桂雨曦,郝先東,邱宏菊,吳春晗,高 磊,陳 菓
(1.云南民族大學(xué) 化學(xué)與環(huán)境學(xué)院,云南昆明 650500; 2.寧夏鼎輝科技有限公司,寧夏青銅峽 751600)
從礦石中浸出鋅有酸法、堿法和氨法[1-3],浸出液經(jīng)凈化,最終以電積法回收鋅。其中,氨法因適用于低品位氧化鋅礦石及堿性含鋅渣而受到廣泛重視[4-7]。電積鋅質(zhì)量及形貌與工藝參數(shù)[8]、電流密度[9]及電積液中雜質(zhì)等有關(guān)。鉛相對于其他大部分雜質(zhì),更易以配合物、氯化鉛等形式被浸出,從而影響電積過程,導(dǎo)致電積鋅質(zhì)量、產(chǎn)量下降[10]。酸性體系中的鉛會(huì)使鋅結(jié)晶擇優(yōu)面發(fā)生改變,電積液中鉛離子質(zhì)量濃度不同,鋅結(jié)晶擇優(yōu)晶面也不同[11]。而氨法體系中鉛對鋅電積的影響相關(guān)研究較少,鉛在電積過程中的作用機(jī)制尚不清晰,研究氨法體系中鉛對鋅電積過程的影響有重要意義。
對于電積液中鉛的去除,目前主要有直接鋅粉置換法、多段式鋅粉凈化法及沉淀劑輔助凈化法等。其中,鋅粉置換法[12-16]凈化效果好,鉛去除率高,且直接鋅粉置換法操作簡單方便、不引入新雜質(zhì),具有較高的工業(yè)應(yīng)用價(jià)值。但以往的研究多關(guān)注Zn(Ⅱ)-NH3-NH4Cl-H2O體系,而對低氨體系(ZnCl2-NH4Cl-H2O)的研究較少。為解決低氨體系中鉛的高效凈化去除,試驗(yàn)選擇直接鋅粉置換法去除鉛,探討鉛的凈化規(guī)律及其對電積鋅的影響。
電積液:主要組成見表1,雜質(zhì)離子以氯化物、氨配合物形式存在。pH為5.5~7.0。
試劑:氨水,氯化鉛,鋅粉,均為化學(xué)純。
表1 電積液的主要組成 g/L
設(shè)備與儀器:pH計(jì)(pH-100型),力辰科技有限公司;實(shí)時(shí)檢測pH-溫度計(jì),杭州美控自動(dòng)化技術(shù)有限公司;恒溫水浴箱,海方瑞儀器有限公司;磁力加熱攪拌器,國華電器有限公司;火焰原子吸收光譜儀(NovAA800F型),德國Analytik Jena公司。X射線熒光光譜儀(EDX-8000型),島津企業(yè)管理(中國)有限公司;場發(fā)射掃描電子顯微鏡(NOVA NANOSEM-450型),美國FEI公司。X射線衍射儀(X-ray diffraction D/Max 2500型),日本理學(xué)公司。
溶液中雜質(zhì)離子以氯化物、氨配合物形式存在,鋅粉與雜質(zhì)離子發(fā)生的反應(yīng)如下:
(1)
(2)
鋅粉與金屬氯化物發(fā)生置換反應(yīng):
(3)
(4)
電積液凈化:取電積液2 L于燒杯中,添加氯化鉛使初始鉛質(zhì)量濃度為30 mg/L,將燒杯置入恒溫?cái)嚢杵髦?,加入鋅粉,控制溫度為55 ℃。反應(yīng)結(jié)束后過濾,濾液通過EDTA滴定法測定鋅質(zhì)量濃度,通過火焰原子吸收光譜法測定鉛質(zhì)量濃度,計(jì)算鉛去除率。
根據(jù)電位-pH關(guān)系,電積過程中,陽極首先析出氮?dú)舛茄鯕鈁17]:
(5)
(6)
(7)
總陽極反應(yīng)為:
(8)
陰極發(fā)生還原反應(yīng)將鋅氨配合物和氯化鋅還原為鋅金屬,反應(yīng)方程式如下:
(9)
(10)
式中,i=1,2,3,4。
試驗(yàn)方法:陰極為鋁板,陽極為石墨。常規(guī)所用的Pb-Ag陽極在電積過程中會(huì)發(fā)生反應(yīng),在未鍍膜或表面生成PbO2穩(wěn)定膜之前,鉛溶解生成鉛離子,其中有少量進(jìn)入電積液中,污染電積液。異極距4.5 cm,溫度40 ℃。電積液中鉛質(zhì)量濃度為0.91、6.5、35 mg/L。
2.1.1 反應(yīng)時(shí)間對鉛去除率的影響
電極液中初始鉛質(zhì)量濃度30 mg/L,鋅粉添加量4 g,攪拌速度600 r/min,反應(yīng)時(shí)間對鉛去除率的影響試驗(yàn)結(jié)果如圖1所示。
