鄭旭東,余 濤,王曉鵬,韓一兵,高小蟬
(河南科技大學(xué) a.物理工程學(xué)院; b.河南省光電儲(chǔ)能材料與應(yīng)用重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室; c.動(dòng)物科技學(xué)院,河南 洛陽(yáng) 471023)
盡管如此,純WO3的光催化效率相對(duì)較低,這主要是由于它具有較高的導(dǎo)帶邊緣電位,不僅增加了光生電子-空穴對(duì)的復(fù)合率,而且限制了其與電子受體比如氧的反應(yīng)[13-14]。表面修飾、摻雜和納米化等策略通常用于實(shí)現(xiàn)高光催化效率的目標(biāo)[15-17]。文獻(xiàn)[18-21]發(fā)現(xiàn):調(diào)節(jié)半導(dǎo)體氧化物(例如TiO2,WO3和ZnO)中的氧空位可對(duì)其光學(xué)電學(xué)特性進(jìn)行有效調(diào)控,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)對(duì)其催化特性的有效調(diào)控。氧空位缺陷的引入會(huì)產(chǎn)生一系列施主能級(jí),這些施主能級(jí)嚴(yán)格依賴于氧空位濃度。通常調(diào)控氧空位的方法包括熱退火、化學(xué)還原、摻雜等。然而,氧空位濃度的精確調(diào)控仍然面臨較大挑戰(zhàn)。
本文利用水熱方法合成了外形似海膽的W18O49納米結(jié)構(gòu),對(duì)其晶體結(jié)構(gòu)、表面形貌及元素價(jià)態(tài)進(jìn)行了檢測(cè),并測(cè)試了其光照下的抗菌特性,對(duì)其抗菌機(jī)制進(jìn)行了分析。
外形似海膽的W18O49納米結(jié)構(gòu)是通過一種簡(jiǎn)便的一步水熱法合成。將375 mg WCl6溶解在75 mL無水乙醇溶劑中,立刻形成了黃色溶液,將其轉(zhuǎn)移到體積為100 mL的聚四氟乙烯作內(nèi)襯的反應(yīng)釜中。然后,將密封的反應(yīng)釜放置在180 ℃烘箱中反應(yīng)10 h。反應(yīng)完成后,通過離心分離得到藍(lán)色絮狀沉淀,期間用無水乙醇和蒸餾水各沖洗3次以去除可能的殘留物和離子,最后置于60 °C真空干燥箱中干燥6 h。
使用配備有Cu Kα輻射源的X射線衍射儀(X-ray diffractometer,XRD)研究樣品的晶相類型。通過高分辨率透射電子顯微鏡(high-resolution transmission electron microscopy,HRTEM)和場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡(field emission scanning electron microscopy,F(xiàn)ESEM),對(duì)樣品的微觀結(jié)構(gòu)和表面形態(tài)進(jìn)行了表征。通過Thermo Escalab 250Xi型X射線光電子能譜儀(X-ray photoelectron spectroscopy,XPS)對(duì)表面元素價(jià)態(tài)和缺陷態(tài)進(jìn)行了分析,所采用的Al Kα射線能量為1 486.6 eV。利用電子順磁共振波譜儀(electron paramagnetic resonance,EPR)對(duì)缺陷態(tài)內(nèi)不配對(duì)電子進(jìn)行了檢測(cè)。采用革蘭氏陰性菌大腸桿菌為測(cè)試菌種。通過瓊脂稀釋法評(píng)估了W18O49納米結(jié)構(gòu)的光催化抗菌活性。首先,制備質(zhì)量濃度為1 mg/mL 的W18O49儲(chǔ)備液。試驗(yàn)組將100 μL濃度為106CFU/mL的菌液和100 μL樣品儲(chǔ)備液加入到800 μL無菌液體培養(yǎng)基中。陽(yáng)性對(duì)照組則加入100 μL濃度為106CFU/mL的菌液和100 μL質(zhì)量濃度為4 μg/mL的慶大霉素。