喬廷強 ,張翔宇 ,楊 兵 ,張 冰 ,金圣展 ,張 俊 ,王 川
(1.中國航發(fā)沈陽發(fā)動機研究所,沈陽 110000;2.武漢大學 動力與機械學院,武漢 430000;3.航天精工股份有限公司研究院,天津 300300)
超聲測量技術(shù)自20 世紀80 年代被應(yīng)用到螺栓應(yīng)力測量以來[1],受到了國內(nèi)外學者的廣泛關(guān)注,并進行了大量的理論研究[2-7]。李會勛等[8]利用有限元技術(shù)在ANSYS 中模擬螺栓預緊力的單元法、降溫法和滲透接觸法等,通過對比發(fā)現(xiàn)預緊力單元法能較好地模擬實際預緊力。張洪達等[9]通過建立風力發(fā)電機組偏航軸承內(nèi)外圈螺栓有限元分析模型,對偏航軸承螺栓施加6 種最大許用軸向載荷比例的軸向預緊力,得到了模擬方案中偏航軸承螺栓的極限應(yīng)力分布規(guī)律與螺栓應(yīng)力統(tǒng)計結(jié)果。Jia 等[10]基于網(wǎng)格收斂準則建立了連桿的有限元模型,研究了螺紋節(jié)距、預緊力和螺紋連接長度對螺紋軸向應(yīng)力分布的影響,結(jié)果表明,第一螺紋處的應(yīng)力集中比較嚴重,通過將標準螺紋桿螺栓替換為螺旋鎖緊防松螺紋,改善了其應(yīng)力分布,其疲勞強度和壽命均有提高。為了滿足工業(yè)領(lǐng)域螺栓預緊力高精度測量的需求,人們逐漸將研究如何提升預緊力測量精度的關(guān)注點由優(yōu)化超聲計算方法轉(zhuǎn)移到將測量對象智能化上,因此提出了智能螺栓的概念。智能螺栓是指具有結(jié)構(gòu)功能一體化特征、自身帶有傳感器或存儲器/微處理器、整個生命周期可用于智能化工業(yè)產(chǎn)品的生產(chǎn)、使用和維護等各個階段的螺栓產(chǎn)品[11]。智能螺栓不僅能夠?qū)崿F(xiàn)最基礎(chǔ)的緊固應(yīng)用,還能夠利用自身攜帶的傳感器實現(xiàn)計量以及檢測等功能,對于工業(yè)智能化具有極大的推動作用。
目前將傳感器與螺栓結(jié)合的方式主要有內(nèi)部植入[12]、外部粘貼以及外部沉積等,其中通過沉積法制備智能螺栓最便捷并且具有測量穩(wěn)定且精度高的特點。該方法制備智能螺栓主要是通過在螺栓的端面沉積壓電涂層,并利用壓電材料特有的壓電效應(yīng)來實現(xiàn)聲-電信號轉(zhuǎn)換功能來實現(xiàn)螺栓的智能化。Jiang 等[13]通過磁控濺射技術(shù)在(100)Si上沉積了ZnO 壓電涂層,通過調(diào)節(jié)Ar/O2比能實現(xiàn)控制涂層激發(fā)橫波或縱波,這一研究結(jié)果在螺栓應(yīng)力測量中具有良好的應(yīng)用前景。Chelu 等[14]采用一種簡單、綠色的化學方法,在柔性和剛性金屬襯底上制備了垂直取向ZnO 納米壓電涂層,組裝好的器件表現(xiàn)出出色的壓電性能,與剛性Pt 和Au 襯底相比,生長在柔性Ti 襯底上的壓電層具有更高的直接壓電系數(shù),在鈦箔基板上獲得的壓電結(jié)構(gòu)滿足靈活性和成本標準,在大范圍的頻率上提高了能量轉(zhuǎn)換效率。Pang 等[15]采用水熱法和低溫液相法制備了ZnO/TiO2納米壓電涂層,復合材料的粒徑不超過100 nm,在Ti 襯底上組裝成納米陣列。該涂層具有很好的生物相容性,是一種有前景的骨科植入材料智能涂層,研究結(jié)果表明,復合粒子的尺寸越小,抗菌性能、生物相容性和壓電性能越好。
