楊飛飛 張雁東 崔龍輝
【摘 要】 本文主要研究管式PECVD后期使用中的鍍膜均勻性問(wèn)題,通過(guò)對(duì)鍍膜沉積的工藝條件、石墨舟飽和工藝參數(shù)的分析研究,找出最優(yōu)的沉積條件與參數(shù),經(jīng)過(guò)改善后,電池片鍍膜整體質(zhì)量有很大提升,片內(nèi)與片間鍍膜顏色的一致性得到保障。
【關(guān)鍵詞】 PECVD;電池片;鍍膜;石墨舟
【中圖分類號(hào)】 TD32 【文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼】 A
【文章編號(hào)】 2096-4102(2019)04-0100-03 開(kāi)放科學(xué)(資源服務(wù))標(biāo)識(shí)碼(OSID):
1引言
目前晶硅電池的鍍膜方式主要使用PECVD原理,分為管式與板式,板式PECVD由于電極板與載板平行,并且不存在卡點(diǎn),因此片內(nèi)及片間均勻性都較好。管式PECVD則不同,卡點(diǎn)、溫度及舟飽和都會(huì)影響其鍍膜的均勻性,導(dǎo)致舟內(nèi)電池片顏色波動(dòng)較大,尤其在設(shè)備使用后期,不同溫區(qū)或爐管之間顏色跳動(dòng)較大。本文主要針對(duì)以上問(wèn)題,一一提出解決辦法,保證設(shè)備后期鍍膜質(zhì)量的穩(wěn)定性。
2實(shí)驗(yàn)結(jié)果分析
2.1片間均勻性改善
2.1.1問(wèn)題分析
目前存在的問(wèn)題是管內(nèi)爐口與爐尾存在鍍膜差異性,爐口鍍膜偏薄,爐尾偏厚,現(xiàn)對(duì)影響管內(nèi)均勻性的鍍膜沉積壓力、溫度分別進(jìn)行不同位置測(cè)試,具體數(shù)據(jù)如下表:
經(jīng)測(cè)試管內(nèi)不同位置壓力、溫度發(fā)現(xiàn),壓力位置一致性較好,溫度位置差異性較大,且誤差超出允許的1.5%的范圍,已構(gòu)成鍍膜質(zhì)量差異的主要反應(yīng)條件。經(jīng)分析造成此現(xiàn)象的主要原因?yàn)楦鱾€(gè)爐管加熱絲長(zhǎng)時(shí)間使用存在老化問(wèn)題,個(gè)別溫區(qū)溫度無(wú)法達(dá)到設(shè)定值。
2.1.2具體措施
針對(duì)上述問(wèn)題,根本解決需要更換加熱絲,考慮到更換加熱絲成本高,且更換較復(fù)雜,如何能夠保證鍍膜質(zhì)量的情況下,找到相對(duì)容易實(shí)現(xiàn)的方法,既能做到設(shè)定溫度與實(shí)際溫度吻合,同時(shí)又能保證溫度設(shè)置的差異性補(bǔ)償,是目前面臨的困難。為此選取典型爐管,跟蹤其運(yùn)行記錄文件,掌握其每個(gè)溫區(qū)與設(shè)定值的差值大小,并與在線檢測(cè)相機(jī)所測(cè)膜厚作關(guān)聯(lián)分析,找出相應(yīng)調(diào)整的方向及幅度,如下:
從上表中看出達(dá)不到設(shè)定值主要集中在爐口的前兩個(gè)區(qū),對(duì)應(yīng)檢測(cè)光學(xué)膜厚值也相應(yīng)偏低,依據(jù)其他正常區(qū)域溫度與膜厚關(guān)系,經(jīng)過(guò)多次測(cè)試,初步得出溫度變化幅度與光學(xué)膜厚的關(guān)系如下圖:
由上圖通過(guò)線性擬合得出線性因子為0.64,即溫度變化1℃,光學(xué)膜厚變化0.64。依據(jù)上述參數(shù),調(diào)整相應(yīng)溫區(qū)的溫度補(bǔ)償,此處調(diào)整思路為爐口溫度,設(shè)定值為實(shí)際能夠達(dá)到的上限溫度,同時(shí)降低爐尾各溫區(qū)溫度設(shè)定值,保證不同位置溫度的一致性,同時(shí)調(diào)整整體沉積時(shí)間,保證膜厚在正常范圍內(nèi)。
按照以上配方參數(shù),實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示修正后膜厚趨于平整,不同溫區(qū)差異性變小。
2.2片內(nèi)均勻性改善
2.2.1問(wèn)題分析
目前鍍膜工藝片內(nèi)均勻性主要涉及兩類,一種舟使用初期電池片邊緣容易發(fā)紅,一種舟使用后期邊緣容易發(fā)白。影響邊緣鍍膜的因素有卡點(diǎn)、舟的清洗和飽和,卡點(diǎn)與舟的清洗產(chǎn)線容易把控,不存在較大問(wèn)題,因此最大問(wèn)題主要集中在舟的飽和工藝,因各廠家舟的材質(zhì)差異性,以及舟壽命的關(guān)系,飽和工藝需要根據(jù)實(shí)際優(yōu)化出最優(yōu)的飽和參數(shù)。
為找出飽和方式對(duì)邊緣鍍膜影響的具體因素,通過(guò)假片飽和與空鍍飽和結(jié)合的方式,測(cè)試邊緣鍍膜情況,具體結(jié)果如下表:
通過(guò)上表數(shù)據(jù)看出假片飽和180min與120min邊緣最小值無(wú)差異,目測(cè)鍍膜電池片邊緣存在發(fā)紅現(xiàn)象;假片飽和疊加空鍍飽和時(shí)間越長(zhǎng),邊緣光學(xué)膜厚值越大,同時(shí)與單純空鍍飽和舟的邊緣情況作對(duì)比分析得出,邊緣發(fā)紅、發(fā)白與石墨舟被電池片遮擋區(qū)域鍍膜厚度有關(guān)系。
2.2.2具體措施
由上述問(wèn)題的分析可知飽和方式對(duì)邊緣鍍膜質(zhì)量的重要性,為找出最佳的飽和方式,以舟壽命為縱線,測(cè)試不同飽和方式對(duì)邊緣鍍膜質(zhì)量的影響,具體數(shù)據(jù)如下:
由表5與圖2看出,假片+空鍍飽和40分鐘的效果與空鍍飽和80分鐘效果接近,整個(gè)舟壽命周期邊緣與中間膜厚差異可以控制在3%以內(nèi),空鍍120分鐘的舟壽命超出60次以后,邊緣與中間膜厚差異達(dá)到7%,未達(dá)標(biāo)準(zhǔn)。因此綜合考慮成本及產(chǎn)能,最佳的飽和方式為空鍍120分鐘。
3結(jié)論
通過(guò)上述兩類不同實(shí)驗(yàn)的分析論證,可以看出鍍膜工藝條件會(huì)影響片間的鍍膜均勻性,而石墨舟的飽和方式對(duì)片內(nèi)的均勻性影響更大一些,本文通過(guò)對(duì)兩類影響鍍膜質(zhì)量的不同因素進(jìn)行分析研究,找出最優(yōu)的工藝參數(shù),保證片間和片內(nèi)膜厚差異誤差在3%以內(nèi),提高產(chǎn)品的質(zhì)量。
【參考文獻(xiàn)】
[1]薛俊,杭凌俠,劉昊軒.PECVD制備光學(xué)薄膜材料折射率控制技術(shù)[J].光學(xué)技術(shù),2014,40(04):353-356.
[2]劉志平,趙謖玲,徐征,劉金虎,李棟才.PECVD沉積氮化硅膜的工藝研究[J].太陽(yáng)能學(xué)報(bào),2011,32(01):54-59.
[3]劉久澄,劉曉燕,任遠(yuǎn).射頻頻率對(duì)PECVD沉積氮化硅薄膜性能影響的研究[J].材料研究與應(yīng)用,2016(03):78-82.