至試驗(yàn)倉內(nèi),輸送完成后,關(guān)閉風(fēng)機(jī),停止送風(fēng),使其在試驗(yàn)倉內(nèi)自然沉降,記錄試驗(yàn)倉內(nèi)HCl的濃度隨沉降時(shí)間的變化。
(2)壓制效果試驗(yàn)
將四氯化硅與水蒸氣反應(yīng)生成的氣溶膠霧滴輸送至試驗(yàn)倉內(nèi),輸送完成后,關(guān)閉風(fēng)機(jī),停止送風(fēng),通入霧化后的壓制劑,記錄試驗(yàn)倉內(nèi)HCl的濃度變化。計(jì)算壓制去污因子。
去污因子計(jì)算式為
(3)
(3)壓制劑用量試驗(yàn)
將四氯化硅與水反應(yīng)生成的氣溶膠霧滴輸送至試驗(yàn)倉內(nèi),輸送完成后,關(guān)閉風(fēng)機(jī),停止送風(fēng),通入不同的壓制劑用量,記錄試驗(yàn)倉內(nèi)HCl的濃度變化。
(4)壓制固定時(shí)間試驗(yàn)
壓制完成后,在7 d內(nèi)每隔24 h利用氣溶膠粒徑譜儀和HCl濃度測量儀對試驗(yàn)倉內(nèi)的氣溶膠濃度和HCl濃度進(jìn)行測量,測量前開啟試驗(yàn)倉內(nèi)置的羅茨風(fēng)機(jī)進(jìn)行氣流擾動,擾動時(shí)間3 min。擾動后開始測量,計(jì)算再懸浮分?jǐn)?shù)。
再懸浮分?jǐn)?shù)計(jì)算按照KARLSSON的顆粒再懸浮分?jǐn)?shù)計(jì)算,其定義為一次擾動周期內(nèi),顆粒物在接觸面上所產(chǎn)生的再懸浮量與該接觸面上顆粒含塵量的比值[6]。
在本研究中,再懸浮分?jǐn)?shù)計(jì)算式為
(4)
計(jì)算時(shí),為獲得保守的再懸浮率值,假設(shè)生成的模擬氣溶膠有80%進(jìn)入3 m3試驗(yàn)倉內(nèi),擾動前地面塵的質(zhì)量均勻分布在試驗(yàn)倉的地面。
擾動后空氣中塵的質(zhì)量計(jì)算時(shí),可根據(jù)粒徑譜儀測量得出的平均粒徑及粒子數(shù)濃度計(jì)算出塵粒的體積,再根據(jù)塵的密度得出空氣中的塵的質(zhì)量。
將SiCl4與水蒸氣反應(yīng)生成的霧滴氣溶膠通入試驗(yàn)倉內(nèi)后,采用Welas 2000氣溶膠粒徑譜儀取樣對其進(jìn)行粒徑分析,粒徑分布如圖2所示。
用HCl濃度測量儀測量生成的霧滴氣溶膠自然沉降過程中的HCl 質(zhì)量分?jǐn)?shù),結(jié)果如圖3所示。
氣溶膠粒徑譜儀分析結(jié)果表明,四氯化硅與水蒸氣反應(yīng)生成的“白煙”為窄譜氣溶膠,其粒徑主要集中在2~4 μm,小于5 μm的可吸入組分約占98%,吸入危害較大。
圖2 SiCl4泄漏產(chǎn)生的氣溶膠的粒徑分布
圖3 氣溶膠自然沉降時(shí)HCl 質(zhì)量分?jǐn)?shù)變化
四氯化硅與水蒸氣生成的氣溶膠霧滴在試驗(yàn)倉內(nèi)自然沉降試驗(yàn)表明,在不施加人為干涉的情況下,氣溶膠自然沉降需要較長時(shí)間。自然沉降過程開始的1~2 min內(nèi),粒徑較大的霧滴沉降較快,HCl濃度可降低至初始水平的50%左右。剩余粒徑較小的霧滴沉降速度較慢。在1 h時(shí),HCl氣溶膠質(zhì)量分?jǐn)?shù)仍達(dá)40 ppm,2 h后氣溶膠質(zhì)量分?jǐn)?shù)保持在25 ppm左右。該濃度的HCl氣溶膠對人員仍有較大刺激性,不利于人員健康。
將SiCl4與水蒸氣反應(yīng)生成的霧滴氣溶膠通入試驗(yàn)倉內(nèi)。向流體動力型霧化裝置儲液槽內(nèi)添加氣溶膠壓制劑,在自然沉降不同時(shí)間時(shí),將壓制劑霧化為壓制劑霧滴后輸送至試驗(yàn)倉,對倉內(nèi)的霧滴氣溶膠進(jìn)行壓制。用HCl濃度檢測儀,適時(shí)記錄試驗(yàn)倉內(nèi)HCl質(zhì)量分?jǐn)?shù),結(jié)果如圖4所示。
3次壓制試驗(yàn)分別從沉降1,10,20 min時(shí)開始,壓制劑通入時(shí)間為30 s,通入完成后可將試驗(yàn)倉內(nèi)的HCl質(zhì)量分?jǐn)?shù)由數(shù)百ppm快速降低至10 ppm左右,對HCl氣溶膠壓制效果明顯,壓制去污因子計(jì)算結(jié)果分別為40,15,6.2。壓制劑壓制1 min所達(dá)到的去除水平相當(dāng)于自然沉降2 h所達(dá)到的水平。
