汪前程 黃文濤 李再強 張偉奇
(深圳市祺鑫天正環(huán)??萍加邢薰?,廣東 深圳 518000)
印制電路板企業(yè)產(chǎn)生大量的高含銅量蝕刻廢液,通過電解可以高效分離蝕刻廢液中的銅離子,得到可直接回收的高純度電解銅,同時蝕刻廢液經(jīng)電解后具有蝕刻能力的組分大部分未被破壞,經(jīng)簡單調(diào)配后可返回至蝕刻線再利用。該工藝實現(xiàn)了經(jīng)濟效益的最大化和清潔生產(chǎn),已經(jīng)在線路板生產(chǎn)企業(yè)中大規(guī)模應(yīng)用。
產(chǎn)出單位重量電解銅的電耗,是影響生產(chǎn)成本的決定性因素。本文將對酸性蝕刻液回收銅的最佳電解條件進行分析確認,并對電解設(shè)備的優(yōu)化做簡要的說明,從而盡可能的提高電解銅的電流效率、降低電損耗。
整流器:15A 5V;電解槽:長40 cm,寬12 cm,深12 cm;
循環(huán)泵:流量12 L/min;陽極板:10 cm×10 cm鈦板,表面覆蓋二氧化銥涂層;
陰極板:10 cm×10 cm鈦板,無涂層;分析天平:佑科 精確度0.001 g;
計時器:秒表;覆銅板:生益科技板材;氯化銅;氯化銨;鹽酸;蝕刻添加劑。
1.2.1 蝕刻速率的測定
蝕刻廢液對銅有較強的蝕刻能力,不能直接電解回收銅,需對蝕刻廢液進行稀釋以得到蝕刻能力較弱的電解液,電解液中銅離子濃度是影響蝕刻能力的主要因素,因此有必要先初步測定含不同濃度銅離子的電解液的蝕刻速率[1]。
測定方法:常溫下,以低銅子液([Cu2+]=12 g/L,[Cl-]120 g/L,酸度2 mol/L)按一定比例稀釋蝕刻廢液([Cu2+]=143 g/L,[Cl-]=261 g/L,酸度2 mol/L)得到銅離子濃度為20 g/L、40 g/L、60 g/L、80 g/L、100 g/L的電解液。以50 mm×50 mm的雙面覆銅板在燒杯中進行蝕刻速率的測試。
m1——蝕刻前覆銅板的質(zhì)量(g);
m2——蝕刻后覆銅板的質(zhì)量(g);
ρ——銅的密度8.92 g/cm3
S——覆銅板的單面面積(cm2)
t——蝕刻時間(min)
1.2.2 電流密度上限的確定
陰極電流密度小,銅層沉積速度慢,甚至不能沉積,但電流密度過大時,會形成粗糙、疏松、顏色發(fā)暗的不合格沉積層。
穩(wěn)定電流,以固定面積S的鈦板作為陰極板進行電沉積,通過不斷調(diào)整電流,可以確定獲得合格沉積層的最大電流Imax,則
1.2.3 電流效率的測定
銅離子在陰極放電析出的同時,已經(jīng)析出的金屬銅層部分會被電解液反蝕。另外,陰極極化作用強時還會發(fā)生一定的析氫副反應(yīng),所以銅實際沉積的重量小于析出的重量。正常電解時,析氫反應(yīng)可忽略不計。
將陰極板背向陽極的一面粘貼膠布進行絕緣,在不同銅離子濃度的電解液中,分別以最大電流密度進行電解,測量陰極板面積以及電解前后的重量,并記錄電流和時間。電解前后陰極板的重量差 △m即為銅實際沉積的重量,通過電流I和時間t可以計算出銅的析出的理論重量m,則
M——銅的相對原子量
e——電子的電荷量,常數(shù)
N——阿伏伽德羅常數(shù)
1.2.4 沉積速率的測定
利用測定電流效率的實驗數(shù)據(jù),可計算出沉積速率,即單位時間內(nèi)銅層沉積的厚度。
ρ——金屬銅的密度
S——陰極板的面積
1.2.5 電解液流速、溫度對電沉積的影響
將蝕刻廢液銅離子濃度調(diào)整為40 g/L,其它條件相同的情況下,通過改變電解液循環(huán)流動的速度或者溫度,分別對比陰極電流效率。
隨著銅離子濃度的升高,蝕刻液蝕刻速率如圖1中所示。
圖1 銅離子濃度對蝕刻速率的影響