圖1 反應(yīng)時(shí)間對鉛去除率的影響
由圖1看出:反應(yīng)30 min,鉛去除率即達(dá)92.41%; 反應(yīng)90 min后,鉛去除率達(dá)97.44%。反應(yīng)初期,溶液中雜質(zhì)金屬離子含量較大,置換反應(yīng)進(jìn)行迅速,鉛去除率迅速升高;隨反應(yīng)進(jìn)行,鉛被置換生成了大量絮狀或海綿狀配合物沉淀,導(dǎo)致部分鋅粉顆粒被包裹失活,進(jìn)而導(dǎo)致反應(yīng)趨緩;鉛發(fā)生反溶,以離子形態(tài)重新進(jìn)入溶液中,反溶與置換達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡,使鉛去除率趨于穩(wěn)定。
2.1.2 鋅粉添加量對鉛去除率的影響
電積液中初始鉛質(zhì)量濃度30 mg/L,反應(yīng)時(shí)間75 min,攪拌速度600 r/min,鋅粉添加量對鉛去除率的影響試驗(yàn)結(jié)果如圖2所示。
圖2 鋅粉添加量對鉛去除率的影響
由圖2看出:隨鋅粉添加量加大,鋅過量程度增大,鋅與鉛離子的置換反應(yīng)進(jìn)行更充分,鋅粉添加量為4.5 g左右時(shí),鉛去除率趨于穩(wěn)定。鋅粉添加量達(dá)到一定水平,溶液中所得鉛離子沉淀接近完全,反應(yīng)趨于平衡。綜合考慮,確定鋅粉適宜添加量為4.5 g(2.25 g/L)。
2.1.3 攪拌速度對鉛去除率的影響
電積液初始鉛質(zhì)量濃度30 mg/L,反應(yīng)時(shí)間75 min,鋅粉添加量4 g,攪拌速度對鉛去除率的影響試驗(yàn)結(jié)果如圖3所示。
圖3 攪拌速度對鉛去除率的影響
由圖3看出:攪拌速度增大有助于鋅粉分散,避免鋅粉沉底團(tuán)聚而影響反應(yīng)進(jìn)行。前期攪拌速度越大,鉛去除率越高,攪拌速度達(dá)600 r/min時(shí),鉛去除率達(dá)96.90%;繼續(xù)增大攪拌強(qiáng)度,鉛去除率變化不大。攪拌速度在600 r/min左右,已能充分打破沉淀團(tuán)聚而釋放鋅顆粒,有助于提高鉛去除率。
2.2.1 鉛對電積鋅純度及表觀形貌的影響
電積液溫度45 ℃,電流密度400 A/m2,異極距4.5 cm,電極時(shí)間8 h,其他條件不變,pH為4~6。 電積液中鉛質(zhì)量濃度對電積鋅純度和表面形貌的影響試驗(yàn)結(jié)果見表2和圖4。
表2 電積液含鉛量對電極鋅純度及表觀形貌的影響
圖4 鋅片的表觀形貌
由表2、圖4看出:隨電積液中鉛質(zhì)量濃度升高,陰極鋅從白亮致密向發(fā)黑疏松轉(zhuǎn)變,污染逐漸加重。鉛離子標(biāo)準(zhǔn)還原電位大于鋅離子標(biāo)準(zhǔn)還原電位,會(huì)在陰極優(yōu)先于鋅析出[19];鉛離子質(zhì)量濃度低至一定水平(6.5 mg/L)后,鉛析出量較低,電積鋅質(zhì)量更高。
2.2.2 對陰極鋅微觀形貌的影響
不同含鉛量鋅片的SEM分析結(jié)果如圖5所示。
a—1#鋅片,10 000倍;b—1#鋅片,50 000倍;c—2#鋅片,10 000倍;d—2#鋅片,50 000倍;e—3#鋅片,10 000倍;f—3#鋅片,100 000倍。圖5 不同含鉛量鋅片的SEM分析結(jié)果
由圖5看出:1#鋅片呈大面積“長米?!敝睿哂猩L朝向不規(guī)則的簇狀生長特點(diǎn),其結(jié)構(gòu)無規(guī)則緊密排列,中間有孔洞結(jié)構(gòu)出現(xiàn)。形成簇狀形貌的原因可能是,電結(jié)晶推動(dòng)力來自于陰極電位差,鉛在鋁基上的電位差更大,因此,鉛被還原成吸附態(tài)原子后將率先占據(jù)鋁基電極表面成核位點(diǎn),使電極表面產(chǎn)生分散的鉛聚集“突觸”,其本身轉(zhuǎn)變?yōu)槲綉B(tài)鋅原子的成核位點(diǎn),而在這類凸起位置生長的鋅晶型由于基底不平且面積小而相互擠壓,使片狀鋅晶片變?yōu)椤懊琢!睜?。隨鉛質(zhì)量濃度升高,擠壓現(xiàn)象更嚴(yán)重,導(dǎo)致大面積簇狀鋅粒結(jié)構(gòu)生成,破壞了鋅片平整致密的形貌。疏松孔洞結(jié)構(gòu)的成因,除鋅自身生長不規(guī)則外,由于鉛的沉積電位比鋅更正,鉛濃度越高,陰極沉積分解現(xiàn)象越嚴(yán)重也是原因之一。