工業(yè)領(lǐng)域螺栓應(yīng)用工況復雜多變,其中大型設(shè)備所用螺栓,例如發(fā)動機用螺栓以及核電用螺栓等,需要在高溫狀態(tài)下服役,為了確保智能螺栓在高溫環(huán)境下使用具有有效性及穩(wěn)定性,需要對沉積在螺栓端面的ZnO 壓電涂層的高溫性能進行研究,與超聲測量相關(guān)的壓電性能主要受涂層結(jié)晶質(zhì)量、結(jié)晶取向的影響,但目前關(guān)于該方面的報道較少。本工作研究ZnO 壓電涂層在不同溫度下退火后的形貌和結(jié)構(gòu)變化以及不同溫度/時長條件下退火后的螺栓聲學性能,分析退火處理對ZnO 壓電涂層的具體影響,對使用ZnO 壓電涂層作為傳感器的智能螺栓進行退火實驗,研究高溫條件下應(yīng)用的穩(wěn)定性。
ZnO 壓電涂層通過武漢大學自制的射頻磁控濺射設(shè)備進行制備,基底分別為(100)Si浙江立晶光電科技),鈦合金螺栓(L=35 mm,航天精工股份有限公司),具體工藝參數(shù)如表1 所示。
表1 ZnO 壓電涂層制備參數(shù)Table 1 Preparation parameters of ZnO piezoelectric coating
將制備的Si 基底樣品切割成15 mm×15 mm的方塊備用,對Si/ZnO 涂層以及鈦合金螺栓/ZnO涂層在200、300、400、500、600 ℃下進行1 h 的退火處理,對鈦合金螺栓/ZnO 涂層在300 ℃進行5~200 h 的退火處理,退火實驗在XMT-8000 型熱處理爐內(nèi)進行,氣體氛圍為大氣環(huán)境,樣品隨爐冷卻至室溫取出。利用場發(fā)射掃描電子顯微鏡(TESCAN,MIRA 3)對ZnO 涂層的表面及截面形貌進行觀察,觀察前進行120 s 噴金處理,增強材料導電性;利用Tongda TDM-10 型X 射線衍射(XRD)儀對樣品結(jié)構(gòu)進行測試,射線源Cu Kα;利用SPM-9500 J3 型原子力顯微鏡(AFM)測量樣品的表面粗糙度,利用武漢大學自建的WHUUS100 聲信號測量設(shè)備對智能螺栓進行測試。
將利用射頻磁控濺射法制備的Si/ZnO 涂層分別在200、300、400、500 和600 ℃下進行1 h 退火處理,圖1 為未退火與退火后的涂層樣品的表面形貌。由圖1 可以看出,涂層表面干凈無雜質(zhì),由大小不同的晶粒排列組成,可明顯觀察到晶粒的邊界。并且隨著溫度的升高,樣品的表面形貌沒有產(chǎn)生明顯變化,說明在200~600 ℃的范圍內(nèi)進行短時間的熱處理對Si/ZnO 涂層表面形貌未產(chǎn)生較大的影響。
圖1 經(jīng)不同溫度退火1 h 后Si/ZnO 涂層的表面SEM 圖像(a)原始試樣;(b)200 ℃;(c)300 ℃;(d)400 ℃;(e)500 ℃;(f)600 ℃Fig.1 SEM images of the surface of Si/ZnO coating after annealing for 1 h at different temperatures(a)original sample;(b)200 ℃;(c)300 ℃;(d)400 ℃;(e)500 ℃;(f)600 ℃
圖2 為Si/ZnO 涂層在不同溫度下退火1 h 后的截面形貌。由圖2 可見,所有涂層均呈現(xiàn)出垂直于基體表面生長的柱狀晶的特點。涂層未進行熱處理時,樣品截面內(nèi)的柱狀晶晶界清晰干凈,隨著熱處理溫度逐步增加到600 ℃時,樣品截面柱狀晶間開始變得模糊,柱狀晶之間有合并的趨勢,這是由于高溫提供給涂層內(nèi)部原子一定的擴散能量,因此使晶粒有合并長大的趨勢。
