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      帶電磁屏蔽膜的剛撓結(jié)合印制板脫膜改善

      2022-02-25 09:44:00趙相華石學(xué)兵樊廷慧
      印制電路信息 2022年2期
      關(guān)鍵詞:保護方式成品屏蔽

      趙相華 石學(xué)兵 樊廷慧 李 波

      (惠州市金百澤電路科技有限公司,廣東 惠州 516083)

      (深圳市金百澤電子科技股份有限公司,廣東 深圳 518000)

      0 前言

      現(xiàn)代工業(yè)電子對信號的要求越來越高,電磁屏蔽膜用于剛撓結(jié)合印制電路板(R-FPCB)也越來越廣泛,印制電路板(PCB)更多地選用R-FPCB貼電磁屏蔽膜來滿足產(chǎn)品小型化、輕量化、信號損耗傳輸小和抗干擾的結(jié)構(gòu)。生產(chǎn)中按照傳統(tǒng)的壓合方式總壓前貼屏蔽膜及撓性區(qū)小揭蓋后壓電磁膜已經(jīng)成為PCB行業(yè)內(nèi)的一種很大挑戰(zhàn),本文介紹一款帶電磁膜的剛撓結(jié)合板壓合脫膜改善探討。

      1 產(chǎn)品介紹

      1.1 產(chǎn)品結(jié)構(gòu)

      產(chǎn)品結(jié)構(gòu)與參數(shù)如圖1和表1所示。

      圖1 產(chǎn)品結(jié)構(gòu)圖

      表1 產(chǎn)品加工參數(shù)

      1.2 工藝難點解析

      (1)壓合前使用傳統(tǒng)工藝貼電磁屏蔽膜會出現(xiàn)嚴重脫膜問題,無法滿足客戶品質(zhì)要求;

      (2)撓性區(qū)小的剛撓結(jié)合板揭蓋后再壓合電磁屏蔽膜會出現(xiàn)壓不實;

      (3)撓性區(qū)臺階槽位置含空氣存在,導(dǎo)致高溫后局部空洞區(qū)域熱漲電磁屏蔽膜起泡;

      脫膜部位均為電磁屏蔽膜邊緣位置或中間位置線路部分脫膜,如圖2所示。

      圖2 電磁屏蔽膜脫膜

      2 多種方式驗證脫膜改善

      2.1 試驗方案

      (1)使用國產(chǎn)及日產(chǎn)電磁屏蔽膜同時對比其技術(shù)特性,測試不同電磁屏蔽膜類型對脫膜的影響;

      (2)國產(chǎn)及日產(chǎn)均有對覆蓋膜快壓后進行固化,測試電磁屏蔽膜表面固化方式對脫膜的影響;

      (3)測試不同保護方式對成品脫膜的影響度。

      2.2 測試數(shù)據(jù)

      (1)使用的電磁屏蔽膜種類如表2所示。

      表2 電磁屏蔽膜種類

      (2)用DOE試驗考察3個因素:A1(電磁屏蔽膜種類)、B1(烤板條件)、C1(保護方式),3因素3水平表為表3所示。

      表3 水平因素表

      (3)DOE測試數(shù)據(jù)見表4所示。

      表4 測試數(shù)據(jù)表

      (4)測試數(shù)據(jù)分析如下。

      ①經(jīng)DOE試驗,電磁屏蔽膜保護方式為主要影響因素,以C3(貼保護膠膜)為最優(yōu)方式;

      ②三種固化條件對比,不烤板電磁屏蔽膜脫落嚴重,快壓后按150 ℃烘烤4 h對電磁屏蔽膜脫落有明顯改善;

      ③三種電磁屏蔽膜性能對比,日本電磁屏蔽膜,在同等條件下生產(chǎn),揭蓋后也存在星點脫落現(xiàn)象,品質(zhì)無明顯優(yōu)勢,且電磁屏蔽膜表面不耐乙醇擦拭;國產(chǎn)有硅與無硅對比,有硅電磁屏蔽膜略優(yōu)。

      ④綜合對比,最優(yōu)方案為A3B2C3。

      ⑤測試小結(jié):通過DOE測試,烘烤條件及保護方式為電磁屏蔽膜脫落的主要影響因素,電磁膜類型為次要因素,最優(yōu)方案為A2B2C3(國產(chǎn)有硅電磁屏蔽膜+快壓后烤板4 h+貼保護膜保護)。

      3 方案驗證

      3.1 加工流程

      采用最優(yōu)方案為A3B2C3,即國產(chǎn)有硅電磁屏蔽膜+烤板4 h+貼高溫膠保護。具體流程如圖3所示。

      圖3 加工流程

      3.2 加工方法

      (1)烤箱烤板:軟板快壓電磁屏蔽膜后,疊放在環(huán)氧板上,轉(zhuǎn)烤箱,按150 ℃烤板4 h。

      (2)成品清洗:軟板烤板后存在銅面氧化嚴重,貼牽引板過酸洗去除硬板區(qū)域氧化,如圖4。

      圖4 成品清洗

      (3)硬板的 制作:按常規(guī)流程做至內(nèi)蝕檢→剛板貼覆蓋膜→激光切割→壓覆蓋膜→棕化→貼保護膜→激光切割。

      3.3 成品揭蓋效果

      成品板按常規(guī)方式揭蓋,揭蓋后電磁屏蔽膜無脫落現(xiàn)象,如圖5符合品質(zhì)要求。

      圖5 成品揭蓋效果圖

      3.4 耐熱性測試

      成品經(jīng)過熱沖擊288 ℃/10 s/3次電磁屏蔽膜無起泡脫膜現(xiàn)象,進行無鉛回流焊3次電磁屏蔽膜也無氣泡脫膜。

      4 總結(jié)

      (1)經(jīng)DOE試驗測試,電磁膜保護方式為主要影響因素;

      (2)經(jīng)過對比三種固化條件,不烤板電磁膜脫落嚴重,快壓后按150 ℃烘烤4 h對電磁膜脫落有明顯改善;

      (3)三種電磁屏蔽膜性能對比,日本電磁屏蔽膜,在同等條件下生產(chǎn),揭蓋后也存在星點脫落現(xiàn)象,品質(zhì)無明顯優(yōu)勢,且電磁屏蔽膜表面不耐乙醇擦拭;國產(chǎn)有硅與無硅對比,以有硅電磁屏蔽膜略優(yōu);

      (4)經(jīng)耐熱性測試,電磁屏蔽膜經(jīng)過熱沖擊288 ℃/10 s/3次無起泡脫膜現(xiàn)象,3次無鉛回流焊目視檢查,品質(zhì)無異常;

      (5)按國產(chǎn)有硅電磁屏蔽膜+快壓后烤板4 h+貼保護膠膜保護的方法進行生產(chǎn),成品無電磁屏蔽膜脫落現(xiàn)象,符合品質(zhì)要求;

      通過對比測試,按國產(chǎn)有硅電磁屏蔽膜+快壓后烤板4 h+貼保護膠膜工藝方法加工,成品揭蓋后無需人工修理及電磁屏蔽膜無脫落,改善明顯有效,為后續(xù)批量生產(chǎn)奠定技術(shù)基礎(chǔ)。

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