朱泓達(dá)
(倫敦大學(xué)學(xué)院,倫敦WC1H0AQ)
金剛石薄膜同時(shí)具有良好的機(jī)械性能和優(yōu)質(zhì)的電學(xué)性能,在電子材料尤其是半導(dǎo)體材料中有著極高的開發(fā)價(jià)值。了解金剛石薄膜的電子特性,將有助于我們從微觀層面上采取改良措施,彌補(bǔ)這一材料在某些性能上的缺陷,從而改善其實(shí)際應(yīng)用效果,更好發(fā)揮金剛石薄膜對(duì)現(xiàn)代工業(yè)、醫(yī)學(xué)、半導(dǎo)體等行業(yè)發(fā)展的推動(dòng)作用。近年來(lái),國(guó)內(nèi)外一些學(xué)者在這一方面的研究已經(jīng)取得顯著成果,例如,通過摻雜硼(B)能夠使金剛石的帶隙寬收窄,進(jìn)而提高其導(dǎo)電性能;利用Si 基片沉積生長(zhǎng)出的納米金剛石薄膜,表面粗糙度極低,透光率更好。在納米金剛石薄膜材料廣泛運(yùn)用的背景下,探究其電子特性,成為當(dāng)前的一項(xiàng)熱門研究課題。
根據(jù)晶粒體積的不同,納米金剛石薄膜的電子結(jié)構(gòu)也會(huì)表現(xiàn)出明顯差異,而這種差異將會(huì)對(duì)電子特性產(chǎn)生直接影響。為了驗(yàn)證不同體積晶粒與電子結(jié)構(gòu)之間的關(guān)系,建立了4 種規(guī)格的模型,分別是2×2×2的八原子模型,2×2×4的十六原子模型,2×2×6的二十四原子模型,以及2×2×8的三十二原子模型。利用VASP 軟件計(jì)算出不同模型下,晶粒尺寸與帶隙之間的對(duì)應(yīng)關(guān)系,本文以最簡(jiǎn)單的2×2×2 結(jié)構(gòu)模型為例,VASP 軟件根據(jù)計(jì)算結(jié)果生成該模型的能帶圖,如圖1 所示。
結(jié)合圖1,該模型下納米金剛石的外層軌道價(jià)電子以sp3-雜化形式分布,由此可以推測(cè)在該模型外側(cè)形成了雜化軌道。同時(shí),這些電子大部分聚集在費(fèi)米能級(jí)(圖中虛線)以下,并且價(jià)帶頂端(圖中虛線下面的一條線)與費(fèi)米能級(jí)基本重合。還有少部分電子則分布在導(dǎo)帶底(圖中虛線上面的一條線)以上,且分布相對(duì)規(guī)律。這樣在價(jià)帶頂和導(dǎo)帶底之間,就形成了一個(gè)完全真空的間接帶隙,據(jù)圖可知帶寬約5.5eV,屬于絕緣體。同理可得其他模型的帶寬值,2×2×4 模型的帶寬值為5.3eV,2×2×6 模型的帶寬值為5.2eV,2×2×8 模型的帶寬值為5.0eV。據(jù)此總結(jié)規(guī)律,隨著晶粒尺寸的變大,納米金剛石薄膜的帶隙減小,兩者為反比關(guān)系。但是帶隙寬度不低于5.0eV,因此仍然屬于絕緣體。
圖1 2×2×2 模型的能帶圖
根據(jù)前人的研究經(jīng)驗(yàn),在人工合成納米金剛石的過程中,摻入特定的元素能夠進(jìn)一步改善納米金剛石薄膜的某些特性,如硬度、電導(dǎo)率、透光性等。其中,硅(Si)就是對(duì)納米金剛石薄膜性能有重要影響的一類元素。為驗(yàn)證Si 粒子形成的界面對(duì)電子特性的影響,按照上文方法同樣設(shè)計(jì)了4 種原子模型。不同的是,用2 個(gè)Si 原子替換模型中的2 個(gè)C 原子,替換后的模型如圖2所示。
圖2 加入了Si 原子的納米金剛石模型
在基于VASP 軟件的能帶分析中,同樣選擇最簡(jiǎn)單的2×2×2 結(jié)構(gòu)模型,得到其能帶結(jié)構(gòu)圖如圖3 所示。
