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      共振逃逸因子對極光O(1D)630 nm譜線的影響

      2013-07-13 07:07:14張華橋張慶國趙曉艷
      關(guān)鍵詞:原子數(shù)基態(tài)線型

      張華橋,張慶國,賀 健,趙曉艷

      (河南科技大學(xué)物理與工程學(xué)院,河南洛陽471023)

      0 引言

      產(chǎn)生于大氣上層的電離層區(qū)域的O(1D)譜線,是大氣風(fēng)場探測的幾條重要譜線之一,具有重要的研究意義[1-2]。根據(jù)譜線的半寬度,可以測量大氣的溫度;而根據(jù)譜線的多普勒頻移,可以測量大氣的速度。然而,在以前的討論中,均假定譜線是光學(xué)稀薄的,實際在一定條件下,要考慮不透明度對譜線傳輸?shù)挠绊憽R虼?,本文利用逃逸因子的相關(guān)理論,分析了譜線傳輸過程中的光子逃逸對接收到的光譜產(chǎn)生的影響。在原子光譜的理論分析中,可以用共振逃逸因子來描述原子能級躍遷中輻射的自吸收。在通常情況下,共振逃逸因子不僅依賴于等離子體的幾何形狀,也依賴于等離子體的溫度、壓強(qiáng)和光譜線型等[3]。對于光學(xué)厚等離子體,輻射躍遷產(chǎn)生的光子不可能全部逸出,在輻射躍遷過程中發(fā)出的光子在到達(dá)低能級之前,有可能會被另外的躍遷所吸收,這會造成愛因斯坦自發(fā)輻射系數(shù)下降,這種情況下,可以用逃逸因子來描述這種效應(yīng)。在輻射場中,光學(xué)厚等離子體還會對平均輻射場產(chǎn)生影響,可以用逃逸因子進(jìn)行描述。在考慮到逃逸因子的影響后,處理等離子體中原子按能級的數(shù)密度分布和譜線的出射強(qiáng)度等問題時,必須同時求解所有能級的布居數(shù)方程和連接這些能級的所有允許的譜線躍遷的輻射方程,這是一個比較復(fù)雜的問題。逃逸因子的引入也能夠?qū)⒔y(tǒng)計平衡方程從譜線的輻射轉(zhuǎn)移問題中分解出來,因此,逃逸因子是處理譜線問題的一個極有效的近似方法[4-6]。

      1 高斯線型逃逸因子的理論方法

      1.1 高斯線型

      光源粒子的無規(guī)則運動是高斯展寬的根本原因,是由多普勒效應(yīng)引起的,其展寬機(jī)制的線型函數(shù)為[7]

      式中,v為頻率;v0為譜線的中心頻率;△vG為高斯線型的半高寬,一般由下式給出:

      其中,T為溫度;M為所研究氣體分子的分子量。用P(0)表示在△v=0的情況下的歸一化線型,

      一般情況下,高斯線型對譜線的展寬表述已經(jīng)足夠準(zhǔn)確,所以,高斯線型逃逸因子的計算方法有著較為廣泛的應(yīng)用對象。

      一般而言,討論逃逸因子之前要先確定譜線的線型,O(1D)產(chǎn)生于距地面高度為150~300 km的區(qū)域[8]。在此區(qū)域壓強(qiáng)極低,溫度卻很高,大量的報道都指出該譜線輪廓是高斯線型的[2,9]。作者做了以下計算,驗證了這一點:距地面高度為150~300 km的區(qū)域,T>634 K,P<5×10-4Pa,由式(2)可得高斯展寬的半高寬△vG≥2.459 9 cm-1,洛倫茲的半高寬由下式給出[10],

      式中,大氣展寬系數(shù)γair=3.34×10-7cm-1/Pa;n=0.75,計算得到的洛倫茲半高寬小于1.88×10-10cm-1,大約只有高斯半高寬的,完全可以忽略,所以,在該區(qū)域內(nèi)可以認(rèn)為譜線的展寬是純高斯線型。

      1.2 高斯線型的逃逸因子

      對于高斯線型,在光學(xué)厚度τ0>103條件下,可以根據(jù)下式計算高斯線型的共振逃逸因子[11],

      式中,τ0稱為譜線中心的光學(xué)厚度,在激光等離子體中,光學(xué)厚度反映了一個發(fā)射源發(fā)出的光子在被捕獲之前傳播的路程。對于寬度為L的等離子體,τ0由下式給出[12]

      其中,N是基態(tài)原子數(shù)密度;σ是散射截面,由下式給出[13]

      其中,fij是吸收振子強(qiáng)度,fij與愛因斯坦受激吸收系數(shù)Bij的關(guān)系為[13]

      考慮到愛因斯坦受激吸收系數(shù)和受激輻射系數(shù)、自發(fā)輻射吸收的關(guān)系

      可以得到Ladenburg關(guān)系式

      其中,e為電子電荷;m為電子質(zhì)量;c為空中光速;g為統(tǒng)計權(quán)重;λ0為原子輻射躍遷光子的波長;Aji為愛因斯坦自發(fā)輻射系數(shù),與原子能級壽命的關(guān)系為

      2 O(1D)的輻射特性

      原子各能級之間的躍遷或輻射受選擇定則約束,這些躍遷稱為容許躍遷;有一類躍遷卻不滿足選擇定則,這被稱為禁戒躍遷,所產(chǎn)生的譜線稱為禁戒線。事實上原子處于某一激發(fā)態(tài)時,可以同時存在容許躍遷和禁戒躍遷,只是在大多數(shù)情況下,禁戒躍遷的愛因斯坦輻射系數(shù)遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于容許躍遷的愛因斯坦輻射系數(shù),那么,禁線的強(qiáng)度就不可能達(dá)到較大的相對強(qiáng)度,通常也就觀測不到。只有高能態(tài)是亞穩(wěn)態(tài),同時,輻射密度和物質(zhì)密度都足夠小的條件下,禁線才可能有較大的相對強(qiáng)度。

