李立偉 賀祥生 婁中士/ 天津市環(huán)歐半導(dǎo)體材料技術(shù)有限公司 天津森川模具有限公司
大直徑<110>晶向直拉硅單晶的熱場設(shè)計及工藝優(yōu)化
李立偉①賀祥生②婁中士①/ ①天津市環(huán)歐半導(dǎo)體材料技術(shù)有限公司 ②天津森川模具有限公司
目前所應(yīng)用于各類半導(dǎo)體光電器件和高效太陽能電池的直拉硅單晶多為<111>及<100>晶向,但是特殊晶向的<110>硅單晶可制備出光電轉(zhuǎn)換效率更高、材料成本更低的太陽能電池,但這種特殊晶向硅材料的制備存在著較大的困難,本文通過數(shù)值模擬與實際試驗相結(jié)合進行熱系統(tǒng)設(shè)計及工藝的優(yōu)化,開發(fā)出一套熱場分布合理、工藝穩(wěn)定的適合<110>直拉硅單晶生長的熱場結(jié)構(gòu)及工藝。
<110>,直拉硅單晶,熱場,大直徑
隨著原油儲備的耗盡,油價、電價的持續(xù)上升,以及石油燃料引起的氣候問題,使人們對可持續(xù)能源的需求變得十分緊迫,太陽能開發(fā)利用技術(shù)的快慢已經(jīng)影響到人類未來生存方式的改變,而如何提高太陽能電池組件的轉(zhuǎn)換效率,降低成本,成為光伏領(lǐng)域的主要研究和發(fā)展方向。不言而喻,硅材料作為光伏的主體材料而備受關(guān)注,如何制備特殊結(jié)構(gòu)的硅材料,如何從基礎(chǔ)材料方面入手提高太陽能電池光電轉(zhuǎn)化效率是目前發(fā)展光伏產(chǎn)業(yè)的重中之重。據(jù)《日本經(jīng)濟新聞》報道,由歐洲光伏發(fā)電相關(guān)的產(chǎn)學官組成的Solar Power Europe(前歐洲光伏產(chǎn)業(yè)協(xié)會)6月21日公布的數(shù)據(jù)顯示,2015年世界光伏發(fā)電新增裝機容量較上年增加25.6%,達到5060萬千瓦,創(chuàng)出了歷史新高[1],而值得指出的是,特殊結(jié)構(gòu)高效太陽能電池的同比增長率達到了80%以上,占整體光伏產(chǎn)品的8%以上,且呈逐年遞增趨勢??梢钥吹?,各類采用新型結(jié)構(gòu)、新工藝制備的高效太陽能電池應(yīng)運而生,例如Sliver太陽能電池以特殊晶向<110>硅單晶為襯底材料,轉(zhuǎn)換效率達到20%以上,方便攜帶,且正在向大直徑化發(fā)展,以進一步降低成本和提高單位轉(zhuǎn)換效率。
利用特殊晶向的<110>硅單晶可制備出光電轉(zhuǎn)換效率更高、材料成本更低的太陽能電池,但這種特殊晶向硅材料的制備存在著較大的困難,且隨著直徑的增加(8英寸),與6英寸晶體制備相比較出現(xiàn)了如下問題:8英寸晶體重量可達到200公斤以上,而直徑3mm的細頸很難支撐如此重的晶體,導(dǎo)致6英寸<110>硅單晶的引晶方法失效,常規(guī)的排位錯方法不能完全排除位錯;其次,隨晶體直徑的增加,熱場尺寸不斷增加,熱場徑向、縱向的溫度梯度增大,導(dǎo)致?lián)诫s劑、氧碳等雜質(zhì)分布不均勻,且擴肩過程中容易產(chǎn)生位錯;同時,大尺寸晶體生長時間長,晶體生長后期產(chǎn)生大量揮發(fā)物,同樣導(dǎo)致無位錯生長狀態(tài)遭到破壞。
由于不同晶向的硅單晶面間距與鍵密度不同,單晶生長所需的溫度梯度也不盡相同,生長時各晶面法向生長速度也就不同。其中{110}面間距及鍵密度均處于{100}和{111}之間,而面密度為最大,同時{110}面是主要解理面之一[2]。因此,從理論上分析可以認為,原有拉制<111>與<100>晶向硅單晶的熱系統(tǒng)都不能滿足<110>晶向硅單晶生長的溫度梯度要求。
在Xuenan Zhang[3]設(shè)計的適合拉制大直徑<110>晶向無位錯直拉硅單晶的基礎(chǔ)上,本研究針對6英寸<110>直拉硅單晶進行了熱場結(jié)構(gòu)和工藝的優(yōu)化。關(guān)鍵點主要有如下幾個方面:首先是通過數(shù)值模擬進行熱場結(jié)構(gòu)設(shè)計,同時通過實驗驗證及,對單晶引晶、放肩、等徑、收尾等工藝過程進行相關(guān)的優(yōu)化,成功開發(fā)出了一套更為合理的適合大直徑<110>無位錯直拉硅單晶制備的熱場結(jié)構(gòu)和工藝。