圖3 加入Si 原子的2×2×2 模型能帶圖
從能帶圖上,除了觀察帶隙寬度以判定材料是否屬于絕緣體、半導(dǎo)體和導(dǎo)體外,還可以根據(jù)帶隙間隔與能級(jí)之間的關(guān)系,進(jìn)一步判斷半導(dǎo)體材料性質(zhì)的優(yōu)劣。根據(jù)這一特性,可以幫助我們?cè)谌斯ず铣杉{米金剛石薄膜時(shí),有針對(duì)性地提升其性能。通常情況下,能級(jí)之間的重疊次數(shù)越多,則帶隙間隔越大,反之亦然。同時(shí),材料的導(dǎo)電性能與帶隙寬度也有直接關(guān)系。如上文圖1 所示,對(duì)于絕緣體來(lái)說,帶隙寬度通常在5.0eV 以上;對(duì)于半導(dǎo)體材料,能帶大多被充滿。以加入了Si 原子的2×2×2 模型為例,其能帶圖中間隙寬度被壓縮至3.0eV 以內(nèi)。據(jù)此可知,加入Si 原子能夠改良材料的半導(dǎo)體性能。在此基礎(chǔ)上,我們分別對(duì)4 個(gè)模型下加入Si 后納米金剛石薄膜的帶隙差異進(jìn)行了對(duì)比分析。通過觀察4 種晶粒尺寸的帶隙,發(fā)現(xiàn)2×2×4 模型的帶寬值最大,為3.0eV;其次是2×2×6 模型,帶寬值為2.8eV;然后是2×2×3 模型,帶寬值為2.7eV;最后是2×2×8 模型,帶寬值為2.3eV。可以發(fā)現(xiàn),晶粒尺寸與進(jìn)入Si 后納米金剛石薄膜的帶隙沒有線性關(guān)系。但是由于帶寬值均處于1.0-3.0eV 之間,故都屬于半導(dǎo)體。
結(jié)合上述實(shí)驗(yàn)結(jié)果,已知加入Si 元素后,納米金剛石薄膜的電子特性發(fā)生了有較為顯著的變化,帶寬值從5.0eV 以上,變?yōu)?.0-3.0eV 之間,電子特性也從原來(lái)的絕緣體變成了半導(dǎo)體。這一變化驗(yàn)證了在人工合成納米金剛石薄膜過程中,通過外加特定元素能夠改變其電子特性的結(jié)論。在此基礎(chǔ)上,我們繼續(xù)探究加入多電子元素磷(P),對(duì)不同晶粒尺寸下材料特性的影響。按照前文所述方法,分別選取了4 個(gè)模型,用P 原子代替圖2 中的Si 原子,如圖4 所示。
圖4 加入了P 原子的納米金剛石模型
仍然以最簡(jiǎn)單的2×2×2 模型為例,使用VASP 軟件的能帶分析,其能帶圖如圖5 所示。
圖5 加入了P 原子的2×2×2 模型能帶圖
將加入了P 元素的能帶圖3與上文未加入任何元素的純凈金剛石晶體能帶圖1 相比,可以發(fā)現(xiàn)變化明顯的地方有2 處:其一是帶隙寬度進(jìn)一步收窄,圖1 中帶隙寬度在5.0eV 左右,而圖5 中帶隙寬度僅有1.0-2.0eV;其二是導(dǎo)帶底部,有部分曲線穿過了費(fèi)米能級(jí)。出現(xiàn)這一現(xiàn)象的原因,是因?yàn)樵谀P椭行录尤氲腜 原子,其價(jià)電子數(shù)多于C 原子,并且P 原子的共價(jià)半徑大于C 原子。這就造成P的電負(fù)性要遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過C。在納米金剛石晶體上,C/P 組合產(chǎn)生多電子雜質(zhì)效應(yīng),能帶圖上曲線波動(dòng)范圍更大,導(dǎo)致部分曲線穿過了費(fèi)米能級(jí)。觀察圖5,可以發(fā)現(xiàn)2×2×2 模型的帶寬值在1.6eV。同理,我們依次獲得另外3 種模型的能帶圖,發(fā)現(xiàn)在2×2×4 模型中,導(dǎo)帶底為-2.0eV,價(jià)帶頂為-3.4eV,帶寬值分別為1.4eV;在2×2×6 模型中,導(dǎo)帶底為-1.7eV,價(jià)帶頂為-3.2eV,帶寬值為1.5eV;在2×2×6 模型中,導(dǎo)帶底為-1.4eV,價(jià)帶頂為-3.1eV,帶寬值為1.7eV。帶寬值均處于1.0-3.0eV 之間,故都屬于半導(dǎo)體材料。
