羅志安,秦濤,李帥,程天奧
(武漢科技大學(xué)材料學(xué)部,武漢 430081)
青花瓷始于唐代,元代逐漸成熟,明代成為主流陶瓷之一。明代青花瓷不僅繼承了唐宋元三代的優(yōu)質(zhì)工藝,還在其基礎(chǔ)上更加精進(jìn)。[1]明代晚期青花瓷的繪畫(huà)風(fēng)格,筆意豪放,無(wú)所拘束,表現(xiàn)手法也極其豐富。近年來(lái),不少研究人員對(duì)青花瓷展開(kāi)研究,這不僅在文物考古方面有較高意義,而且在現(xiàn)代陶瓷工業(yè)的傳承與發(fā)展上也有重要影響。溫錦繡[2]等人通過(guò)EDS 成像與元素定量分析驗(yàn)證了上川島出土的青花瓷為釉下彩,色料為鈷石。隋海燕[3]從明代青花瓷各個(gè)窯口的概況、胎釉的宏觀特征、青花發(fā)色和紋飾特征對(duì)明代青花民窯窯口的特征進(jìn)行了一系列總結(jié)。但是很少有人對(duì)明代民窯青花瓷微觀結(jié)構(gòu)進(jìn)行系統(tǒng)的研究,所以本文著重從微觀結(jié)構(gòu)對(duì)出自古運(yùn)河的明代民窯的青花瓷展開(kāi)探究。
實(shí)驗(yàn)采用的樣品為明代民窯青花瓷如圖1 所示,從左至右依次編號(hào)為Q1、Q2,上邊為樣品正面,下邊為樣品反面。
圖1 青花瓷樣品
采用荷蘭Philips 公司生產(chǎn)的XL30TMP 掃描電子顯微鏡分析顯微結(jié)構(gòu);荷蘭Philips 公司生產(chǎn)的X'Pert Pro 型X 射線衍射儀進(jìn)行物相分析。
3.1.1 SEM 圖像分析
在圖2(a)、(c)中可以看到,樣品的橫截面可以分為坯體、釉層和中間層三部分。圖2(b)、(d)中表明,釉層中均勻分布著較大的孔徑大小不一的氣泡,但較為稀疏。坯體中的氣孔多為開(kāi)氣孔,且分布較為密集。但Q2的氣孔分布狀況并沒(méi)有Q1分布的均勻,推測(cè)是Q2在淘洗、拉坯等過(guò)程中沒(méi)有Q1制作精細(xì)。坯釉中間層的結(jié)合情況取決于瓷器坯釉所使用的化學(xué)原料和燒制過(guò)程。[4]在Q1的SEM 圖中,坯體與釉層之間的襯度分界較明顯,這說(shuō)明它的坯釉之間成分存在一定差異。
圖2 青花瓷樣品橫截面SEM 圖
圖3 是Q1樣品的SEM 放大圖,放大區(qū)域如圖2(a)中紅色框選區(qū)。由圖可以看出釉層中幾乎沒(méi)有未熔解的石英晶體,說(shuō)明在明朝時(shí)期已經(jīng)有了非常精致的制釉工藝。這是由于在高溫狀態(tài)下,釉層處于熔融狀態(tài),使SiO2更容易與Al2O3反應(yīng)生成莫來(lái)石,這會(huì)大量消耗SiO2顆粒。[5]坯體中則存在較多未熔融的殘余石英,由于坯體在高溫下仍處于固態(tài),SiO2并不容易在其中擴(kuò)散與其他成分相結(jié)合,而是較多的與其周?chē)煞诌M(jìn)行反應(yīng),這相對(duì)于釉層對(duì)SiO2的消耗會(huì)有所減少,從而剩余較多的顆粒。
圖3 Q1 的SEM 細(xì)節(jié)圖
3.1.2 EDS 定量分析
Q1與Q2兩塊樣品分別選取了3 組不同部位對(duì)坯體進(jìn)行選區(qū)分析,選取的區(qū)域如圖2(a)與(c)中黃色框選區(qū)。最終取均值得到如表1 所示數(shù)據(jù),可以計(jì)算出青花瓷坯體中SiO2含量較高為61.59%,Al2O3則為21.01%,屬于中國(guó)南方瓷器典型的“高硅低鋁”[6]的特征。推測(cè)兩塊樣品均為我國(guó)南方青花瓷。
