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      半導(dǎo)體紫外器件及應(yīng)用技術(shù)全球?qū)@麢z索與信息分析

      2022-04-29 05:42:52呂天剛呂鶴男王躍飛劉秀娟
      科技創(chuàng)新與應(yīng)用 2022年10期
      關(guān)鍵詞:專利申請生命周期半導(dǎo)體

      呂天剛,呂鶴男,王躍飛,劉秀娟

      (1.鴻利智匯集團股份有限公司,廣東 廣州 510890;2.廣州市帝亞照明股份有限公司,廣東 廣州 510890;3.中國電子技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化研究院,北京 100007)

      半導(dǎo)體紫外發(fā)射二極管(Semiconductor ultraviolet-emitting diodes,英文縮寫UV LED),又稱半導(dǎo)體紫外光源、固態(tài)紫外光源。是基于第三代半導(dǎo)體技術(shù)的固態(tài)紫外光源,與新型LED照明、大功率電力電子器件并列為第三代半導(dǎo)體技術(shù)3大方向。與傳統(tǒng)紫外光源相比具有很多顯著優(yōu)勢,如:節(jié)能、環(huán)保、壽命長、體積輕小、啟動快、易調(diào)制和易與數(shù)字電路兼容等。紫外發(fā)射二極管是目前氮化物技術(shù)發(fā)展和第三代半導(dǎo)體材料技術(shù)發(fā)展的主要趨勢,擁有廣闊的應(yīng)用前景。將在包括殺菌消毒、醫(yī)療、化工、環(huán)境凈化、環(huán)境監(jiān)測、工業(yè)制造、無創(chuàng)光療、非視距保密通信在內(nèi)的眾多領(lǐng)域獲得廣泛應(yīng)用[1]。當(dāng)前,致死率極高的新型冠狀病毒(COVID-19)還在全球大流行,為抑制和減輕導(dǎo)致該疾病的冠狀病毒2型(SARS-CoV-2)的傳播,人們加速了對環(huán)境控制的探索,這進一步刺激了紫外行業(yè)在殺菌、空氣凈化與水處理領(lǐng)域的推廣,半導(dǎo)體紫外光源上下游的技術(shù)發(fā)展和產(chǎn)業(yè)化步伐正在加快。

      根據(jù)WIPO的統(tǒng)計,全世界每年發(fā)明創(chuàng)造成果的90%~95%體現(xiàn)在專利文獻中,其他的技術(shù)文獻和雜志中能零星地看到5%~10%[2]。專利數(shù)量與專利質(zhì)量是技術(shù)實力的重要表現(xiàn)形式,專利全球布局和時間曲線反映了產(chǎn)業(yè)態(tài)勢和技術(shù)演化軌跡,且記載了各專業(yè)技術(shù)領(lǐng)域的最新科技成果,充分利用專利信息是增強創(chuàng)新能力,實現(xiàn)創(chuàng)新引領(lǐng)發(fā)展的有效途徑。目前,針對半導(dǎo)體紫外光源行業(yè)的專利信息分析研究十分稀缺。本研究以PatSnap智慧芽全球?qū)@麛?shù)據(jù)庫和專利檢索平臺為基礎(chǔ),結(jié)合行業(yè)特點進行專利信息檢索和技術(shù)分析(圖1)。

      圖1 半導(dǎo)體紫外器件(上)及應(yīng)用設(shè)備(下)

      1 項目背景

      目前,該領(lǐng)域技術(shù)和市場都還處于萌芽期,核心技術(shù)主要集中在美、日、韓及歐洲的少數(shù)企業(yè)和研究機構(gòu)手中,如美國的HexaTech、SETi、RayVio、Crystal IS等,日本的NICHIA NITRIDE、TOYODA、NIKKISO、NITRIDE、Asahi-KASEI、TOKUYAMA、DOWA等,韓國的LG Innotek、Seoul、Viosys等。他們中很多深耕此研究超過10年,憑借其在半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的雄厚基礎(chǔ),不斷取得創(chuàng)新性突破。相比之下,國內(nèi)技術(shù)水平明顯落后,尤其在深紫外領(lǐng)域,差距更大。在AlGaN核心材料開發(fā)與產(chǎn)業(yè)化方面更是基礎(chǔ)薄弱。

