周曉明,張 杰,林 漢,曹 睿,張培新
深圳大學(xué)化學(xué)與化工學(xué)院,深圳518060
納米薄膜是由納米粒子和界面結(jié)締組織構(gòu)成的納米結(jié)構(gòu)材料[1]. 其中,納米線和納米管等一維納米結(jié)構(gòu)薄膜,既具有大的比表面積,還有與基底材料之間構(gòu)成的電學(xué)通道,在發(fā)光材料和新能源技術(shù)等領(lǐng)域有較好的應(yīng)用前景[2-3]. 目前,隨著顯示器設(shè)備中平板顯示器和場發(fā)射顯示器的發(fā)展,熒光薄膜的性質(zhì)與制備方法引起了研究者的關(guān)注[4-6]. 熒光薄膜與傳統(tǒng)顯示器中所使用的熒光粉相比,在發(fā)光層致密度、發(fā)光亮度、效率和壽命以及分辨率等方面都有明顯優(yōu)勢[7-8].
稀土離子具有獨特的電子結(jié)構(gòu)和成鍵特征,其化合物表現(xiàn)出特殊的光、電和磁等性質(zhì)[9-11]. 在光信息存儲、傳輸、顯示與處理等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛[12-14]. 稀土磷酸鹽是稀土元素在自然界中存在的主要方式之一[15],其具有良好化學(xué)穩(wěn)定性、熱穩(wěn)定性和光電性能,作為發(fā)光材料及發(fā)光基質(zhì)材料在發(fā)光材料中占有重要地位. 稀土磷酸鹽的基質(zhì)材料中摻雜稀土離子,可以改變所構(gòu)成薄膜的結(jié)構(gòu)和發(fā)光性能等,使其產(chǎn)生新的發(fā)光特性及性質(zhì),如改變光的顏色和提高熒光輸出強(qiáng)度等,可實現(xiàn)薄膜功能化的控制合成. 目前,對于一維稀土磷酸鹽納米材料結(jié)構(gòu)、形貌的控制合成及應(yīng)用研究已有報道[16-17],但對于其納米結(jié)構(gòu)薄膜的研究少見報道.本研究通過簡單、溫和的溶液化學(xué)法,分兩步在ITO 導(dǎo)電玻璃上制備了CePO4和Eu3+摻雜CePO4一維納米薄膜,并對制備條件及性質(zhì)進(jìn)行了研究.
本研究所用試劑均為分析純,所用溶液均由去離子水配制. ITO 導(dǎo)電玻璃,購自深圳南玻集團(tuán).
1.2.1 底膜液的制備
稱取0.217 g Ce(NO3)3·6H2O 置于10 mL 乙醇中,加入少量去離子水,快速攪拌. 在60 ℃恒溫下攪拌3 h,室溫陳化6 h 備用.
1.2.2 陳化液的制備
分別配制濃度為0.10 mol/L 的(NH4)2HPO4和Ce(NO3)3·6H2O 和溶液. 量取相同體積的兩種溶液,邊攪拌邊混合,并加入少量硝酸水溶液和一定量的去離子水,使混合溶液中Ce3+和PO43-濃度均為0.03 mol/L,即為陳化液.
制備上述陳化液時,分別加入不同量的0.10 mol/L 的Eu(NO3)3·6H2O 水溶液,使混合溶液中Ce3+和Eu3+達(dá)到一定摩爾比,即制得Eu3+摻雜CePO4陳化液.
1.2.3 ITO 導(dǎo)電玻璃上晶種底膜的制備
將處理過的導(dǎo)電玻璃浸泡于底膜液中,10 min后用提拉機(jī)以4.5 cm/min 的速度提拉,然后將導(dǎo)電面向上平放于烘箱中,180 ℃烘干10 min,取出冷卻. 重復(fù)上述操作3 ~6 次. 再將其浸泡于相同濃度的磷酸氫二銨溶液中,10 min 后再用提拉機(jī)以相同的速度提拉,之后置于馬弗爐中350 ℃煅燒30 min,制得晶種底膜.
上述操作過程中,ITO 導(dǎo)電玻璃經(jīng)底膜液提拉和烘干后,不浸泡于(NH4)2HPO4溶液中,而直接置于馬弗爐中350 ℃煅燒30 min. 也可制得晶種底膜.
1.2.4 CePO4和Eu3+摻雜CePO4一維納米發(fā)光薄膜的制備
將帶有晶種底膜的ITO 導(dǎo)電玻璃放入陳化液中,其導(dǎo)電膜向上. 再將盛有該陳化液的玻璃容器放置于超級恒溫水浴,90 ℃陳化3 ~6 h,取出后自然冷卻,70 ℃烘干.
采用掃描電子顯微鏡(scanning electron microscope,SEM;S-3400N 日立公司)對所制樣品形貌進(jìn)行表征;X 射線衍射儀 (X-ray diffratometer,XRD;D8 advance 德國Bruker AXS GMBH)對樣品晶相結(jié)構(gòu)進(jìn)行表征;通過熒光分光光度計(fluorescence spectrophotometer,PL;RF-5301PC,激發(fā)波長為298 nm)研究樣品光致發(fā)光性能.