圖2 經(jīng)不同溫度退火1 h 后Si/ZnO 涂層的截面SEM 圖像(a)原始試樣;(b)200 ℃;(c)300 ℃;(d)400 ℃;(e)500 ℃;(f)600 ℃Fig.2 SEM images of the cross-sections of Si/ZnO coating after annealing for 1 h at different temperatures(a)original sample;(b)200 ℃;(c)300 ℃;(d)400 ℃;(e)500 ℃;(f)600 ℃
圖3 為不同溫度退火1 h 后Si/ZnO 涂層的表面粗糙度。由圖3 看出,隨著處理溫度的升高,涂層表面粗糙度變化程度極小,最高與最低值間僅有4 nm 的差值。這說明在200~600 ℃范圍內(nèi)對Si/ZnO 涂層進行退火處理對于涂層的粗糙度沒有?實質(zhì)性影響,這與Husna 等[16]的研究結(jié)果一致。
圖3 不同溫度退火后Si/ZnO 涂層的表面粗糙度-溫度關(guān)系,插圖為AFM 圖像Fig.3 Surface roughness-temperature relationship of Si/ZnO coating after annealing at different temperatures,the illustration is AFM image
在不同溫度下退火處理1 h 后的Si/ZnO 涂層結(jié)構(gòu)變化如圖4 所示。由圖4(a)可知,全部Si/ZnO 涂層呈現(xiàn)高度的c軸擇優(yōu)取向,后期的熱處理并未對涂層的結(jié)構(gòu)產(chǎn)生明顯影響。當熱處理溫度高于500 ℃時,可以觀察到圖中衍射峰位置向小角度方向有微小的移動,表明涂層的應(yīng)力狀態(tài)產(chǎn)生了輕微變化。圖4(a)還展示了經(jīng)不同溫度退火后Si/ZnO 涂層對應(yīng)的晶粒尺寸,可以看出,隨著退火溫度的升高,晶粒有慢慢長大的趨勢,這一結(jié)果與涂層截面的SEM(圖2)結(jié)果相吻合。如圖4(b)所示,隨著熱處理溫度的升高,涂層的衍射峰強度先增加后降低,在300 ℃時達到最大,這表明涂層內(nèi)部可能產(chǎn)生裂紋降低涂層致密度,衍射峰強度降低。射頻磁控濺射制備的Si/ZnO 涂層幾乎不存在宏觀缺陷,但是由于濺射成膜是非平衡狀態(tài),因此涂層內(nèi)部會存在一些微觀缺陷,例如Zn 間隙原子、O 空位、Zn 空位以及O 間隙原子等,這些缺陷使晶格產(chǎn)生畸變,從而造成涂層內(nèi)部存在應(yīng)力。ZnO 粉末的(002)晶面間距經(jīng)過XRD 衍射圖譜計算可知為0.52 nm,圖4(c)為不同熱處理溫度下的涂層內(nèi)部晶面間距,未進行熱處理的涂層晶面間距為0.534 nm,相對于粉末樣品晶面間距值增大,說明制備的涂層在c軸方向存在張應(yīng)力,隨著熱處理溫度的增加,晶面間距變化不明顯,只有當溫度達到600 ℃時,晶面間距有較大變化為0.536 nm,與原始樣品相比增大了0.002 nm,表明涂層的c軸張應(yīng)力沒有被釋放。這可能是由于在普通熱處理情況下,部分外界O 進入到涂層形成O 間隙原子,導致面間距增加,說明在600 ℃范圍內(nèi)對樣品進行熱處理對于原始涂層結(jié)構(gòu)基本無影響。
圖4 經(jīng)不同溫度退火1 h 后Si/ZnO 涂層的結(jié)構(gòu)變化(a)XRD 圖譜及晶粒尺寸;(b)(002)衍射峰強度;(c)晶面間距Fig.4 Changes of the microstructure of Si/ZnO coating after annealing for 1 h at different temperatures(a)XRD patterns and grain size;(b)diffraction intensity of(002)peak;(c)interplanar spacing