將一部分試驗(yàn)組在光照強(qiáng)度為3 700 lx的熒光燈照射下置于培養(yǎng)箱內(nèi)培養(yǎng),同時(shí)將被鋁箔紙包裹的另一部分試驗(yàn)組也放入培養(yǎng)箱內(nèi),在黑暗中培養(yǎng),培養(yǎng)溫度均為37 °C,培養(yǎng)時(shí)間均為24 h。24 h后將各樣品稀釋,然后用涂布器涂布于瓊脂板上,再分別置于37 °C 培養(yǎng)箱內(nèi)培養(yǎng)24 h后,記錄各瓊脂板上細(xì)菌的菌落數(shù),并計(jì)算抑菌率。陽(yáng)性對(duì)照組則在光照射下培養(yǎng),具體操作流程同上。
圖1是制備的W18O49結(jié)構(gòu)的XRD圖譜。由圖1可知:合成的樣品是單斜相W18O49(JCPDS card 84-1516)。在23.5°和48.1°處觀察到2個(gè)較強(qiáng)烈的衍射峰,分別對(duì)應(yīng)于(010)和(020)晶面,這與本課題組報(bào)道過的研究結(jié)果一致[20]。狹窄而強(qiáng)烈的(010)和(020)峰表明:晶體沿[010]方向擇優(yōu)生長(zhǎng)。然而,其他的衍射峰強(qiáng)度則較為弱小。W18O49是一種非化學(xué)計(jì)量比的穩(wěn)定晶相結(jié)構(gòu),也可寫為WO2.72。不同于傳統(tǒng)WO3呈淡黃色,本文制備的粉體為深藍(lán)色,意味著該材料具有較高的可見光吸收率,這可能由于其內(nèi)部含有一定的氧空位缺陷吸收所致。
圖1 制備的W18O49結(jié)構(gòu)的XRD圖譜
利用場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡和高分辨率透射電鏡,對(duì)制備的W18O49粉體的形貌與微結(jié)構(gòu)進(jìn)行了檢測(cè),結(jié)果如圖2 所示。從圖2a和圖2b中可以看出:合成的W18O49粉體外形似海膽,由很多的納米線呈放射狀組裝而成,大小較為均勻。這些納米線的直徑小于10 nm,長(zhǎng)度為200~250 nm。圖2c展示了單根納米線的微結(jié)構(gòu)圖像。由圖2c可以發(fā)現(xiàn):有序晶格條紋的間距為0.378 nm,該晶面屬于單斜晶相W18O49的(010)晶面[20],表明納米線是由單晶相構(gòu)成,沿著b軸方向生長(zhǎng),這與XRD圖譜檢測(cè)結(jié)果相一致。
(a) FESEM形貌 (b) TEM形貌 (c) HRTEM微結(jié)構(gòu)
利用X射線光電子能譜儀對(duì)W18O49粉體的W元素價(jià)態(tài)和缺陷態(tài)進(jìn)行了檢測(cè),結(jié)果如圖3所示。圖3a為W 4f軌道的XPS圖譜,通過卷積分峰處理,可將該圖譜分解為兩對(duì)峰,分別屬于W的兩個(gè)不同氧化態(tài),即正五價(jià)鎢(W5+)和正六價(jià)鎢(W6+)。位于37.7 eV和35.5 eV處的兩個(gè)峰,分別對(duì)應(yīng)于W6+的W 4f 5/2和W 4f 7/2特征峰[20]。其他兩個(gè)峰分別位于37.0 eV和34.3 eV處,分別屬于W5+的W 4f 5/2和W 4f 7/2特征峰[20]。根據(jù)擬合分析,W6+和W5+的原子個(gè)數(shù)百分比分別為56.5%和43.5%。在常規(guī)化學(xué)計(jì)量WO3中,W是以正六價(jià)化合價(jià)形式存在,而本文合成的材料中W5+的存在說明所合成的材料為非化學(xué)計(jì)量的WO3-x,較低價(jià)態(tài)的W5+極可能是由于氧空位的出現(xiàn)引起的。最初氧空位會(huì)伴隨兩個(gè)局域電子一起出現(xiàn),其中一個(gè)來自氧空位的電子趨向于填充局部的W 5d軌道,從而將W6+還原為W5+。因此,W5+的存在間接證明了氧空位的存在。