      LEDinside《2018紫外線LED應(yīng)用市場報告-固化、醫(yī)療、殺菌》預(yù)估2022年UV LED市場產(chǎn)值將超過12億美元。研究機構(gòu)Yole分析師預(yù)測,受UVC應(yīng)用推動,UV LED市場將在2023年達到10億美元[3]。由于受到產(chǎn)業(yè)端和需求端多方的關(guān)注和大力投入,半導(dǎo)體紫外技術(shù)迅速發(fā)展,雖然目前主要以固化和印刷應(yīng)用為主,但隨著深紫外技術(shù)的成熟和上下游產(chǎn)業(yè)鏈的完善,預(yù)計未來3-5年內(nèi)深紫外產(chǎn)業(yè)將成半導(dǎo)體紫外市場擴張的主力軍。市場即將進入快速增長期,新興市場利益之爭越來越激烈。2016年Seoul Viosys在美國訴Salon,2018年SETi在 美 國 訴Bolb和Q-egg,2018年LG Innotek在 美 國 訴Evergreat,2018年Nitride在日本訴RayVio和Digi-Key Corp,等等。

      對于專利信息分析,國外學(xué)者K.Brockhoff認(rèn)為由于專利含有技術(shù)創(chuàng)新的信息,通過對專利信息進行科學(xué)分析,掌握技術(shù)的發(fā)展程度,及技術(shù)與技術(shù)之間的關(guān)聯(lián),從而反映行業(yè)發(fā)展趨勢。美國的Richard S.Camphell認(rèn)為專利信息是技術(shù)創(chuàng)新預(yù)測的科學(xué)依據(jù),專利信息分析可以對現(xiàn)有技術(shù)成熟程度的評價和技術(shù)發(fā)展方向的預(yù)測。本項目經(jīng)收集整理、深度挖掘、整合轉(zhuǎn)化之后獲取的信息,具有反映深層次規(guī)律的功能,主要用于對未來技術(shù)發(fā)展方向和研發(fā)方向的預(yù)測與決策,同時對于分析大的競爭環(huán)境具有重要作用[4]。

      2 專利檢索

      2.1 檢索條件

      定義:半導(dǎo)體紫外發(fā)射二極管,英文縮寫UV LED,Semiconductor ultraviolet-emitting diodes,又稱半導(dǎo)體紫外光源、固態(tài)紫外光源。

      分類:按波長分為(1)UV-A,315 nm<λ≤400 nm;(2)UV-B,280 nm<λ≤315 nm;(3)UV-C,200 nm<λ≤280 nm(GB/T 2900—65中為100~280 nm)。按產(chǎn)業(yè)鏈分為芯片、器件和應(yīng)用。按應(yīng)用領(lǐng)域分為印刷、固化、殺菌、醫(yī)療、化工、分析和信號等。

      檢索目標(biāo)區(qū)域:全球檢索。

      檢索語言:中英文混合檢索。

      檢索工具:PatSnap智慧芽全球?qū)@麛?shù)據(jù)庫(https://analytics.zhihuiya.com/)。

      2.2 總體檢索策略

      采用總-分-總方式,分別查UV技術(shù)分支和LED技術(shù)分支的全部專利,查得UV和LED 2個獨立的技術(shù)專利集,將2個專利集合相與,再對結(jié)果進行去噪、查全、補全、查準(zhǔn)等操作,得目標(biāo)專利文獻。

      2.3 檢索過程總結(jié)

