張 亞,陳 方,劉 洪,王新元
(上海交通大學(xué) 航空航天學(xué)院,上海 200240)
隨著高超聲速武器裝備技術(shù)的迅速發(fā)展,高超聲速流動測試技術(shù)也得到了重視和發(fā)展[1]。其中,粒子測速(PIV)技術(shù)具有二維流場測量和測量精度高的優(yōu)點(diǎn)[2],得到了廣泛的關(guān)注與應(yīng)用。陳方、榮臻等[3-5]已對高速流動中示蹤粒子選擇和布撒技術(shù)進(jìn)行了研究,證實(shí)PIV 是高速流場有效的測試技術(shù)。
高速PIV 技術(shù)能否進(jìn)行準(zhǔn)確的流場測量,很大程度上取決于示蹤粒子的隨流能力[6]。Melling提出示蹤粒子的流動跟隨能力主要是根據(jù)粒子直徑和密度計算得到的松馳時間τ來判斷[7]。Schrijer等[8]在馬赫數(shù)為7的來流條件下,對雙尖劈模型PIV 實(shí)驗(yàn)中TiO2示蹤粒子的松弛時間進(jìn)行了分析。結(jié)果表明,在高超聲速條件下,示蹤粒子的尺寸越小,其流動跟隨性越好。趙玉新、易仕和等[9]利用松弛時間與粒子直徑的關(guān)系,通過斜激波校準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)測量了NPLS系統(tǒng)中示蹤粒子的直徑。
為了進(jìn)一步研究準(zhǔn)確地描述示蹤粒子在高速流動中的隨流能力和松弛特性,在上海交通大學(xué)的變馬赫數(shù)高速風(fēng)洞(Ma=2.5~7.0)中應(yīng)用PIV 系統(tǒng)和示蹤粒子布撒技術(shù),重點(diǎn)提出了一種評價示蹤粒子隨流能力的松弛特性模型[6]。最后,對典型的尖錐和尖劈模型進(jìn)行PIV 和紋影實(shí)驗(yàn),分析了跨越不同角度斜激波的粒子松弛特性及其粒徑,并驗(yàn)證了高速流動PIV 的測試精度和示蹤粒子的布撒能力。
實(shí)驗(yàn)研究在上海交通大學(xué)(SJTU)的變馬赫數(shù)高速風(fēng)洞中進(jìn)行,主要組成如圖1 所示。在實(shí)驗(yàn)過程中,空氣由最大壓力達(dá)20MPa的空氣儲罐(A)提供,之后通過最高加熱總溫可達(dá)700K 的蓄熱式電加熱器(C)。加熱器的下游是穩(wěn)定段(E),用來減少氣流中的湍流以保證流動平穩(wěn)。穩(wěn)定段的尾端是可更換喉道的拉瓦爾噴管(F)。噴管之后是實(shí)驗(yàn)段(G),用來放置實(shí)驗(yàn)?zāi)P?。?shí)驗(yàn)段后,氣體流經(jīng)超擴(kuò)段(H),最后流進(jìn)真空球(I)。在穩(wěn)定壓力和溫度下,可利用的測試時間可持續(xù)10~20s。馬赫數(shù)4實(shí)驗(yàn)情況下自由來流條件如表1所示。
圖1 上海交通大學(xué)變馬赫數(shù)高速風(fēng)洞(Ma=2.5~7.0)Fig.1 Multi-Mach number high-speed wind tunnel(Ma=2.5~7.0)of SJTU
表1 實(shí)驗(yàn)情況的自由來流條件Table 1 Freestream flow conditions of test cases
WCLΦ200數(shù)字紋影系統(tǒng)是由光學(xué)設(shè)備形成直徑為200mm“Z字型”光路。以連續(xù)功率(24V,300W)的鎢絲燈作為擴(kuò)散光源。光線通過狹縫后,由第一塊反射鏡進(jìn)行校準(zhǔn)。校準(zhǔn)光通過實(shí)驗(yàn)區(qū)域,由第二塊反射鏡收集,通過刀口形成紋影圖像,最后通過透鏡記錄到高速相機(jī)的CCD 中。紋影系統(tǒng)示意圖如圖2 所示。
圖2 WCLΦ200數(shù)字紋影系統(tǒng)示意圖Fig.2 The schematic of WCLΦ200 schlieren system
PIV 系統(tǒng)由雙脈沖Nd:YAG 激光器、CCD(IPX-11M)相機(jī)、同步控制器和粒子布撒器等組成,如圖3所示。PIV 設(shè)備放置在實(shí)驗(yàn)段外側(cè),激光光束通過導(dǎo)光臂和片光頭形成1~2mm 厚度的扇形片光,并從風(fēng)洞上方觀察窗入射照亮待測流場區(qū)域。雙脈沖激光曝光的間隔時間,即跨幀時間ΔT,其大小決定了PIV 所能測到的速度。ΔT過大,可測試的流動速度相對較??;反之,能夠觀測高速流動。根據(jù)計算公式(1)估算,在馬赫數(shù)為4 的來流條件下,流速約為800m/s,所需跨幀時間ΔT一般取500ns。
其 中,F(xiàn)OV是 視 場 區(qū) 域,Resolution是CCD 的 分辨率,IA是判讀小區(qū)。