2#和3#鋅片均可見六角片型堆疊生長。2#鋅片的六角片較大,且生長方向平行基體;而3#鋅片中,六角片小而規(guī)則,生長晶向垂直于基體。含鉛量越低,微觀形貌越規(guī)則整齊,晶型擇優(yōu)生長取向越偏向于垂直的較小六角片狀堆疊生長,這與在酸性體系中對鉛影響陰極鋅形貌的研究結(jié)果相吻合[11]。鋅沉積出現(xiàn)不同微觀形貌的不同生長模式,是因?yàn)榫w生長為“向外生長模式”,生長過程中保留面垂直于基體[18]。可以推測,鉛在電極鋅過程中起到了改變鋅片晶體生長模式的作用。
這一結(jié)論在XRD結(jié)果中得到了驗(yàn)證。鋅的晶格參數(shù)隨鉛濃度變化而變化:3#鋅片的晶格參數(shù)a、b、c分別為2.659 04、2.659 04、4.926 42,略小于標(biāo)準(zhǔn)鋅的a0、b0、c0(2.665、2.665、4.947),使得鋅生長所得微觀形貌呈現(xiàn)較小六角片型。2#、1#鋅片的晶體結(jié)構(gòu)明顯發(fā)生變化,晶格參數(shù)相較標(biāo)準(zhǔn)鋅變化很大,表明鉛離子濃度的變化對鋅晶體生長過程產(chǎn)生了顯著影響。
擇優(yōu)取向的改變可以解釋SEM圖譜中3#和2#鋅片不同的晶片生長方向(如圖6所示)。
圖6 鉛質(zhì)量濃度對電積鋅晶型結(jié)構(gòu)影響的XRD圖譜
由圖6看出:3個(gè)樣品的圖譜均存在2θ=43.339° 左右的(101)晶面的最強(qiáng)峰;但3#鋅片中,(101)晶面對應(yīng)的峰與其余峰的高度相比,均大于標(biāo)準(zhǔn)衍射圖譜中兩峰的高度比,其織構(gòu)系數(shù)TC101最高[20],表明鋅晶體在(101)面具有更強(qiáng)的擇優(yōu)取向;而2#樣品在(110)晶面的峰最高,這可能是其晶面生長大部分平行于基體的原因。由圖6還可看出:2#及1#鋅片的XRD譜圖相對標(biāo)準(zhǔn)鋅譜圖均存在程度不同的小角度峰偏移。鉛含量較高時(shí),基體中鉛原子作為雜原子摻雜進(jìn)入鋅沉積層中,鉛原子大小與鋅原子大小不同從而導(dǎo)致晶格畸變;隨鉛含量升高,晶格畸變現(xiàn)象更嚴(yán)重。因此,鉛對鋅的電沉積影響機(jī)制其一可能是鉛摻雜進(jìn)鋅沉積基底導(dǎo)致電鋅晶格畸變,進(jìn)而導(dǎo)致鋅的晶面擇優(yōu)取向發(fā)生改變或趨于消失。
低氨體系(ZnCl2-NH4Cl-H2O)電積鋅工藝中,通過鋅粉凈化去除鉛,然后進(jìn)行電積,可獲得質(zhì)量較好、表明光滑的電積鋅。電鋅晶體擇優(yōu)面隨鉛離子濃度變化發(fā)生改變,鉛通過摻雜電鋅基體導(dǎo)致鋅晶格畸變,鉛離子濃度過高會(huì)導(dǎo)致鋅晶體簇狀生長不再顯示擇優(yōu)晶向。
采用直接鋅粉置換法凈化電積液,適宜條件下,鉛去除率達(dá)96.90%;用此電積液電積鋅,所得電積鋅純度達(dá)99.979%,且表面白亮、致密。
電積過程中,電積液中鉛水平明顯影響陰極鋅生長規(guī)律。鉛質(zhì)量濃度很高時(shí)(35 mg/L),鋅晶體為梭狀枝晶,晶體擇優(yōu)取向不明顯,出現(xiàn)簇狀結(jié)構(gòu);鉛質(zhì)量濃度降低后(6.5 mg/L),鋅晶體呈六角片狀且平行于基體生長;鉛質(zhì)量濃度繼續(xù)降低(0.91 mg/L),鋅晶體晶格參數(shù)小于標(biāo)準(zhǔn)鋅的晶格參數(shù),鋅六角片變小,電鋅生長垂直于基體。