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      甲烷氧化菌素-納米金修飾金電極溶出伏安法對(duì)Cu2+的檢測(cè)

      2021-07-28 08:34:50竇博鑫辛嘉英
      食品科學(xué) 2021年14期
      關(guān)鍵詞:電流值伏安檢出限

      薛 也,王 艷,,趙 寧,竇博鑫,辛嘉英,2,韓 燁

      (1.哈爾濱商業(yè)大學(xué)食品工程學(xué)院,黑龍江省普通高校食品科學(xué)與工程重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,黑龍江 哈爾濱 150076;2.中國(guó)科學(xué)院蘭州化學(xué)物理研究所,羰基合成與選擇氧化國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,甘肅 蘭州 730000)

      Cu2+在工業(yè)和農(nóng)業(yè)上有廣泛應(yīng)用[1],常被用作保鮮劑、保色劑、殺菌劑,有防止果蔬變質(zhì)、保持農(nóng)作物顏色以及殺菌的作用,并且Cu2+也是人體內(nèi)必不可缺少的微量元素,攝入過(guò)多或缺乏都會(huì)危害健康[2-3]。因此,Cu2+是食品分析及食品安全檢測(cè)中的重要指標(biāo)[4-6]。

      Cu2+常用檢測(cè)方法主要有原子吸收光譜法、電感耦合等離子體質(zhì)譜法、熒光光譜法等,但這些方法都存在著耗時(shí)較長(zhǎng)、需要專業(yè)操作人員、不利于實(shí)際應(yīng)用等問(wèn)題[7-12]。近幾年隨著電化學(xué)技術(shù)的不斷完善,其靈敏度高、制作簡(jiǎn)易、檢測(cè)速度快等優(yōu)點(diǎn)備受國(guó)內(nèi)外學(xué)者的關(guān)注[13],常被用于重金屬檢測(cè)工作中。Peng Donglai等[14]研制了羅丹明B肼修飾納米金的電化學(xué)傳感器,并將其應(yīng)用于檢測(cè)水中Cu2+,檢出限為12.5 μmol/L。Kaur等[15]合成了螯合型二硫醇并將其自組裝到金電極表面,形成能夠吸附金屬離子的大環(huán),用于檢測(cè)Cu2+,線性范圍為1.0×10-12~1.0×10-5mol/L(r2=0.990),檢出限可達(dá)到9.7×10-13mol/L。朱浩嘉等[16]利用同位鍍汞陽(yáng)極溶出伏安法對(duì)牛奶樣品中Cd2+、Pb2+和Cu2+元素含量進(jìn)行同時(shí)測(cè)定,其中Cu2+的線性范圍為0.5~100 μg/L,檢出限為0.1 μg/L。

      甲烷氧化菌素(methanobactin,Mb),是一種由甲烷氧化菌(Methylosinus trichosporiumOB3b)產(chǎn)生的具有極高銅親和力的蛋白活性肽,在Mb結(jié)構(gòu)中含有2 個(gè)4-亞硫酰-5-羥基咪唑基團(tuán),通過(guò)2 個(gè)咪唑N、2 個(gè)硫酰S與銅絡(luò)合,能特異性捕獲環(huán)境中的銅,對(duì)Cu2+具有較強(qiáng)的專一性[17-18]。納米金(gold nanoparticles,AuNPs)具有較大的表面積、好的生物相容性和表面等離子體增強(qiáng)效應(yīng)等優(yōu)點(diǎn),可以在局部形成增強(qiáng)的電磁場(chǎng),吸附生物大分子,常用于電化學(xué)實(shí)驗(yàn)[19-21]。由于AuNPs表面容易功能化,易與生物分子相互結(jié)合,通過(guò)在檸檬酸鈉還原法合成的AuNPs(粒徑16 nm)中引入Mb,可使Mb的生物活性被賦予在AuNPs上,有利于生物分子的穩(wěn)定結(jié)合,增強(qiáng)特異性結(jié)合,顆粒分散均勻,可以抑制納米顆粒的團(tuán)聚[22-23](圖1A)。因此本實(shí)驗(yàn)借助AuNPs與裸金電子之間的強(qiáng)吸附特性、Mb中L-半胱氨酸巰基與AuNPs通過(guò)金硫鍵鍵合的特性,制備Mb-AuNPs修飾電極(圖1B),通過(guò)Mb對(duì)Cu2+特異性捕捉的作用(圖1C),利用溶出伏安法檢測(cè)Cu2+具有檢出限低、靈敏度高、簡(jiǎn)便快速的優(yōu)勢(shì)。

