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      不銹鋼和銅吸氚及其干法去污

      2014-12-25 07:47:28石正坤
      核化學(xué)與放射化學(xué) 2014年4期
      關(guān)鍵詞:金屬材料不銹鋼空氣

      謝 云,石正坤,吳 濤,孫 宇

      中國工程物理研究院 核物理與化學(xué)研究所,四川 綿陽 621900

      不銹鋼和銅系統(tǒng)組件和工具暴露在氚環(huán)境下時(shí),其表面易被污染。氚具有非常高的遷移率,易被許多材料吸附,在排氣過程中引起長時(shí)間的空氣污染。另外氚污染易從一個(gè)區(qū)域擴(kuò)散到另一個(gè)區(qū)域,氚還可以從一種化學(xué)形態(tài)轉(zhuǎn)換為另一種形態(tài),最普遍、最重要的轉(zhuǎn)換就是氚氣(HT)轉(zhuǎn)換成毒性更強(qiáng)的氚化水(HTO)[1-2]。因此對氚污染金屬進(jìn)行去污及去污效率研究有著實(shí)際價(jià)值,能夠解決氚污染部件的再使用問題。在過去20年,隨著聚變能源的發(fā)展,對氚污染不同材料和組件的去污技術(shù)研究取得了顯著進(jìn)展,主要包括濕法、干法去污。干法去污指不加入液體的去污方式,干法去污較濕法去污能較大程度減少二次廢物的排放,是目前研究最多的氚去污方法[3-4]。而國內(nèi)這方面的相關(guān)研究報(bào)道很少。

      1 實(shí)驗(yàn)

      1.1 材料和儀器

      自制電離室,探測限2.17×102Bq/m3;正比計(jì)數(shù)器,探測限0.51Bq/m3;NPF200W臭氧發(fā)生器,產(chǎn)量可達(dá)1.2m3/h,山東綠邦光電設(shè)備有限公司;JE-1表面氚測量儀,自制;流量計(jì),浙江余姚工業(yè)自動(dòng)化設(shè)備廠,最大流量為6m3/h;TR2550液閃譜儀,美國Packard公司,用于HTO的測量,3H最小探測效率40%。

      氚氣,純度為99.9%,自制;氚污染片為厚2mm的不銹鋼(316L)和無氧銅片,自制;線狀氧化銅(氧化亞銅和氧化銅的混合物),廊坊亞太龍興化工有限公司,作為氚氣轉(zhuǎn)化用催化劑,該催化劑在550℃下將解吸出來的氚氣氧化成氚化水;5A分子篩,上海沸石分子篩有限公司;硅膠捕集器,自制;硝酸、鹽酸,市售分析純。

      1.2 樣品吸氚

      樣品吸氚利用高壓模擬充氚工藝進(jìn)行,將樣品置于玻璃真空系統(tǒng)中,于630℃除氣真空達(dá)5.3×10-3Pa,室溫后,在樣品室加入9.5kPa氚氣,再加熱到630℃保持2min,停止加熱,在氚氣中保持40min,采用鈾粉瓶吸收回收氚,取出樣品,保存在抽真空的或有空氣的玻璃容器中待用。

      圖1 去污實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)示意圖Fig.1 Schematic diagram of the experimental apparatus

      1.3 樣品蝕刻

      配制成質(zhì)量分?jǐn)?shù)為2.4%HNO3、3.2%HCl的酸溶液,把吸氚后和加熱處理后的樣品分別放入配制的溶液中浸泡一定時(shí)間后取出,用去離子水沖洗,目測得到表面均勻的樣品,采用液體閃爍計(jì)數(shù)器測量液體中氚活度濃度;每次酸蝕層的厚度由樣品的體積和酸蝕的質(zhì)量損失計(jì)算所得。

      1.4 去污實(shí)驗(yàn)

      采用紫外線汞燈(波長為172nm)對吸氚后的不銹鋼、無氧銅金屬材料進(jìn)行照射和聯(lián)合加熱去污實(shí)驗(yàn),考察溫度對去污效率的影響;另外通入流速為1.2m3/h的臭氧、空氣及聯(lián)合加熱對金屬材料進(jìn)行去污。去污效率用去污因子(DF)表征:DF=污染物件最初的活度濃度/污染物件去污后的活度濃度[5]。根據(jù)調(diào)研結(jié)果及氚污染金屬去污要求,設(shè)計(jì)了一套除氚去污實(shí)驗(yàn)系統(tǒng),其結(jié)構(gòu)示于圖1。