圖5 為不同溫度退火1 h 后的螺栓/ZnO 樣品實物圖。由圖5 可知,螺栓/ZnO 在500 ℃及以下溫度處理后表面涂層完好,而在600 ℃條件下經(jīng)過1 h 退火后其ZnO 涂層完全脫落,螺栓基底表面完全暴露。表明涂層應(yīng)用在該類型螺栓上時使用溫度須低于500 ℃。實驗時為了屏蔽保護層與電極層對處理結(jié)果的影響,在沒有沉積涂層的情況下對螺栓進行了熱處理實驗。為了對處理后的螺栓進行超聲信號表征,制備了如圖5 螺栓中心所示的臨時電極(成分為99.99%的Ag)。
圖5 經(jīng)不同溫度退火1h 后鈦合金螺栓/ZnO 涂層智能螺栓樣品的實物照片F(xiàn)ig.5 Physical photo of titanium alloy bolt/ZnO coated smart bolt sample after annealing for 1 h at different temperatures
圖6 為不同溫度1 h 熱處理后螺栓的超聲信號測試結(jié)果。由圖6 看出,超聲信號均可以清晰地觀察到4 次底面回波,且回波幅值逐漸降低,這是因為在超聲傳播過程中,介質(zhì)的組織結(jié)構(gòu)(例如晶粒尺寸、金屬材料的各向異性,化學成分、偏析以及內(nèi)部缺陷等)會引起超聲能量的衰減[17]。根據(jù)圖6(a)計算得出聲速ν=5794.4 m/s,確定得到的回波為縱波信號,并且圖中回波之間間隔等距,說明產(chǎn)生的超聲只有純縱波一種波形。圖6(b)為信號衰減速率結(jié)果圖,衰減速率為先增加后降低,最大衰減速率達到70%,最小衰減速率為25.8%,但是衰減速率與溫度變化間并非單一變量關(guān)系,還與所使用的螺栓組織性能有關(guān);故僅以此作為中間值計算出初始超聲信號幅值V0,V0=VⅠ/(1-R),計算結(jié)果如圖6(c)所示。當處理溫度為300 ℃時候,涂層產(chǎn)生的超聲信號幅值最高為13.67 V,說明涂層在該溫度下處理后仍具有非常高的超聲可激發(fā)性能,與上節(jié)中分析涂層在300 ℃具有最優(yōu)異結(jié)晶質(zhì)量的結(jié)果相符;其余溫度處理后的涂層信號均不呈現(xiàn)規(guī)律性變化,但是產(chǎn)生的一次回波信號最小值為0.34 V。因此,對螺栓進行不同溫度的熱處理實驗表明:應(yīng)用在該種類型螺栓上的ZnO 涂層在500 ℃范圍內(nèi)工作具有有效性。
圖6 不同溫度條件下鈦合金螺栓/ZnO 涂層超聲信號表征(a)螺栓超聲回波信號;(b)超聲信號衰減速率;(c)初始超聲信號值Fig.6 Ultrasonic signal characterization of titanium alloy bolt/ZnO coating at different temperatures(a)ultrasonic echo signal;(b)decay rate of ultrasonic signal;(c)initial value of ultrasonic signal
選擇上述高溫實驗中超聲激發(fā)性能最佳的溫度300 ℃作為后續(xù)不同保溫時長的熱處理溫度。處理后的螺栓樣品如圖7 所示,所有螺栓表面的ZnO 壓電圖層保持光亮完整,說明300 ℃的長時處理對螺栓與涂層不會產(chǎn)生剝落型破壞。
圖7 經(jīng)300 ℃退火不同時間后鈦合金螺栓/ZnO 涂層樣品的實物照片F(xiàn)ig.7 Physical photo of titanium alloy bolt/ZnO coated smart bolt sample after annealing at 300 ℃ for different time