      在上層大氣中,滿足這兩個條件,理論和觀測表明[8]:O(1D)630.0 nm譜線是上層大氣中自然形成的亞穩(wěn)態(tài)原子氧禁戒躍遷中所輻射產(chǎn)生的譜線之一,屬于可見極光,該譜線產(chǎn)生于距地面高度150~300 km的電離層??梢姌O光產(chǎn)生于電子激發(fā),其光化學(xué)過程包括光致電離、發(fā)光、分子間能量轉(zhuǎn)移和淬滅等。O(1D)3條譜線(630.0 nm,636.4 nm,639.3 nm)的共振躍遷過程為[14]

      1D能級壽命可以達(dá)到110 s,上述過程是基于太陽的深紫外線輻射電離層,電離出大量的光電子和電子所發(fā)生的,本文研究波長為630.0 nm的譜線,光譜分布為高斯線型,該譜線是大氣風(fēng)場探測的幾條重要譜線之一,其禁戒躍遷如圖1所示。

      圖1O(1D)的禁戒躍進(jìn)

      3 結(jié)果和討論

      3.1 基態(tài)原子數(shù)密度的討論

      高層大氣中氧原子的密度垂直分布比較復(fù)雜,但是在100~500 km范圍內(nèi),氧原子的原子數(shù)密度可由下式計算[15]

      式中,N0是參考平面的氧原子數(shù)密度,本文研究的區(qū)域為150~300 km,故取參考平面H條譜線(H0=150 km,N0=1.78×1010cm-3;mi是氧原子的質(zhì)量,取mi=2.657×10-26kg;G是萬有引力常數(shù),取G=6.67×10-11;M1為地球質(zhì)量,取M1=5.98×1024kg;Ω為地球角速度,取Ω=7.272×10-5rad/s;RE為地球半徑,取RE=6.39×106m;K是波爾茲曼常數(shù);溫度T是高度H的函數(shù),在距地面120~1 000 km,T由下式給出

      其中,λ=0.018 75,ξ由下式給出

      比如,取H=300 km,得到溫度T高達(dá)976 K,結(jié)合式(14),得到的氧原子的原子數(shù)密度卻只有1.270 4 ×109cm-3。

      Walsh曾通過計算指出:溫度對基態(tài)原子數(shù)的影響甚小,溫度在低于3 000 K時,可以近似用原子數(shù)密度來代替基態(tài)原子數(shù)[16]。

      3.2 光學(xué)厚度和逃逸因子的討論

      假定探測儀器處于電離層上層邊緣,即300 km處,O(1D)譜線產(chǎn)生于離地面150~300 km范圍內(nèi),故式(6)中L=(300-H)km,計算得到的散射截面為7.178 2×10-16m2,根據(jù)式(6)計算得到的光學(xué)厚度與高度的關(guān)系(如圖2所示),越高的地方,距離探測儀器越近,光學(xué)厚度就越小,150 km(L=150 km)處,光學(xué)厚度最大,達(dá)到2.515 2×105m。這是因為隨著等離子體幾何厚度的減小,光學(xué)厚度也相應(yīng)減小。

      由式(5)計算得到逃逸因子與光學(xué)厚度的關(guān)系如圖3所示。一般來說,逃逸因子只與光學(xué)厚度有關(guān),光學(xué)厚度越小,躍遷產(chǎn)生的光子在傳輸過程中被吸收的概率就越小,就越容易逸出,相應(yīng)地,表征光子逃逸概率的逃逸因子就必然越大。由圖3可以看出:隨著光學(xué)厚度的增大,譜線中心的逃逸因子隨之衰減。需要指出的是:本文的計算中,逃逸因子只有10-5的數(shù)量級,這與同類參考文獻(xiàn)中的結(jié)果相比[12-13],明顯偏小,這主要是因為電離層氣體稀薄,處于基態(tài)的原子數(shù)密度較小,只有1010cm-3的數(shù)量級,遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于這些同類計算中吸收原子的基態(tài)原子數(shù)密度,使得電離層的光學(xué)厚度很小所造成的。這說明吸收原子的基態(tài)原子數(shù)密度是影響逃逸因子的一個重要因素。

      圖2 O(1D)譜線的光學(xué)厚度與高度的關(guān)系

      圖3 高斯線型的逃逸因子與光學(xué)厚度的關(guān)系

      4 結(jié)論

      (1)O(1D)譜線在電離層150~300 km區(qū)域中的逃逸因子只有105的數(shù)量級。基態(tài)原子數(shù)密度越小,光學(xué)厚度就越小;同時,等離子體幾何厚度越小時,也會造成光學(xué)厚度越小。(2)隨著光學(xué)厚度的增大,譜線中心的逃逸因子隨之衰減。因此,在光學(xué)厚度較小的觀測區(qū)域,必須考慮逃逸因子對譜線傳輸?shù)挠绊憽?3)極光O(1D)630.0 nm譜線在電離層150~300 km區(qū)域的基態(tài)氧原子數(shù)密度只有1010cm-3的數(shù)量級,遠(yuǎn)低于試驗室條件下其他元素等離子體的基態(tài)原子數(shù)密度,說明環(huán)境條件對基態(tài)原子數(shù)密度影響很大。

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