      在PatSnap智慧芽全球?qū)@麛?shù)據(jù)庫環(huán)境下,采用高級檢索。

      檢索所有紫外(A1)→檢索所有LED(A2、A3)→并集(SA1=A1&A2)→分析噪聲(SZ1、SZ2、SZ3)→去噪聲(SA2=SA1-SZ3)→第1次制作查全樣本P1→第1次查全(P1&SA2)→補全檢索(AP1、AP2)→補全SA3=SA2/(AP1/AP2)→第2次制作查全樣本(P2)→第2次查全(P2&SA3)→查準(zhǔn)(P)→結(jié)束。

      檢索結(jié)果:共計151K條專利,去重,110K條專利,簡單同族,SA3=68.2K條專利。

      3 專利信息分析

      根據(jù)專利檢索數(shù)據(jù),對現(xiàn)狀和趨勢進行分析,內(nèi)容包括全球?qū)@植棘F(xiàn)狀(技術(shù)來源、目標(biāo)市場等)、申請趨勢、技術(shù)生命周期、技術(shù)構(gòu)成、主要申請人、重點專利、訴訟情況等。

      3.1 全球?qū)@植棘F(xiàn)狀

      截止2020年3月26日本檢索完成時,通過對半導(dǎo)體紫外器件及應(yīng)用技術(shù)全球?qū)@麢z索,共獲得68 248組簡單同族專利,相關(guān)專利來自于116個國家或地區(qū)。

      其中,相關(guān)專利技術(shù)來源國/地區(qū)來源地排名前10的包括日本、美國、中國、韓國、德國、歐洲、英國、中國臺灣、法國、世界知識產(chǎn)權(quán)組織。幫助了解該國家/地區(qū)的技術(shù)創(chuàng)新能力和活躍程度。也可以側(cè)面反映出持有該技術(shù)的主要公司分布,如圖2(a)所示。相關(guān)專利技術(shù)目標(biāo)市場國/地區(qū)排名前10的包括:日本、美國、中國、世界知識產(chǎn)權(quán)組織、歐洲、韓國、加拿大、澳大利亞、德國、中國臺灣,如圖2(b)所示。如圖3所示,分析技術(shù)主要布局在哪些國家/地區(qū),專利申請量的多少在一定程度上反映了該目標(biāo)市場的受關(guān)注程度。這可以幫助企業(yè)在做技術(shù)戰(zhàn)略布局時,評估哪些是需要主要關(guān)注的國家/地區(qū),以及哪些國家/地區(qū)均未被布局,是否可能成為潛在的機會點。

      圖2 技術(shù)來源地與目標(biāo)市場地分布圖

      圖3 重要技術(shù)分支地域分布

      3.2 申請趨勢

      專利申請趨勢圖展示的是專利申請量的發(fā)展趨勢。通過申請趨勢可以從宏觀了解該技術(shù)領(lǐng)域在各時期的專利申請熱度變化。

      專利申請趨勢分析是一種宏觀分析方法,主要目的是通過對專利申請數(shù)量的分析,判斷產(chǎn)品技術(shù)所處的發(fā)展階段,為企業(yè)確定發(fā)展方向提供指導(dǎo)。

      半導(dǎo)體紫外專利申請趨勢分析如圖4所示,本趨勢圖選取了該技術(shù)領(lǐng)域近20年專利申請數(shù)據(jù)。根據(jù)專利申請量變化趨勢,該技術(shù)起步較早,近20年一直在穩(wěn)步增長且目前正處于快速發(fā)展階段。需要說明的是,由于公開日期較申請日期有延遲,所以該圖中未能完整體現(xiàn)2019年和2020年申請數(shù)據(jù)。

      圖4 申請趨勢

      實際上,國外相關(guān)技術(shù)的基礎(chǔ)研究在更早之前就開始了,如,成立于1997年的美國Crystal IS(2016年被日本Asahi-KASEI合并)是專門研究開發(fā)UVC半導(dǎo)體器件氮化鋁(AlN)襯底技術(shù)的公司。日本NITRIDE半導(dǎo)體公司也是于1997年就開始研究UV-A、UV-B、UV-C全波段紫外LED的圓片、芯片、器件和應(yīng)用技術(shù)了。