表2 為不同保溫時間下螺栓一次、二次回波幅值。根據(jù)螺栓回波信號值(表2)進行衰減率計算,對處理后的螺栓進行超聲信號測試,結(jié)果如圖8 所示。圖8(a)所有圖譜均可以清晰觀察到四次回波信號,回波之間等距,與上節(jié)中(圖6(a))信號具有相似性,均只有純縱波回波信號。圖8(b)為幅值衰減速率圖。由圖8(b)看出,衰減速率隨著時間增加先降低再升高,本組樣品中得到的最低衰減速率為7%,最高衰減速率為50%。通過衰減速率對初始超聲信號進行計算,得到圖8(c)結(jié)果。由圖8(c)可以發(fā)現(xiàn),當處理溫度為5 h 時,超聲原始信號幅值為13.62 V,與上節(jié)(圖6(c))300 ℃處理1 h 的結(jié)果13.67 V 相比基本不變。隨著保溫時間的延長,超聲初始信號幅值相對穩(wěn)定保持在7、8 V 左右。隨著保溫時間的延長,涂層的結(jié)晶質(zhì)量得到提升,因此,涂層的可激發(fā)超聲性能會得到提升,即信號幅值提升或者保持不變,但是此處信號幅值先降低后維持穩(wěn)定,可能是涂層在不同基底上表現(xiàn)有差異,具體原因還有待進一步研究。以上結(jié)果表明,涂層應(yīng)用在螺栓上并經(jīng)過不同時長的熱處理,其可激發(fā)超聲的性能未被破壞,并且一次回波信號最小值為3.61,幅值均可被檢測到。故將涂層沉積在螺栓上并在300 ℃長時使用具有較好的穩(wěn)定性。
表2 不同保溫時間下螺栓一次、二次回波幅值Table 2 Values of primary and secondary echo of bolts with different annealing durations at 300 ℃
圖8 經(jīng)300 ℃退火不同時間后鈦合金螺栓/ZnO 涂層超聲信號表征(a)螺栓超聲回波信號;(b)超聲信號衰減速率;(c)初始超聲信號值Fig.8 Ultrasonic signal characterizations of titanium alloy bolt/ZnO coated smart bolt after annealing at 300 ℃ for different times(a)bolt ultrasonic echo signal;(b)ultrasonic signal decay rate;(c)initial ultrasonic signal value
(1)對Si/ZnO 和鈦合金螺栓/ZnO 涂層在200、300、400、500、600 ℃進行1 h 的退火處理,200~600 ℃范圍內(nèi)的退火處理未對涂層的表面形貌及粗糙度產(chǎn)生明顯影響。
(2)在200~600 ℃退火處理1 h 后的Si/ZnO涂層均呈現(xiàn)柱狀晶結(jié)構(gòu),且隨著溫度的升高柱狀晶有合并的趨勢。
(3)在200~600 ℃進行1 h 的退火處理對Si/ZnO 涂層的晶體結(jié)構(gòu)沒有產(chǎn)生本質(zhì)影響,晶粒有長大趨勢,在300 ℃時涂層結(jié)晶質(zhì)量得到最大提升。
(4)在500 ℃及以下溫度進行1 h 的退火處理對螺栓樣品未產(chǎn)生明顯影響,超聲信號檢測表明在這個溫度范圍內(nèi)涂層性能具有時效性,600 ℃的退火處理使得螺栓表面涂層完全剝落。
(5)300 ℃下長時間的退火處理后,螺栓樣品可激發(fā)的超聲性能均未被破壞,涂層表現(xiàn)出優(yōu)異的穩(wěn) 定性,可在該溫度范圍內(nèi)服役。