表1 樣品坯體框選區(qū)域元素質(zhì)量比(wt.%)
由圖4 可看出,坯釉層之間襯度相差較大的元素為Al 和Ca,釉層中Ca 含量高、Al 含量低。由此可見(jiàn),明代民窯青花瓷以CaO 作為主要的助溶劑。除此之外,還發(fā)現(xiàn)Q1 中Na、K 元素坯釉間也存在些許差異,這與上文中SEM 圖所產(chǎn)生的襯度分界明顯的現(xiàn)象相互印證。
圖4 樣品橫截面的EDS 元素成像圖
為進(jìn)一步得到樣品釉層及中間層厚度進(jìn)行了線掃描,由元素含量的變化可以進(jìn)行計(jì)算。Al、Ca 的含量沿測(cè)線變化的趨勢(shì)如圖5 所示。圖中的紫色線段之間是青花瓷的中間層,中間層是燒制過(guò)程中坯體與釉層相互滲透所形成的層狀結(jié)構(gòu),所以會(huì)呈現(xiàn)Ca、Al 元素含量都相對(duì)較高的現(xiàn)象。
圖5 青花瓷樣品線掃描元素分布圖
釉層厚度直接影響釉面的外觀。釉層過(guò)厚易造成釉面開(kāi)裂或釉層剝落,而釉層過(guò)薄則易發(fā)生干釉現(xiàn)象。坯釉適應(yīng)性也受釉層厚度的影響,一般釉層越薄,坯釉適應(yīng)性越好。因?yàn)橛詫雍穸扔。詢(xún)?nèi)壓應(yīng)力愈大,而坯體中張應(yīng)力愈小,為坯釉的結(jié)合創(chuàng)造有利條件。[7]由表2 中可以看出,明代民窯青花瓷釉層厚度小于0.5mm。厚度適當(dāng)?shù)闹虚g層能起緩沖釉應(yīng)力的作用,可以平衡坯釉間熱膨脹系數(shù)的差異,使坯釉結(jié)合的更為緊密,明代民窯青花瓷中間層厚度在0.1mm 左右。
表2 樣品線掃描數(shù)據(jù)表
為了明確青花瓷坯釉中存在的晶體,采用XRD 對(duì)樣品晶體結(jié)構(gòu)進(jìn)行分析。將檢測(cè)完后獲得的圖譜通過(guò)Highscore軟件進(jìn)行取峰分析,對(duì)比標(biāo)準(zhǔn)衍射卡分析物質(zhì)中含有的物相,并用Origin 軟件進(jìn)行繪圖,結(jié)果如圖6、圖7 所示。
圖6 青花瓷樣品坯體的XRD 分析圖譜
圖7 青花瓷樣品釉層的XRD 分析圖譜
圖6 為青花瓷坯體的XRD 圖譜,其中主要晶相為石英和莫來(lái)石。Q1樣品的石英峰值強(qiáng)度比Q2樣品強(qiáng)很多,這是由于Q1坯體中殘余石英比Q2多。與上述SEM 圖像分析結(jié)果相同。圖7 為青花瓷釉層的XRD 圖譜,與坯體圖譜進(jìn)行對(duì)比,可以看出釉層中的物相主要以玻璃相的形式存在,因?yàn)橛詫又形慈廴诘氖㈩w粒幾乎不存在,所以其XRD 圖像會(huì)呈現(xiàn)出玻璃相的特性[8]。石英、莫來(lái)石則分散存在于釉層的玻璃相中。橫向?qū)Ρ?,Q1樣品的石英峰比Q2樣品的弱一些,但莫來(lái)石峰強(qiáng)。這可以從側(cè)面反映出Q1樣品比Q2燒成制度更好。但具體燒成工藝的差別還需要進(jìn)一步的研究。
(1) 明代民窯青花瓷釉層存在氣孔比坯體的大且稀疏,釉層比坯體的Ca 含量高、但Al 含量比坯體低。坯體呈現(xiàn)高硅低鋁特征,屬于我國(guó)典型的南方陶瓷。坯體與釉層之間的襯度分界較明顯,這說(shuō)明它的坯釉之間成分存在一定差異。
(2)明代民窯青花瓷釉層厚度小于0.5mm,且中間層發(fā)育完好大約0.1mm。
(3)明代民窯青花瓷坯體中物相組成主要為石英與莫來(lái)石,釉層中以玻璃相為主,還有少量的石英和莫來(lái)石分散在玻璃相中。并且從石英和莫來(lái)石的生長(zhǎng)情況可以推測(cè)青花瓷燒成制度的優(yōu)良。