      圖1 Mb-AuNPs修飾電極檢測(cè)原理圖Fig.1 Schematic diagram of copper ion detection with Mb-AuNP-modified electrode

      1 材料與方法

      1.1 材料與試劑

      甲基彎菌IMV 3011 俄羅斯科學(xué)院催化研究所;無(wú)水乙醇 天津富宇精細(xì)化工有限公司;氯金酸、CuSO4、PbCl2、HgCl2、Ag(NO3)2、FeCl3、CrO3、CuCl國(guó)藥集團(tuán)上海試劑有限公司;檸檬酸鈉、氫氧化鈉、濃硫酸 天津市天力化學(xué)試劑有限公司。

      1.2 儀器與設(shè)備

      PB-10 pH計(jì) 賽多利斯(上海)貿(mào)易有限公司;生化發(fā)酵罐 上海保興生物設(shè)備工程公司;CHI630電化學(xué)工作站、金盤電極、鉑絲電極、Ag/AgCl電極(3 mol/L KCl溶液) 上海辰華儀器公司。

      1.3 方法

      1.3.1 Mb-AuNPs修飾電極的制備

      參照文獻(xiàn)[24-25],對(duì)甲烷氧化菌進(jìn)行培養(yǎng)并提取Mb(1×10-4mol/L),制備Mb-AuNPs;本實(shí)驗(yàn)使用固體三電極體系(工作電極:金電極;參比電極:Ag/AgCl;對(duì)電極:Pt電極),參考文獻(xiàn)[26-27]的方式稍作調(diào)整對(duì)金電極進(jìn)行預(yù)處理。配制食人魚(yú)溶液(濃硫酸-過(guò)氧化氫(7∶3,V/V)),將金電極泡制在其中8 min后,用去離子水洗凈;在0.3、0.1、0.05 μm氧化鋁粉末上拋光后,分別用無(wú)水乙醇和二次蒸餾水在超聲中清洗各3 min;吹干后,在0.5 mol/L H2SO4溶液中循環(huán)伏安法掃描15 圈進(jìn)行活化。將電極浸泡在已配制好的pH 6.5的Mb-AuNPs中8 h,4 ℃避光保存,制得Mb-AuNPs修飾電極。

      1.3.2 溶出伏安法檢測(cè)Cu2+

      取出已經(jīng)修飾好的金電極,去離子水沖洗20 s后吹干,吸附待測(cè)濃度的Cu2+溶液50 min,同1.3.1節(jié)沖洗吹干,隨后利用溶出伏安法在0.05 mol/L且pH 5.5的磷酸鹽緩沖液(phosphate buffered saline,PBS)中進(jìn)行檢測(cè),電沉積時(shí)間40 s,頻率10 Hz,振幅25 mV。

      1.3.3 干擾程度計(jì)算

      2 結(jié)果與分析

      2.1 金電極活化

      如圖2所示,經(jīng)過(guò)硫酸活化后,其還原峰增加,且有多重氧化峰的出現(xiàn),說(shuō)明金電極的靈敏度增加,有助于Mb-AuNPs充分修飾電極。

      圖2 金電極硫酸活化前后對(duì)比圖Fig.2 Effect of H2SO4 activation on electrode sensitivity

      2.2 電極一致性的檢測(cè)

      為保證實(shí)驗(yàn)嚴(yán)謹(jǐn)且因?qū)嶒?yàn)所使用的金電極數(shù)量多,對(duì)預(yù)處理后的電極進(jìn)行一致性考察[24]。如圖3所示,6 根電極掃描出的曲線重合性較好,說(shuō)明實(shí)驗(yàn)時(shí)金電極基本一致。