      3.3 技術(shù)生命周期

      利用專利申請量與專利申請人數(shù)量隨時間的推移而變化來幫助分析當(dāng)前技術(shù)領(lǐng)域生命周期所處階段。通過這個圖可以幫助評估技術(shù)發(fā)展的階段,用來判斷是否需要進入當(dāng)前技術(shù)領(lǐng)域[5]。

      生命周期(Life Cycle,LC)的概念來自自然生態(tài)系統(tǒng),一般人們將其引用于社會經(jīng)濟系統(tǒng)的研究領(lǐng)域,用以描述社會經(jīng)濟現(xiàn)象的某些類似于自然生態(tài)系統(tǒng)的生命特征[6]。1966年哈佛大學(xué)教授Raymond Vernon在《International Investment and International Trade in the Product Cycle》中首次提出了產(chǎn)品生命周期理論[7],與產(chǎn)品生命周期類似,技術(shù)的發(fā)展會經(jīng)過技術(shù)生命周期的不同階段,各階段具有不同特性,這些特性會影響高新技術(shù)戰(zhàn)略選擇與調(diào)整、產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)升級。泰瑟思認(rèn)為技術(shù)生命周期可以分為4個階段:一般研究發(fā)展階段、應(yīng)用研發(fā)階段、大量制造生產(chǎn)階段及市場擴張階段[8]。哈利勒在敘述技術(shù)生命周期不同階段與市場成長率時,把技術(shù)分為6個周期:技術(shù)開發(fā)期、開始應(yīng)用期、應(yīng)用成長期、技術(shù)成熟期、替代技術(shù)期、技術(shù)衰退期。

      目前,半導(dǎo)體紫外器件及應(yīng)用技術(shù)處于泰瑟思理論的第一、二階段過渡期,哈利勒理論的第二、三階段過渡期(圖5)。

      圖5 技術(shù)生命周期

      3.4 技術(shù)構(gòu)成分析

      分析主要技術(shù)分支的占比情況,可以幫助了解各技術(shù)分支的創(chuàng)新熱度,以及當(dāng)前技術(shù)布局的空白點可能是潛在機會。

      如圖6所示,半導(dǎo)體紫外器件及應(yīng)用技術(shù)涉及的IPC國際專利分類號主要有H01L33、H01L21、A61L2、C09K11、C02F1、G01N21等,其中,占比最大的分類是H01L33,即:至少有1個電位躍變勢壘或表面勢壘的專門適用于光發(fā)射的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或設(shè)備;這些半導(dǎo)體器件的零部件(H01L51/00優(yōu)先;由在1個公共襯底中或其上形成有多個半導(dǎo)體組件并包括具有至少1個電位躍變勢壘或表面勢壘,專門適用于光發(fā)射的器件入H01L27/15;半導(dǎo)體激光器入H01S5/00)。

      圖6 技術(shù)構(gòu)成分析

      3.5 申請人排名分析

      該技術(shù)領(lǐng)域內(nèi)哪些公司擁有的專利總量最多,幫助了解該技術(shù)領(lǐng)域內(nèi)的主要公司和競爭威脅。

      如圖7所示,半導(dǎo)體紫外器件及應(yīng)用技術(shù)專利申請量全球排名USHIO、SEOUL VIOSYS、SEIKO EPSON、PANASONIC、TOYODA GOSEI、KONICA、FUJIFILM、LG INNOTEK、NICHIA、ASAHIK ASEI。

      圖7 全球申請人排名

      3.6 重點專利

      3.6.1 被引用最多的專利

      如圖8所示,被引用最多的專利表示已被廣泛應(yīng)用并且有很多人借鑒這些技術(shù),這些專利更具影響力并代表著該技術(shù)領(lǐng)域的核心創(chuàng)新技術(shù)。