按照上文思路,加入多電子元素P 后,納米金剛石薄膜的電子特性發(fā)生明顯改變;如果將P 替換為少電子元素硼(B),那么材料的電子結(jié)構(gòu)與電學(xué)特性會(huì)不會(huì)發(fā)生改變呢?同樣的操作方法,分別選取如圖2 四種模型,用2 個(gè)B 原子替換模型中的2個(gè)Si 原子,其中2×2×2 模型的能帶圖如圖6 所示。
圖6 加入了B 原子的2×2×2 模型能帶圖
對(duì)于加入了B 原子的納米金剛石材料,通過能帶結(jié)構(gòu)圖可以比較直觀地判斷該材料屬于導(dǎo)體、半導(dǎo)體還是絕緣體。判斷指標(biāo)有2 個(gè),即帶隙間隔與散度。通常情況下,能帶結(jié)構(gòu)圖中,重合數(shù)越多,則帶隙間隔越大,相應(yīng)的導(dǎo)電性能越弱。對(duì)比圖1 和圖6,可以觀察到加入了B 原子的模型,相比于未加入其他元素的純凈納米金剛石,帶隙寬度也出現(xiàn)了收窄現(xiàn)象,大概在2.8eV。另外,與圖3 相似的,能帶圖中也出現(xiàn)了部分曲線穿過費(fèi)米能級(jí)的情況,不同的是從價(jià)帶頂部穿過。分析其原因,新加入的B 原子,價(jià)電子數(shù)要少于C 原子,雖然C/B 組合也會(huì)出現(xiàn)電子雜質(zhì)效應(yīng)。但是B的共價(jià)半徑小于C,故電負(fù)性低于C,導(dǎo)致價(jià)帶頂部曲線波動(dòng)幅度增大,部分曲線穿過費(fèi)米能級(jí)。從作用形式上來(lái)看,在費(fèi)米能級(jí)最低點(diǎn)上,存在由C 原子組成的2s 軌道電子和由B 原子組成的2s 軌道電子相互作用。同時(shí),在費(fèi)米能級(jí)的-10ev-0eV 段,以及10eV-20eV 段,各出現(xiàn)了1 個(gè)峰值。分析其成因,在-10ev-0eV 段,是由C 原子組成的2p 軌道電子,B 原子組成的2s、2p 軌道電子,三者共同作用形成的;而10eV-20eV 段,則是由C 原子組成的2s、2p 軌道電子,以及由B原子組成的2s、2p 軌道電子,四者共同作用形成的。同樣,分別獲取其他3 種模型的能帶圖,發(fā)現(xiàn)在2×2×4 模型中,導(dǎo)帶底為6.4eV,價(jià)帶頂為2.9eV,帶寬值分別為3.5eV;在2×2×6 模型中,導(dǎo)帶底為6.1eV,價(jià)帶頂為2.8eV,帶寬值為3.3eV;在2×2×6 模型中,導(dǎo)帶底為5.9eV,價(jià)帶頂為2.3eV,帶寬值為3.6eV,沒有明顯變化規(guī)律,但是因?yàn)閹捴敌∮?eV,故材料也具有導(dǎo)電性。
純凈納米金剛石薄膜為絕緣體,但是在人工合成過程中,從微觀層面上加入特定的化學(xué)元素,將會(huì)改變其電子結(jié)構(gòu)和電學(xué)特性,從而讓絕緣體變成半導(dǎo)體、導(dǎo)體。試驗(yàn)表明,加入Si、P 和B 三種元素,納米金剛石薄膜的帶隙寬度均有不同程度收窄現(xiàn)象,導(dǎo)電性增加,對(duì)提高納米金剛石在半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的應(yīng)用價(jià)值有重要價(jià)值。