圖3 PIV 系統(tǒng)示意圖Fig.3 The schematic of the PIV system
PIV 是通過測量流場中懸浮示蹤粒子速度,從而間接得到流場的速度特征。這要求加入的粒子應(yīng)該足夠小以達(dá)到較好的流動跟隨性,同時要足夠大以保證散射光的質(zhì)量。示蹤粒子還應(yīng)具有安全、無毒害、無腐蝕性和化學(xué)反應(yīng)惰性的特點(diǎn),并要求試驗(yàn)后示蹤粒子殘留污染物較少。而且,高速流動總溫較高,對粒子材料及其熔點(diǎn)提出了新的要求。常用的示蹤粒子特性如表2所示,通過比較選擇TiO2粒子。
表2 PIV實(shí)驗(yàn)常使用的固體示蹤粒子Table 2 Commonly used solid tracer particles for PIV experiments
由于高速流場速度梯度大、結(jié)構(gòu)復(fù)雜,示蹤粒子的布撒技術(shù)被認(rèn)為是高速流動PIV 技術(shù)發(fā)展的關(guān)鍵和難點(diǎn)。在當(dāng)前實(shí)驗(yàn)中,示蹤粒子通過如圖4的布撒系統(tǒng)進(jìn)行。
示蹤粒子事先通過烤爐加熱去除水分,然后從粒子儲罐(A)中將粒子吸入到提前抽真空的粒子發(fā)生器(B)中。干燥的氣體通過發(fā)生器底部的噴嘴以高壓噴出,使粒子懸浮充滿在其中。粒子布撒段(C)處引出幾個直徑10mm 的管道插入到穩(wěn)定段(D)上游的管道中,使粒子布撒到主流中,并充分混合,保證實(shí)驗(yàn)段內(nèi)粒子均勻且數(shù)量足夠。一般來說,粒子與氣體的混合氣流的壓力比主路氣流壓力高2MPa,可以保證粒子能夠布撒到穩(wěn)定段,并混合均勻。
圖4 示蹤粒子布撒系統(tǒng)Fig.4 Tracer particle seeding system
由Melling的研究[7],考慮粘性和慣性影響,且示蹤粒子的密度ρp遠(yuǎn)大于氣體的密度ρ,粒子速度Up跟隨氣流速度U的變化呈典型的指數(shù)衰減規(guī)律:
松弛時間τ,是描述粒子流動跟隨能力的主要參數(shù),可以根據(jù)粒子直徑和密度計算得到:
其中,μ是流體的動力粘性系數(shù),dp是粒子的直徑。 在高速氣流中,示蹤粒子跨越激波,在一定的時間內(nèi)達(dá)到激波后的流動速度,其法向速度有類似的衰減規(guī)律[10-12]。在此松弛過程中,示蹤粒子在激波法向的速度由于慣性逐漸減小,且速度連續(xù)變化。
Upn指粒子沿激波法向的速度,Un1和Un2分別表示激波前和激波后的法向速度。有關(guān)粒子跨越激波的詳細(xì)松弛情況,可以參考Dring[13]或Tedeschi[14]等的論文。
定義無量綱速度U*=(Upn-Un2)/(Un1-Un2)為粒子的滑移速度,即:
如果實(shí)驗(yàn)中的尖劈模型有較小激波角[12],法向馬赫數(shù)小于1.4時,可以近似得到:
其中,xn是粒子運(yùn)動經(jīng)過時間t(跨幀時間ΔT)的法向位移,ξn是粒子跨越激波的松弛距離。
但是,高速流動實(shí)驗(yàn)研究中法向馬赫數(shù)明顯高于假設(shè)的條件。通過對公式(2)在時間范圍[0,t]上進(jìn)一步積分,并代入滑移速度U*,得到xn/:
粒子的法向松弛距離ξn(當(dāng)t=τ)為:
通過實(shí)驗(yàn)測量得到U*和xn,可以不引入任何假設(shè),與不同粒徑松弛過程比較分析出粒子直徑dp,進(jìn)而確定松弛時間τ和粒子法向松弛距離ξn。
圖5對比兩種分析模型的松弛過程,原模型滑移速度U*變化較劇烈,法向馬赫數(shù)較大(>1.4)的情況下與實(shí)際相差較大,低估了高速流動中示蹤粒子的松弛距離,不能準(zhǔn)確反映強(qiáng)間斷下粒子的松弛過程;相對而言,新模型沒有引入假設(shè)條件,對于法向馬赫數(shù)大于1.4情況下的松弛過程能很好符合。
圖6還分析了不同粒徑跨越半頂角15°尖劈模型的松弛過程,隨著粒子直徑dp增大,松弛時間也增大,對應(yīng)的滑移速度U*減速過程緩慢。說明高速流動PIV 中示蹤粒子直徑必須滿足一定要求,才能準(zhǔn)確捕捉大速度梯度甚至間斷問題。
圖5 兩種模型松弛過程比較Fig.5 Omparison between the relaxation processes of two models
接下來將會分析更多PIV 測量結(jié)果,詳細(xì)地討論Ma=4實(shí)驗(yàn)條件下示蹤粒子跨越不同模型斜激波的松弛過程,并繪制U*對xn的數(shù)據(jù)圖,以準(zhǔn)確分析跨越激波的粒子松弛時間和松弛距離。