      圖8 被引用最多的專利

      3.6.2 規(guī)模最大的專利家族

      如圖9所示,識別全球范圍內(nèi)規(guī)模最大的專利家族,這些專利被在全球廣泛布局保護。

      圖9 規(guī)模最大的專利家族

      當(dāng)分析偏好選擇為[全部專利記錄]、[每件申請顯示一個公開文本]和[每組擴展同族一個專利代表]時,此圖表專利家族使用擴展同族計算。

      分析偏好選擇[每組簡單同族一個專利代表]、[每組INPADOC同族一個專利代表]時,此圖表專利家族使用設(shè)置的去重方式計算。

      3.7 訴訟情況

      如圖10所示,最多訴訟專利幫助確定構(gòu)成最高訴訟威脅,這代表了值得注意的研發(fā)雷區(qū)。

      圖10 訴訟數(shù)量

      通過專利訴訟獲得市場競爭優(yōu)勢是國際企業(yè)慣用手段[9],紫外LED行業(yè)也是如此。2016年Seoul Viosys在美國訴Salon,2018年SETi在美國訴Bolb和Qegg,2018年LG Innotek在美國訴Evergreat,2018年Nitride在日本訴RayVio和Digi-Key Corp……。

      此外,專利也是部分國家實施貿(mào)易壁壘的手段,最為人熟知的即美國的337調(diào)查。三代半導(dǎo)體技術(shù)的另一分支——新型LED照明產(chǎn)業(yè)的整個發(fā)展過程都深受337調(diào)查的困擾。慶幸的是中國企業(yè)在LED照明相關(guān)的專利技術(shù)、市場份額、產(chǎn)業(yè)配套等各個方面,都已掌握了主動權(quán),并且相關(guān)爭端解決機制也慢慢成熟,這從近2年的LED產(chǎn)業(yè)337調(diào)查的勝訴案例即可看出,如2018年LED舞臺燈337案和2019年LED顯示屏案[10-11]。

      為制勝市場競爭,創(chuàng)新主體在將專利運用于市場競爭的過程中,一是可著眼于相關(guān)專利更快更好地實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化,促使其所儲備的專利能夠更加精準(zhǔn)、高效地轉(zhuǎn)化為產(chǎn)業(yè)技術(shù)競爭的核心優(yōu)勢;二是可著眼于維護市場運營安全,一方面及時發(fā)現(xiàn)和規(guī)避專利風(fēng)險,防患于未然,另一方面依托其儲備的專利建立對主要競爭對手的戰(zhàn)略威懾,確保企業(yè)市場行動自由和研發(fā)行動自由;三是可著眼于市場收益的取得,依托具有市場化潛質(zhì)的專利來直接進行運營運用,以建立企業(yè)新的利潤增長點。在以新技術(shù)突破為基礎(chǔ)的產(chǎn)業(yè)變革和市場競爭中,上述一系列作用更加突出。就此而言,專利堪稱創(chuàng)新主體有效參與市場競爭的“戰(zhàn)斗員”[12]。

      4 結(jié)束語

      本文研究了半導(dǎo)體紫外器件及應(yīng)用技術(shù),通過PatSnap智慧芽全球?qū)@麛?shù)據(jù)庫環(huán)境下高級檢索形式,采用總-分-總方式,對相關(guān)技術(shù)領(lǐng)域?qū)@M行了全球檢索。分別查UV技術(shù)分支和LED技術(shù)分支的全部專利,查得UV和LED 2個獨立的技術(shù)專利集,將2個專利集合相與,再對結(jié)果進行去噪、查全、補全、查準(zhǔn)等操作,共獲得符合條件的專利數(shù)據(jù)樣本6.82萬個。并對獲得的樣本進行技術(shù)分析,得出全球?qū)@植棘F(xiàn)狀、申請趨勢、技術(shù)生命周期、技術(shù)構(gòu)成、申請人、重要專利及專利訴訟情況等重要信息,為本行業(yè)技術(shù)研發(fā)戰(zhàn)略的制定、專利布局及專利策略的制定等提供可靠技術(shù)依據(jù)。

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