贏創(chuàng)開發(fā)顯示器用半導(dǎo)體涂覆新技術(shù)

作為手機(jī)、筆記本、臺(tái)式機(jī)的主流顯示設(shè)備，薄膜晶體管（TFT）發(fā)揮著重要的作用。目前，企業(yè)多采用非晶硅（a-Si）和低溫多晶硅（LTPS）以提升TFT半導(dǎo)體的性能，但在性能和尺寸方面仍受到較多限制。金屬氧化物作為半導(dǎo)體材料可有效提升平板顯示器的遷移率，滿足高解析度平板顯示器的要求（＞10 cm2/Vs）。與硅半導(dǎo)體TFT相比，金屬氧化物半導(dǎo)體具有能耗低、待機(jī)時(shí)間長(zhǎng)、加工和使用便捷等優(yōu)點(diǎn)。贏創(chuàng)工業(yè)集團(tuán)利用獨(dú)有的技術(shù)開發(fā)了金屬氧化物半導(dǎo)體材料iXsenic S，該半導(dǎo)體并未采用較為普及的氣相沉積法（CVD），而是通過涂覆技術(shù)形成半導(dǎo)體層，不僅擁有和CVD法相媲美的效果，且成本大大減少，此外實(shí)現(xiàn)了不同尺寸的可控生產(chǎn)。預(yù)計(jì)在未來幾年內(nèi)，iXsenic S有望投入市場(chǎng)。

賈磊譯自www.ixsenic.com.2015-12-17