      圖3 金電極的一致性考察Fig.3 Consistency of electrodes

      2.3 Mb-AuNPs修飾電極的表征

      如圖4所示,Mb-AuNPs修飾電極較空白電極相比,多出2 個(gè)還原峰,-0.7 V處的峰所代表的是金硫鍵的特征峰,Mb與納米金完全結(jié)合可能是導(dǎo)致其峰形較小的原因。-1.1 V處峰代表的可能是Mb-AuNPs的擴(kuò)散特性[21],由此判斷,Mb-AuNPs已修飾在電極表面[26,28]。

      圖4 Mb-AuNPs修飾電極表征圖Fig.4 Characterization of Mb-AuNP-modified electrode

      2.4 溶出伏安法檢測(cè)Cu2+

      2.4.1 Mb-AuNPs修飾電極時(shí)間的影響

      已處理好且一致性良好的電極分別在Mb-AuNPs溶液中浸泡2、4、6、8、10、12 h后,對(duì)100 nmol/L的Cu2+待測(cè)液進(jìn)行檢測(cè)。如圖5所示,檢測(cè)的Cu2+峰電流值與金電極在Mb-AuNPs溶液的浸泡時(shí)間呈一定相關(guān)性。金電極浸泡在功能化納米金復(fù)合物溶液中時(shí)長(zhǎng)為8 h時(shí),Cu2+檢測(cè)的電信號(hào)強(qiáng)度最大。當(dāng)浸泡時(shí)間從2 h增加到8 h時(shí),峰值電流不斷增大。8 h后再繼續(xù)增加浸泡時(shí)間,峰值電流減小。這說(shuō)明當(dāng)浸泡時(shí)間為8 h時(shí),電極上的Mb-AuNPs已接近飽和狀態(tài)。

      圖5 Mb-AuNPs修飾時(shí)間對(duì)檢測(cè)Cu2+的影響Fig.5 Effect of Mb-AuNP modification time on the detection of copper ions

      2.4.2 Cu2+吸附時(shí)間的影響

      在檢測(cè)Cu2+前,需要將Cu2+吸附在已修飾好的電極上,即將已修飾好的Mb-AuNPs電極浸泡在Cu2+溶液中。如圖6所示,吸附時(shí)間在10~50 min時(shí),峰電流值隨著吸附Cu2+溶液時(shí)間的延長(zhǎng)而增加。這說(shuō)明吸附時(shí)間越長(zhǎng),與Mb-AuNPs作用的Cu2+量就越多,即Cu2+在電極表面的吸附量就越大,檢測(cè)到的信號(hào)就越強(qiáng),溶出峰電流值越高。吸附時(shí)間在50 min之后,隨著吸附時(shí)間的延長(zhǎng),Cu2+的峰電流值減小,這可能是由于Mb-AuNPs和Cu2+之間的鍵合作用雖然較強(qiáng),但隨著吸附溶液時(shí)間延長(zhǎng),部分Cu2+脫落,斷開(kāi)了與Mb-AuNPs的連接,最終檢測(cè)出的峰電流值減小。

      圖6 Mb-AuNPs修飾電極吸附Cu2+時(shí)間對(duì)檢測(cè)的影響Fig.6 Effect of adsorption time of Cu2+ onto Mb-AuNP-modified electrode on detection efficiency

      2.4.3 電沉積時(shí)間的影響

      如圖7所示,10~40 s的峰電流值逐漸增長(zhǎng),這可能是由于沉積時(shí)間比較短,Cu2+在電極表面沉積還原的量小于富集的量,因此電信號(hào)呈現(xiàn)出隨沉積時(shí)間延長(zhǎng)而增大的趨勢(shì)。在40 s時(shí),沉積時(shí)間使Mb-AuNPs配位的Cu2+全部還原。隨著時(shí)間的延長(zhǎng),可能是電極表面的Mb-AuNPs部分脫落,從而導(dǎo)致電信號(hào)降低。綜上,沉積時(shí)間選擇40 s。

      圖7 沉積時(shí)間對(duì)Mb-AuNPs修飾電極檢測(cè)Cu2+的影響Fig.7 Effect of deposition time on detection efficiencyof copper ions

      2.4.4 PBS pH值的影響

      如圖8所示,在pH 4.5~5.5時(shí),隨著pH值的增加,峰電流增大。pH值大于5.5時(shí),峰電流減小可能是由于隨著pH值升高,Mb-AuNPs與Cu2+的相互作用減弱,Cu2+脫落。故選擇pH值為5.5的PBS作為檢測(cè)條件。