2.1.1 晶種底膜
圖1 為底膜液提拉3 次,不同晶種底膜所制CePO4納米薄膜的SEM 圖及相關(guān)XRD 圖.
使用配制簡單的Ce(NO3)3·6H2O 無水乙醇底膜液,提拉3 次,制得晶種底膜,由圖1(a)可見,所制CePO4納米薄膜,膜面比較平整,且納米線生長致密均勻. Ce(NO3)3·6H2O 溶于水和無水乙醇,Ce3+在底膜液中分布均勻,經(jīng)提拉和煅燒后,可以在ITO 導(dǎo)電玻璃上形成致密均勻的晶核(即形成晶種底膜). 將帶有該晶種底膜的ITO 導(dǎo)電玻璃放入陳化液,于90 ℃水浴中陳化3 h,致使CePO4納米線延晶生長,織構(gòu)成平整致密的納米薄膜. 圖1(b)是在制備晶種底膜時,沒有提拉磷酸氫二銨溶液,所制CePO4納米薄膜. Ce(NO3)3無水乙醇溶液與磷酸氫二銨溶液反應(yīng),生成CePO4沉淀,經(jīng)350 ℃煅燒30 min,為六方晶相;而經(jīng)350 ℃煅燒30 min 的Ce(NO3)3·6H2O 產(chǎn)物為CeO2,見圖1(c). 由圖1 可見,底膜上的晶種不是CePO4晶核,而是CeO2晶核,CePO4納米線同樣可以延晶生長.相比而言,提拉了磷酸氫二銨溶液所制CePO4納米薄膜中的CePO4納米線相對細(xì)小.
2.1.2 底膜厚度與陳化時間
用底膜液提拉6 次,在90 ℃水浴陳化不同時間,所制CePO4納米薄膜的SEM 圖和CePO4沉淀的XRD 圖如圖2.
圖1 底膜液提拉3 次,不同晶種底膜所制CePO4納米薄膜的SEM 及XRD 圖Fig.1 SEM image and XRD patterns of CePO4 nanostructures after pulling 3 times for different basilar membrane liquid
圖2 底膜液提拉6 次,90 ℃陳化不同時間所制CePO4納米薄膜的SEM 和CePO4 沉淀的XRD 圖Fig.2 SEM image of CePO4 nanostructures after bath aging at 90 ℃for different reaction time and XRD of CePO4 precition
比較圖1 與圖2,可見圖2 中CePO4納米線較圖1 明顯細(xì)密,所形成的薄膜也更加平整均勻,即經(jīng)底膜液提拉6 次,膜層的致密程度更好. 因此,在制備晶種底膜時,適當(dāng)增加提拉次數(shù),使晶種底膜相對較厚,晶種更加致密,可以獲得比表面積更大、更加平整均勻的CePO4納米薄膜.
由圖2 還可見,將提拉6 次,具有相同厚度晶種底膜的ITO 導(dǎo)電玻璃置于陳化液中,90 ℃水浴分別陳化1.5、3 和6 h,所制CePO4納米薄膜均比較平整,隨陳化時間延長,納米線長度略有增長.
在樣品XRD 衍射峰中選擇5 個2θ 較小的角度,根據(jù)Scherrer 公式計算晶粒直徑
其中,K = 0.89,為Scherrer 常數(shù);λ = 0.154 17 nm,為X 射線波長;B 為半高寬度;θ 為衍射角. 計算平均晶粒大小,見表1.
表1 Scherrer 公式算出的平均晶粒大小Table 1 Crystallite Size calculated from Scherrer formulor
從薄膜的涂覆力考慮,90 ℃水浴陳化3 ~6 h比較適宜,如圖2(b)和(c). 圖2(d)的XRD 表征可見,隨陳化時間的延長,所制CePO4納米線的結(jié)晶度略有增強(qiáng),其衍射峰位置均與六方晶相磷酸鈰特征衍射峰(JCPDS 34-1380)位置一致. 在2θ為14.510°、20.003°、29.200°、31.406°、41.555°和48.522°等位置出現(xiàn)的衍射峰分別對應(yīng)于六方晶相磷酸鈰(100)、(101)、(200)、(102)、(211)和(212)等晶面的特征衍射峰. 可見,本方法所制一維CePO4納米薄膜均為六方晶相.