從上述壓制去污因子結(jié)果可以看出,泄漏事故發(fā)生時(shí),越早啟動應(yīng)急裝置進(jìn)行壓制,對產(chǎn)生的氣溶膠的去污因子越高。當(dāng)其自然沉降20 min時(shí),對密閉空間內(nèi)的氣溶膠去污因子仍可達(dá)6.2。隨著壓制啟動時(shí)間的推遲,初始?xì)馊苣z濃度的減小,壓制去污因子逐漸減小,應(yīng)急壓制失去其作用。
圖4 壓制劑霧滴通入后HCl 質(zhì)量分?jǐn)?shù)變化
試驗(yàn)倉內(nèi)容積為3 m3,本試驗(yàn)意在使用最少量的氣溶膠壓制劑實(shí)現(xiàn)預(yù)定的壓制效果。每次試驗(yàn)前,利用四氯化硅與水蒸氣發(fā)生反應(yīng),生成氣溶膠后通入試驗(yàn)倉內(nèi),使得試驗(yàn)倉內(nèi)HCl質(zhì)量分?jǐn)?shù)大于600 ppm,而后開啟霧化裝置不同時(shí)間,根據(jù)開啟時(shí)間和單位時(shí)間的霧化能力(本試驗(yàn)霧化裝置對壓制劑的霧化量為21 kg/h),換算出壓制劑使用量。評價(jià)不同壓制劑用量的壓制效果,結(jié)果如表1所示。
表1 不同壓制劑使用量壓制效果
從表1結(jié)果可知,壓制劑用量為30 g時(shí),壓制劑使用量過少,壓制劑霧滴不能與試驗(yàn)倉內(nèi)的HCl氣溶膠霧滴充分碰撞凝并而沉降,壓制效果不明顯;當(dāng)壓制劑使用量大于60 g,通入的壓制劑霧滴都可將試驗(yàn)倉內(nèi)HCl質(zhì)量分?jǐn)?shù)降低至10 ppm左右,壓制效果基本一致。因此,對于3 m3的試驗(yàn)倉,按照本試驗(yàn)應(yīng)用的霧化裝置的霧化能力,推薦壓制時(shí)間為15 s,即壓制劑用量為90 g,即可完成充分的壓制,將HCl 氣溶膠霧滴較完全地吸收。
實(shí)際應(yīng)急處理過程中,不僅需要考慮有毒氣溶膠逸散體積,還需綜合考慮逸散面積、風(fēng)向、霧化裝置管路長短、現(xiàn)場實(shí)際氣溶膠濃度、環(huán)境等條件,但應(yīng)保證每m3空間壓制劑用量不低于30 g。
根據(jù)壓制劑用量試驗(yàn)中的結(jié)果,通入壓制劑時(shí)間12 s,通入量84 g。壓制完成后,每隔24 h,連續(xù)7 d利用氣溶膠粒徑譜儀和HCl濃度測量儀對試驗(yàn)倉內(nèi)氣溶膠濃度進(jìn)行測量,計(jì)算再懸浮率。測量前利用試驗(yàn)倉內(nèi)置于地面的羅茨風(fēng)機(jī)進(jìn)行氣流擾動,擾動時(shí)間3 min,擾動后開始測量,測量結(jié)果如表2。
表2 擾動后測量結(jié)果
常溫常壓下,H4SiO4密度為2.63g/cm3。擾動后分布在試驗(yàn)倉內(nèi)空氣中的H4SiO4的質(zhì)量及再懸浮率計(jì)算如表3。
表3 擾動后H4SiO4質(zhì)量及再懸浮率
從壓制后7 d期間擾動后對試驗(yàn)倉內(nèi)氣溶膠粒子數(shù)濃度數(shù)據(jù)可知,四氯化硅與水蒸氣反應(yīng)生成的硅酸、原硅酸氣溶膠顆粒(通常情況下硅酸為玻璃狀無色透明的不規(guī)則顆粒)在7 d時(shí)間內(nèi)可被壓制劑固定在沉降面上,室內(nèi)空氣擾動引起的再懸浮分?jǐn)?shù)小于1%。
針對應(yīng)急處理SiCl4泄漏情況下產(chǎn)生的有毒有害氣溶膠,減少危害影響范圍,提出了應(yīng)用霧化壓制劑的方法進(jìn)行處理。建立了可模擬SiCl4泄漏的試驗(yàn)倉及流體動力型霧化裝置,研制了針對SiCl4泄漏產(chǎn)生有毒有害氣溶膠的壓制劑。
本研究利用流體動力型霧化裝置將壓制劑霧化為小于5 μm的霧滴,通入充滿SiCl4泄漏產(chǎn)生的有毒有害氣溶膠試驗(yàn)倉內(nèi)后,壓制劑霧滴能迅速與該區(qū)域內(nèi)的HCl、硅酸有毒有害氣溶膠粒子通過慣性碰撞、攔截及凝并等作用實(shí)現(xiàn)對其捕集、沉降。
與自然沉降相比,通入壓制劑霧滴后,可在較短時(shí)間內(nèi)使有毒氣溶膠濃度迅速降低,且壓制啟動越早,壓制去污因子越高。由于流體動力型霧化裝置生成的霧滴粒徑遠(yuǎn)小于普通工業(yè)噴水裝置噴灑產(chǎn)生的霧滴,因而壓制劑用量較少,減少了處置過程中廢液的產(chǎn)生量。在壓制完成后7 d時(shí)間內(nèi),由于空氣擾動產(chǎn)生的再懸浮分?jǐn)?shù)小于1%,為進(jìn)一步處理提供了時(shí)間。