      2 結(jié)果與討論

      2.1 樣品含氚量與深度關(guān)系

      2.1.1 初始吸氚樣品的氚含量及分布 銅和不銹鋼樣品模擬高壓充氚吸氚后,對樣品采用1.3節(jié)方法進(jìn)行酸蝕刻,通過蝕刻得到總的氚吸附量及不同深度的分布情況,不銹鋼約為13.2MBq/cm2,銅約為5.96MBq/cm2,吸氚樣品不同深度含氚量示于圖2。由圖2可見,不銹鋼與銅相比吸附了更多的氚,兩種金屬在不大于1μm表層內(nèi)吸附了大量的氚,不銹鋼和銅分別達(dá)5.4、2.53MBq/cm2,占總量的40.9%和42.5%。不銹鋼和銅吸附量不同源于銅和不銹鋼的結(jié)構(gòu)和化學(xué)性質(zhì)差異較大,因?yàn)殡霸诠腆w材料中的溶解度主要取決于材料的組成和結(jié)構(gòu),Cu金屬材料晶體結(jié)構(gòu)一般為面心立方,而316L不銹鋼材料晶體結(jié)構(gòu)為體心立方,氚在體心立方材料中吸附量較面心立方要高,體心立方體結(jié)構(gòu)較之其他兩種點(diǎn)陣結(jié)構(gòu)具有更大的填隙空間。

      圖2 吸氚樣品的酸蝕刻不同深度含氚量Fig.2 Etching and loading results of tritium in specimen after adsorption

      2.1.2 去污樣品中殘留氚的量 將加熱到500℃解吸了氚的不銹鋼和銅樣品,采用1.3節(jié)樣品蝕刻方法進(jìn)行蝕刻,得到腐蝕均勻的樣品。蝕刻結(jié)果示于圖3。在相同條件下,從圖3可以看出銅殘留氚的量要遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于不銹鋼,這是銅和不銹鋼的結(jié)構(gòu)和化學(xué)性質(zhì)決定的。一般的無氧銅含氧質(zhì)量分?jǐn)?shù)為2×10-4,具有良好的耐腐蝕性能;316L不銹鋼含有C、Si、Mn、P、S、Ni、Cr、Mo等雜質(zhì),雜質(zhì)含量要高于無氧銅,組分也不相同,不銹鋼較銅更易于氚滲透和溶解,其在加熱和加壓的情況下,尤其是在高溫條件下,氫以原子狀態(tài)浸入金屬內(nèi)。采用氚的液閃測量法測得殘留氚量,可見經(jīng)過加熱后的樣品其氚含量大大降低,銅和不銹鋼表面氚的分布降低到2 020Bq/cm2和4 500Bq/cm2。

      圖3 500℃蝕刻15min時(shí)去污樣品的酸蝕刻不同深度含氚量Fig.3 Tritium release from the perspective of a depth profile heated to 500℃for 15min

      2.2 去污實(shí)驗(yàn)

      把初始吸氚后的樣品放入圖1所示的去污容器中進(jìn)行加熱去污,在加熱去污過程中分別通入O3、UV和空氣進(jìn)行去污實(shí)驗(yàn)。具體實(shí)驗(yàn)如下:

      (1)采用紫外線汞燈(波長為172nm)對金屬材料進(jìn)行照射并同時(shí)加熱去污,另外單獨(dú)加熱去污,考察溫度及溫度與UV結(jié)合對去污的影響;

      (2)通入流量為1.2m3/h的臭氧并同時(shí)加熱對金屬材料進(jìn)行去污,另外單獨(dú)加熱去污,考察溫度及溫度與O3結(jié)合對去污的影響;

      (3)通入流量為1.2m3/h的空氣并同時(shí)加熱對金屬材料進(jìn)行去污,另外單獨(dú)加熱去污,考察溫度及溫度與空氣結(jié)合對去污的影響。

      圖4 樣品在加熱和通入O3(a)、UV(b)和空氣(c)后的去污因子Fig.4 Decontamination factor of specimen heating while exposed to O3(a),UV(b)and air(c)

      去污結(jié)果示于圖4。從圖4可知,單獨(dú)加熱去污,去污溫度達(dá)到500℃時(shí),氚污染不銹鋼的去污因子達(dá)到260,銅去污因子為130;與加熱結(jié)合通入空氣、O3和UV照射時(shí)去污因子相當(dāng);聯(lián)合去污時(shí)不銹鋼最佳去污因子為286,銅為150。在溫度達(dá)到300℃時(shí),通入O3和空氣氚污染不銹鋼的去污因子達(dá)到197和198,銅去污因子為55和80;單獨(dú)加熱到300℃時(shí),不銹鋼和銅的去污因子分別為70和15。從圖4可以看出:加熱是氚污染金屬的有效去污方式;在相同條件下,在去污系統(tǒng)中通入氣體有利于污染部件的去污,但是在中等溫度(300℃)條件下通入氣體作用效果最佳,高溫(500℃)和低溫(100℃)下通入氣體的作用不明顯。這和Torikai[6]的結(jié)果一致。在氚污染部件去污過程中,材料表面溫度上升是一個(gè)關(guān)鍵因素,加熱則是氚去除的最有效方式之一。