2.1.3 陳化液的pH 值
不同pH 值的陳化液所制CePO4納米薄膜SEM表征見圖3. 其中,圖3(a)是未加入酸溶液調(diào)節(jié)pH值的陳化液所制CePO4納米薄膜,此陳化液的pH值為1.68. 圖3(b)~(e)是陳化液中加入了不同量的硝酸溶液,使pH 值分別為1.60、1.40、1.20 和1.00 時,所制CePO4納米薄膜. 由圖3 可見,沒有加入硝酸溶液的陳化液,所制CePO4納米線直徑較大,薄膜平整度不夠好. 而加入硝酸溶液后,Ce-PO4納米線直徑變小,膜面平整度較好. 但是,隨著陳化液酸度增強(qiáng),pH 值逐漸變小,CePO4納米線直徑逐漸變小,其長徑比也變小. 從圖3 (b)和(c)可見,陳化液的pH 值控制在1.60 ~1.40 范圍內(nèi),所制CePO4納米薄膜平整度較好. 說明在此pH 值范圍內(nèi),晶種底膜的界面粗糙度和CePO4納米線的延晶生長速度比較適宜. 使用正磷酸溶液調(diào)節(jié)陳化液pH =1.40,所制CePO4納米薄膜的SEM如圖3 (f). 比較圖3 (f)與圖3 (c)可見,在pH 值均為1.40 的陳化液中,由于調(diào)節(jié)pH 值時使用的酸溶液不同,CePO4納米薄膜的形貌也不同. 使用硝酸溶液調(diào)節(jié)陳化液的pH 值,其CePO4納米線細(xì)小致密,而使用正磷酸溶液調(diào)節(jié)陳化液的pH 值,其CePO4納米線粗大疏散. 實驗中觀察到,加入硝酸溶液之后,陳化液黏度明顯增大. 可見,NO3- 或PO43-(不排除H2PO41和HPO42-)的存在對Ce-PO4納米線的結(jié)晶生長影響較大. 此問題尚待進(jìn)一步研究.
圖3 不同pH 值陳化液所制CePO4 納米薄膜的SEM 圖Fig.3 SEM image of CePO4 nanostructures for different pH value of the aging liquid
圖4 (a)~(d)是Ce1-xEuxPO4納米薄膜的SEM表征圖. 其中,陳化液pH 值為1.60,若Eu3+加入量為x mol/L,則Ce3+濃度為(1-x)mol/L,此時,陳化液中陽離子總濃度不變. 將陳化液于90 ℃水浴陳化6 h 制備Eu3+摻雜CePO4(即Ce1-xEuxPO4)納米薄膜. 可見,所制Eu3+摻雜CePO4納米薄膜表面平整,納米線細(xì)小而均勻. Eu3+的摻雜量為0.5%~10%,對于納米線生長和成膜沒有產(chǎn)生影響. 圖4(e)中,陳化液pH 值為1.60,Ce3+和Eu3+的濃度比為(1-x)∶x,于90 ℃水浴陳化6 h,所制Eu3+摻雜CePO4(即Ce1-xEuxPO4)的XRD 圖. 可見,其衍射峰位置均與六方晶相CePO4(JCPDS 34-1380)的衍射峰位置一致,而與六方晶相磷酸銪 (JCPDS 20-1044)的衍射峰位置也基本一致. 由于六方晶相CePO4和EuPO4的晶相結(jié)構(gòu)相同,且稀土元素性質(zhì)相近,在一定條件下CePO4和EuPO4納米線可以共生,形成致密的一維納米薄膜. 因此,此方法制備的Eu3+摻雜CePO4納米薄膜,Eu3+的摻雜量,不會對納米線生長和成膜產(chǎn)生較大影響. 圖4(f)為Eu3+摻雜量不同的CePO4(Ce1-xEuxPO4)的PL 圖.CePO4和Eu3+摻雜CePO4(Ce1-xEuxPO4)均用波長為298 nm 的紫外光激發(fā),在348 nm 處出現(xiàn)了較強(qiáng)的發(fā)射峰. 此峰屬于Ce3+的特征發(fā)射峰. 在Eu3+摻雜CePO4(Ce1-xEuxPO4)中,Eu3+摻雜量為0.5%的樣品發(fā)射強(qiáng)度最強(qiáng),其次為Eu3+摻雜量為1.0%的,兩者發(fā)射強(qiáng)度大于基質(zhì)材料CePO4,可見,Eu3+摻雜量較少時,起到了敏化劑作用;而當(dāng)Eu3+摻雜量較多時,超過猝滅濃度,熒光發(fā)射強(qiáng)度下降[18].
圖4 Eu3+不同摻雜量的CePO4 納米薄膜的SEM、XRD 和PL 圖Fig.4 SEM images,XRD patterns and Luminescence emission spectra of CePO4∶Eu3+ nanostructures
本研究采用簡單溫和的溶液化學(xué)法,分兩步在ITO 導(dǎo)電玻璃上制備了CePO4和Eu3+摻雜CePO4一維納米薄膜. 結(jié)果表明:①用無水乙醇制備底膜液,以4.5 cm/min 的速度提拉3 ~6 次、經(jīng)350 ℃煅燒,可以在ITO 導(dǎo)電玻璃上制得質(zhì)量較好的晶種底膜;②帶有晶種底膜的ITO 導(dǎo)電玻璃置于水為介質(zhì)、pH 值為1.4 ~1.6 的陳化液中,90 ℃水浴陳化3 ~6 h,即可在ITO 導(dǎo)電玻璃上形成平整致密,具有較大比表面積的六方晶相CePO4和Eu3+摻雜Ce-PO4一維納米薄膜;③此制備方法條件溫和、工藝簡單、無需添加模板劑、對環(huán)境友好,可以獲得表面平整致密的一維CePO4和Eu3+摻雜CePO4納米發(fā)光薄膜.
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