2.1適合<110>硅單晶生長熱系統(tǒng)的優(yōu)化
通過理論分析及數(shù)值模擬分別設(shè)計了三套相對合理的熱場結(jié)構(gòu),如圖1中,分別針對保溫結(jié)構(gòu)中的上保溫、中保溫和下保溫層進行重新設(shè)計。其比例如下表:
圖1 適合大直徑<110>無位錯硅單晶生長的熱系統(tǒng)
表1 三種實驗方案
在上述方案中,經(jīng)過多次的熱場驗證試驗,發(fā)現(xiàn)方案一和方案二拉晶過程中普遍存在如下問題: 1)引細勁過程中細頸直徑較難控制;2)直拉<110>單晶生長時易呈橢圓狀,嚴重時造成單晶扭曲,不能正常成晶;而在方案三中,通過控制保溫層結(jié)構(gòu),上保溫:中保溫:下保溫=1:2.5:3時,引細徑相對容易控制,且單晶保持時橢圓現(xiàn)象減輕。
2.2工藝優(yōu)化
在上述方案三的熱場結(jié)構(gòu)條件下,針對不同拉晶過程中的現(xiàn)象合理調(diào)整拉晶工藝,包括擴肩拉速度、等徑拉速、晶轉(zhuǎn)、堝轉(zhuǎn),通過數(shù)值模擬得到相對合理的配套工藝如下表2,并進行實驗驗證。
實驗結(jié)果證實,當擴肩拉速為0.3 mm/min時,分別驗證了晶轉(zhuǎn)12 r/min且堝轉(zhuǎn)8 r/min和晶轉(zhuǎn)15r/min且堝轉(zhuǎn)11 r/min,但單晶生長擴肩較困難;而當擴肩拉速調(diào)整為0.5 mm/min時,分別分別驗證了晶轉(zhuǎn)12 r/min且堝轉(zhuǎn)8 r/min和晶轉(zhuǎn)15 r/min且堝轉(zhuǎn)11 r/ min,單晶相對更易控制。且當擴肩拉速為0.5mm/min、晶轉(zhuǎn)15 r/ min且堝轉(zhuǎn)11 r/min、等徑拉速0.6 mm/min時,更容易保持,且合格率明顯提升。
表2 單晶生長工藝相關(guān)參數(shù)
圖2為用此種制備方法拉制出的直徑6英寸、N型<110>直拉硅單晶,其中少子奉命及電阻率均勻性均滿足客戶要求。從圖中可看出對〈110〉取向的硅單晶,由于有二個{111}面和圓柱形晶體傾斜相交,所以在晶體柱面上明顯形成二條對稱分布的生長棱線。
圖2?。?10>硅單晶
本研究以數(shù)值模擬優(yōu)化熱場結(jié)構(gòu)及工藝參數(shù),通過實驗驗證,獲得適合<110>晶向的直拉硅單晶生長的熱場結(jié)構(gòu)和工藝參數(shù),其中熱場結(jié)構(gòu)建議上保溫:中保溫:下保溫=1:2.5:3;工藝參數(shù)建議:擴肩拉速為0.5mm/min、晶轉(zhuǎn)15 r/min且堝轉(zhuǎn)11 r/min、等徑拉速0.6 mm/min,以獲得6英寸<110>無位錯直拉硅單晶。其中導(dǎo)電型號可調(diào)整(N型、P型)、電阻率范圍廣(0.001-100Ω.cm)、產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體及太陽能電池的制作,以拓寬直拉硅單晶的應(yīng)用范圍,增加市場占有率。
[1]2015年世界光伏發(fā)電新增裝機容量50.6GW,http://guangfu.bjx.com.cn/m/?s=1&l=1&v=744954&suke y=3997c0719f1515201c d19df 360d4106436795dff70a0feaa801c120eb690331fe5d24e5fcf948560c79b 6bb99ce38667.2016-06-23 北極星太陽能光伏網(wǎng).
[2]闕端麟,陳修治,硅材料科學與技術(shù)[M],P10-16.
[3]Xuenan Zhan, XuGuang Zhang, Jianhong Li, et al.Preparation and application of <110> dislocation-free monocrystalline silicon by CZ method [J], Advanced Materials Research Vols.415-417 (2012) : 1760-1763.