從圖1中可以隨著銅離子濃度的上升,蝕刻液的蝕刻速率呈上升趨勢,而通過理論計算可知,陰極電流密度為10 A/dm2,假設(shè)電流效率100%,銅層的析出速度也僅為2.2 μm/min,遠小于電解液的蝕刻速度,因此銅離子濃度越低越有利于陰極銅的析出。從實際的電解實驗來看,當(dāng)蝕刻液銅離子濃度為20 g/L,電流密度為3 A/dm2時,陰極可以得到合格的銅層,說明電解過程中蝕刻速率會受到抑制。如果銅離子濃度過高,電解時陰極板可能沒有銅層沉積,或者沉積速率慢,嚴重降低電流效率,因此需要嚴格控制電解液中銅離子濃度。
從表1可以看到,其它條件不變時,電解液銅離子濃度越高,電流密度上限越高。正常電解過程中,陰極的析氫副反應(yīng)可以忽略不計,當(dāng)銅離子濃度一定時,電流密度越大,電流效率越高。所以后面對于不同銅離子濃度的電解液,都是在相應(yīng)的最大電流密度下進行電流效率和沉積速率的測試。
表1 不同銅離子濃度下最大電流密度
從表2及圖2中可以看到,以相應(yīng)的最大電流密度進行電解,銅離子濃度越高,則電流效率越低,銅沉積速率越快。也就是說,對于實際生產(chǎn)中,其它電解條件不變,只通過調(diào)整銅離子濃度及電流密度,噸銅電耗更低和出銅速度更快,不能同時滿足。
陰極銅的析出速率和電量成正比,假設(shè)比例系數(shù)為常數(shù)a,則噸銅電耗可表示如下:
U——槽電壓
I——電流
η——電流效率
由于電解系統(tǒng)不是一個純電阻電路,電流大小和槽電壓大小并不是成線性關(guān)系。槽電壓可以表示為:
U=E理+E液+E接+△E超;
陽極析氯陰極析銅,理論電壓E理=φ陽-φ陰,為定值;
E液表示槽液的電壓降,與電流密度成正比;
E接表示導(dǎo)線接觸電位、極板電阻等,與電流密度成正比;
表2 電流密度對電流效率、沉積速度的影響
圖2 電流密度上限對電流效率和沉積速率的影響
△E超表示極化超電壓。
根據(jù)Tafel公式表示如式(1)。
可知,超電壓與電流密度的對數(shù)呈線性關(guān)系,也就是說,當(dāng)電流密度變化時,超電壓的變化幅度很小。
酸性蝕刻電解液含有高濃度的Cl-、H+、NH4+、Cu2+等,導(dǎo)電性很好,保證導(dǎo)線、極板導(dǎo)電良好的情況下,提高電流密度,會明顯提高陰極銅沉積電流效率η,但槽電壓U只會小幅度上升。所以,以電流密度上限進行電解,會使噸銅的電耗降到最低。
另一方面,銅離子濃度決定電流密度上限和電流效率。銅離子濃度低,電流效率高但沉積速度慢;銅離子濃度高,電流效率低但沉積速度快,所以需要把銅離子控制在一個合理范圍,實現(xiàn)電流效率和沉積速度的平衡。
陰極銅的析出速率僅取決于電流密度,不受電解液流速和溫度的影響。
反蝕過程可簡單描述為兩個步驟:①Cu→Cu+;②Cu+→Cu2+,溫度升高,兩個步驟的反應(yīng)都會加快。
步驟①Cu→Cu+在溶液和陰極界面進行,當(dāng)流速加快時,減弱了Cu+在界面的富集,減弱了濃差極化作用,促進反應(yīng)右移,從而使反蝕速率加快。所以,當(dāng)溫度升高或者電解液流速加快,都會加速已析出的銅層反蝕,最終降低了電解銅的沉積速度(見表3所示)。
表3 電解液流速、溫度對電流效率影響
(1)當(dāng)銅離子濃度一定時,用最大電流密度進行電解,電流效率最高,噸銅電耗最低;
(2)實際生產(chǎn)中,銅離子濃度過高,會使電流效率降低導(dǎo)致噸銅電耗偏高;銅離子濃度過低,則電流密度上限低,出銅速率慢。銅離子濃度控制在40~50 g/L,并用6~7.5 A/dm2的電流密度電解,出銅速度快且噸銅電耗較低;
(3)在控制好銅離子濃度和電流密度的同時,盡量降低電解液溫度、減緩電解液循環(huán)流速,可以抑制電解液對金屬銅的反蝕,從而提高陰極電流效率和的銅的沉積速率。