為了進(jìn)一步確定W 5d的電子態(tài),對(duì)材料同時(shí)進(jìn)行了價(jià)帶譜的檢測(cè),如圖3b所示。從圖3b中可以看出:在費(fèi)米(Fermi)能級(jí)(零結(jié)合能)附近約0.5 eV處出現(xiàn)了一個(gè)明顯的峰,而在化學(xué)計(jì)量WO3中該峰則不存在[20],該峰屬于W 5d軌道電子態(tài)。這些電子態(tài)作為淺施主態(tài)可以改善電導(dǎo)率和光吸收率,有利于提高光催化活性。根據(jù)文獻(xiàn)[20]的研究結(jié)果,W 5d電子態(tài)的密度大小取決于氧空位的濃度。隨著氧空位濃度在一定范圍內(nèi)增加,W 5d電子態(tài)的密度逐漸增大。以上測(cè)試結(jié)果都表明:在本文所制備的材料中,鎢是以混合價(jià)態(tài)存在,即W5+與W6+,且較低價(jià)態(tài)鎢的產(chǎn)生與氧空位有關(guān)。
利用電子順磁共振技術(shù)對(duì)W18O49納米粉體內(nèi)缺陷的不成對(duì)電子進(jìn)行了檢測(cè),結(jié)果如圖4所示。對(duì)于EPR圖譜,不同順磁性物種的共振中心磁場(chǎng)位置不同,因而計(jì)算出的g因子數(shù)值也不同,據(jù)此可以區(qū)分不同的順磁性物種。從圖4中可以看出:在g=2.002處有明顯的順磁共振吸收峰。該g因子通常被認(rèn)為是束縛單電子型氧空位,這種類型氧空位可以提供不配對(duì)電子,而束縛雙電子型及無束縛電子型氧空位則不會(huì)產(chǎn)生該EPR吸收峰[22]。該結(jié)果進(jìn)一步證實(shí)了XPS表征結(jié)果中W5+的出現(xiàn)是由于氧空位上的電子將W6+還原所致,從而氧空位變?yōu)槭`單電子型氧空位。以上測(cè)試結(jié)果表明:本文所制備的材料富含氧空位缺陷。
圖4 制備的W18O49納米粉體的EPR圖譜
通過瓊脂法和稀釋法對(duì)W18O49納米結(jié)構(gòu)的光催化抗菌性能進(jìn)行了測(cè)試,并將其與慶大霉素的抗菌性能作對(duì)比。大腸桿菌被選作抗菌測(cè)試目標(biāo)。慶大霉素與W18O49對(duì)大腸桿菌的抗菌活性見圖5。圖5a為慶大霉素作用下大腸桿菌的數(shù)量。從圖5a中可以看出:慶大霉素作用的培養(yǎng)皿內(nèi)細(xì)菌菌落數(shù)量為26個(gè)。圖5b與圖5c分別為黑暗中和熒光燈照射24 h后,W18O49納米結(jié)構(gòu)作用下大腸桿菌的數(shù)量。從圖5b與圖5c中可以看出:在黑暗條件下,W18O49納米結(jié)構(gòu)作用的培養(yǎng)皿中細(xì)菌菌落數(shù)量最多,達(dá)到184個(gè);而在熒光燈的可見光照射下,細(xì)菌菌落數(shù)量明顯減少,為18個(gè),抑菌率為90%, 這得益于W18O49納米結(jié)構(gòu)的光催化抗菌特性,且其抗菌活性與慶大霉素相當(dāng)。
(a) 慶大霉素 (b) W18O49+黑暗 (c) W18O49+光照
(1)制備的形似海膽的W18O49納米結(jié)構(gòu),由許多直徑小于10 nm、長(zhǎng)度為200~250 nm的單晶納米線組成,其晶相為單斜晶相。
(2)W6+和W5+兩種價(jià)態(tài)的鎢元素共存于W18O49納米結(jié)構(gòu)中,W5+的存在揭示了該納米結(jié)構(gòu)具有豐富的氧空位。氧空位缺陷相關(guān)的電子態(tài)位于費(fèi)米能級(jí)以下約0.5 eV處。
(3)相比黑暗環(huán)境,可見光照射W18O49納米結(jié)構(gòu)作用的培養(yǎng)24 h后大腸桿菌的數(shù)量顯著減少,抑菌率達(dá)到90%。
(4)豐富的氧空位誘導(dǎo)的施主缺陷能級(jí)有利于縮小帶隙,提高可見光吸收,并且有利于提高電導(dǎo)率,促進(jìn)光生電子空穴的分離,從而導(dǎo)致ROS的產(chǎn)量增大,有利于增強(qiáng)W18O49納米結(jié)構(gòu)的光催化抗菌活性。