圖6 不同粒徑下的松弛過程Fig.6 Relaxation processes with different particle diameters
實(shí)驗(yàn)?zāi)P蜑榘腠斀?5°的尖錐、半頂角15°和30°的尖劈,具體尺寸如圖7所示。
圖7 實(shí)驗(yàn)?zāi)P腿S圖Fig.7 The 3D sketches of test models
在馬赫數(shù)為4的自由來流條件下,分別對3個模型進(jìn)行了PIV 和紋影實(shí)驗(yàn),結(jié)果比較如圖8所示,其中PIV 圖中激波位置用細(xì)白線標(biāo)出。
從圖中可以看出,PIV 實(shí)驗(yàn)粒子分布均勻,激波邊界明顯,激波角與紋影結(jié)果對比,吻合度較高。理論來流速度與PIV 實(shí)測來流速度比較情況,如表3所示。結(jié)果表明,PIV 實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)是可信的。
圖8 PIV 實(shí)驗(yàn)圖與紋影實(shí)驗(yàn)圖比較Fig.8 Comparison between PIV pictures and schlieren pictures
表3 自由來流PIV測量結(jié)果與理論值比較Table 3 Comparison between the PIV measured velocity and theoretical velocity in free stream
根據(jù)PIV 實(shí)驗(yàn)結(jié)果,在激波法向的不同位置(Sample1、2、3),分別提取跨越激波垂直于激波面上點(diǎn)的粒子速度Up,計算可得粒子激波前后法向速度Un1和Un2,如圖9所示。
圖9 粒子速度提取位置圖Fig.9 The positions of particles velocity
圖10為PIV 測量得到的滑移速度U*對粒子法向位移xn的數(shù)據(jù)圖。與公式(8)不同粒徑松弛過程的比較,可以看到,粒子速度跨越激波時法向的減速規(guī)律與理論解吻合較好。而且,通過比較實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)與理論數(shù)據(jù)分析出示蹤粒子的實(shí)際直徑dp。確定dp后,從公式(3)分析出松弛時間τ。然后,跨越激波的松弛距離ξn可以通過公式(8)直接計算。得到的粒子直徑、松弛時間和松弛距離,如表4所示。
可以看出,對于相同半頂角的尖錐和尖劈模型,尖錐對應(yīng)的松弛距離較小。主要由于三維模型的分流效應(yīng)導(dǎo)致激波角較小,激波前后速度梯度相對較小,粒子的隨流特性較好。
表4 粒子直徑、松弛時間和松弛距離Table 4 Particle diameter、relaxation time and relaxation distance
圖10 垂直于激波法向速度的PIV 測量結(jié)果Fig.10 PIV measurement of the normal velocity across the shock wave
對于兩個二維尖劈模型,激波角較大時示蹤粒子的松弛距離也較大。進(jìn)一步說明了速度梯度較大區(qū)域中,示蹤粒子的松弛距離較大。反之,為了準(zhǔn)確捕捉激波、邊界層等大速度梯度問題,需要采用較小粒徑的示蹤粒子。
實(shí)驗(yàn)中示蹤粒子的三個模型粒子直徑基本相等,松弛時間一致。PIV 實(shí)驗(yàn)分析得出的示蹤粒徑大小與電子顯微鏡圖(SEM)觀測到的粒徑(200nm)偏差不大,說明粒子在實(shí)驗(yàn)段內(nèi)布撒效果較好,有效避免了粒子聚團(tuán)現(xiàn)象。
(1)通過分析粒子運(yùn)動詳細(xì)準(zhǔn)確地推導(dǎo)出描述粒子松弛過程的分析模型,應(yīng)用到粒子跨越斜激波的松弛過程,是分析示蹤粒子隨流能力的一種非常有用的方法;
(2)通過粒子松弛特性模型,還可以分析實(shí)驗(yàn)中示蹤粒子直徑大小,有助于實(shí)驗(yàn)后粒子特性分析以及實(shí)驗(yàn)前粒子的選擇;
(3)在Ma=4 高速流動中,針對尖錐、尖劈模型,得到的PIV 實(shí)驗(yàn)結(jié)果,激波區(qū)域的氣流與紋影圖較為吻合,分析實(shí)驗(yàn)得到的粒子直徑,與電子顯微鏡圖觀測的結(jié)果相差不大,說明實(shí)驗(yàn)中粒子聚團(tuán)現(xiàn)象不明顯;
(4)分析跨越不同角度激波的粒子松弛特性,得知隨著激波角增加,粒子的松弛距離相應(yīng)增加。
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