      圖8 pH值對(duì)Mb-AuNPs修飾電極檢測(cè)Cu2+的影響Fig.8 Effect of pH on detection efficiency of copper ions

      2.5 線性關(guān)系與檢出限

      采用方波溶出伏安法,利用Mb-AuNPs修飾電極對(duì)不同濃度Cu2+進(jìn)行檢測(cè)。由圖9可知,隨著Cu2+濃度的增加,其溶出峰也在升高。以lgc為橫坐標(biāo)(c為Cu2+濃度),相應(yīng)的峰電流(μA)為縱坐標(biāo),作標(biāo)準(zhǔn)曲線,峰電流值與Cu2+濃度的對(duì)數(shù)呈一定線性相關(guān)。通過(guò)線性擬合在10 nmol/L~100 μmol/L范圍內(nèi)的9 種Cu2+濃度的對(duì)應(yīng)峰電流值回歸方程為:I=0.385 44lgc+2.007 53(R2=0.960 09,n=6)說(shuō)明線性關(guān)系良好。經(jīng)計(jì)算,檢出限為1.15 nmol/L。

      圖9 方波溶出伏安法檢測(cè)Cu2+Fig.9 Detection of copper ions by square wave soluble voltammetry

      2.6 干擾離子檢測(cè)

      在100 nmol/L的待測(cè)溶液中加入10 倍其他離子,分別是Pb2+、Hg2+、Ag2+、Fe3+、Cr6+、Ni2+、Al3+、Zn2+、Cu+,對(duì)檢測(cè)體系的特異性進(jìn)行測(cè)定,每組測(cè)定5 次,結(jié)果如表1所示,各離子對(duì)檢測(cè)Cu2+時(shí)的干擾程度均小于2%,可忽略不計(jì)。因此Cu2+的檢測(cè)濃度在10 nmol/L~100 μmol/L時(shí),不受其他離子的干擾,由此可以證明Mb對(duì)捕捉Cu2+具有較強(qiáng)的專一性[17,22]。

      表1 其他離子對(duì)檢測(cè)的影響Table 1 Interfering effects of coexisting ions on Cu2+ detection

      2.7 重復(fù)性與穩(wěn)定性

      為了檢驗(yàn)實(shí)驗(yàn)結(jié)果的一致性和電極的穩(wěn)定性,進(jìn)行重復(fù)性實(shí)驗(yàn)。在PBS里對(duì)檢測(cè)Cu2+的電極連續(xù)10 次掃描,平行測(cè)定5 次,相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差為8.9%。將制備好的修飾電極保存于4 ℃冰箱中,分別存放2、4、6、8、10、12、14 d后取出對(duì)Cu2+檢測(cè),重復(fù)5 次實(shí)驗(yàn),結(jié)果如表2所示,在第14天對(duì)Cu2+的響應(yīng)電流強(qiáng)度達(dá)到84.24%,表明該修飾電極穩(wěn)定性良好。

      表2 Mb-AuNPs修飾電極Cu2+檢測(cè)穩(wěn)定性Table 2Stability of Mb-AuNP-modified electrode for detection of copper ions

      3 結(jié) 論

      用Mb-AuNPs修飾金電極建立了檢測(cè)Cu2+的新方法,金電極修飾時(shí)間8 h、檢測(cè)時(shí)間50 min、電沉積40 s、PBS(pH 5.5)的溶出伏安法對(duì)Cu2+檢測(cè)呈現(xiàn)良好線性關(guān)系,檢出限可達(dá)到1.15 nmol/L,均低于文獻(xiàn)報(bào)道[17,23,29-30],說(shuō)明敏感性好。10 倍濃度的9 種其他金屬離子的干擾實(shí)驗(yàn)均顯示對(duì)檢測(cè)結(jié)果無(wú)明顯影響,說(shuō)明特異性好。通過(guò)重復(fù)性、穩(wěn)定性實(shí)驗(yàn),表明此Mb-AuNPs修飾電極檢測(cè)Cu2+準(zhǔn)確性高且穩(wěn)定性良好。因此,本方法對(duì)運(yùn)用在食品中進(jìn)行痕量的Cu2+檢測(cè)具有參考應(yīng)用價(jià)值。

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