      2.3 去污金屬氚吸附形態(tài)

      對去污效果較好、且國內(nèi)研究較多的不銹鋼中氚吸附形態(tài)進(jìn)行了分析,具體方法為對充氚的不銹鋼樣品表面進(jìn)行酸蝕刻,采用液體閃爍計(jì)數(shù)器測量HTO,氣體正比計(jì)數(shù)器測量HT,通過擴(kuò)散方程的有限差分?jǐn)?shù)值解法推斷氚在不銹鋼樣品中的分布濃度及形態(tài)[7]。通過氚在線連續(xù)檢測儀器監(jiān)測結(jié)果,對樣品酸蝕刻及氚的氧化還原總HTO的測定結(jié)果進(jìn)行數(shù)據(jù)分析,分析結(jié)果示于圖5。圖5結(jié)果表明:在不銹鋼中分別存在著4種氚的吸附態(tài),分別為HTO、弱吸附HT、較強(qiáng)吸附HT、強(qiáng)吸附HT,其中HTO的峰比較寬,這說明HTO峰是由結(jié)合能比較分散的氚的釋放形成的;另外還可以看出載氣的成分對峰的出現(xiàn)位置有影響,通入O3時(shí)有3個(gè)HT解析峰,HTO的解析峰較通入空氣出現(xiàn)早且峰值高,可以看出載氣的成分對峰的出現(xiàn)前后有影響,與文獻(xiàn)[8]的結(jié)果一致,這主要是由O3分解獲得激發(fā)態(tài)的氧原子導(dǎo)致。

      圖5 不銹鋼樣品中的氚解析譜Fig.5 Hot resolution spectra of tritium desorption of stainless steel sheet

      3 結(jié) 論

      (1)根據(jù)調(diào)研結(jié)果及退役氚廢物的去污要求,設(shè)計(jì)了一套去污實(shí)驗(yàn)系統(tǒng);

      (2)對銅和不銹鋼樣品吸氚,樣品在不大于1μm深度內(nèi)吸附了大量的氚;

      (3)加熱是最有效的去污方式,隨著溫度升高氚的去污效率增加;在500℃時(shí)不銹鋼去污因子達(dá)到260,銅為130;聯(lián)合去污時(shí)不銹鋼最佳去污因子為286,銅為150;

      (4)在去污系統(tǒng)中通入氣體有利于污染部件的去污,但是在中等溫度范圍時(shí)通入氣體作用效果最佳;加熱通入O3和空氣的不銹鋼形態(tài)分析可得氚污染的不銹鋼中氚存在4種吸附態(tài),分別為HTO、弱吸附HT、較強(qiáng)吸附HT、強(qiáng)吸附HT。

      [1]Gentile C A,Parker J J,Guttadora G L,et al.Oxidative tritium decontamination system:DE-AC02-76CH03073[R].Atilantic city,NJ:IEEE,2002.

      [2]Oya Y,Shu W,O’hira S,et al.A study of tritium decontamination of deposits by UV irradiation[J].Nucl Mater,2001,16:469.

      [3]Konishi S,Nishi M F,Young K M.Tritium decontamination of TFTR carbon tiles employing ultra violet light[J].Nucl Mater,2001,16:482.

      [4]Torikai Y,Penzhorn R-D.Chronic release of tritium from SS316at ambient temperature:correlation between depth profile and tritium liberation[J].Fus Sci Technol,2005,48:177-181.

      [5]Matsuyama M,Murai T,Watanabe K.Migration and release behavior of tritium in SS316at ambient temperature[J].Fus Sci Technol,2002,41:505.

      [6]Torikai Y,Penzhorn R D,Matsuyama M,et al.Tritium uptake by SS316and its decontamination[J].Nucl Mater,2004,36:1624-1628.

      [7]Hirabayashi T,Saeki M,Tachikawa E.A thermal desorption study of the surface interaction between tritium and type 316stainless steel[J].J Nucl Mater,1984,126:38-43.

      [8]Torikai Y,Perevezentsev A N,Matsuyama M,et al.Comparative study of the tritium distribution in metals[J].Fus Sci Technol,2002,41:736-738.

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