王昆

摘 要：氧化鈦膜層具有較高的折射率和出色的紫外吸收特性，廣泛應(yīng)用于UV/IR Cut濾光片的制備中。但是在TiO2/SiO2多層膜的制備中常常遇到霧度偏高的困擾，本文采用離子輔助沉積技術(shù)制備TiO2/SiO2多層膜，研究分析了相關(guān)工藝參數(shù)對沉積膜層霧度的影響，能夠制備出較低霧度的薄膜樣品。

關(guān)鍵詞：氧化鈦；濾光片；離子輔助沉積；霧度

氧化鈦作為光學(xué)薄膜材料應(yīng)用廣泛，其透射波段位于400nm-12μm范圍，該波段內(nèi)具有出色的機(jī)械特性和光學(xué)特性。氧化鈦折射率2.2～2.7，可作為一種良好的高折射率材料，但當(dāng)λ<400nm時，其吸收特性極強(qiáng)。因此，基于其出色的高折射率和紫外吸收特性，在紅外波段濾光片制備方面具有很好的應(yīng)用效果，可廣泛應(yīng)用于投影儀、數(shù)碼相機(jī)濾光片上。采用TiO2/SiO2多層膜系結(jié)構(gòu)設(shè)計，可大幅度降低濾光片的制備成本，同時又具有很好的機(jī)械性能[ 1-3 ]。

采用該膜系結(jié)構(gòu)的濾光片常常在制備中遇到霧度較高的情況，特別是對樣品透明性能要求嚴(yán)格的情況，很難滿足特性需求。本文基于離子輔助薄膜沉積技術(shù)，通過大量實驗研究分析，得到離子源能量、沉積溫度等多項工藝參數(shù)對沉積膜層霧度的影響，并提出部分改進(jìn)設(shè)想。

1 實驗

1.1 實驗設(shè)備

實驗采用日本OPTORUN生產(chǎn)的OTFC-1800DBI離子束輔助成膜設(shè)備，離子源為（RF）23cmOIS-3型，基板玻璃采用BG62（藍(lán)玻璃），膜層散射通過NHD5000進(jìn)行測量。

1.2 實驗參數(shù)

實驗采用離子輔助沉積技術(shù)，工藝參數(shù)設(shè)計如表1所示。

2 結(jié)果與分析

2.1 實驗結(jié)果

實驗樣品散射檢測結(jié)果如表2所示，圖中數(shù)據(jù)均為霧度。