2020年7月8日，中國感光學會召開了2020十大工程技術難題——“如何突破光刻技術難題”專家座談會。座談會采用現(xiàn)場和視頻同步方式召開。

中國科學院院士楊萬泰、佟振合、彭孝軍、吳驪珠，中國工程院院士許祖彥、羅先剛、劉文清，中國感光學會理事長張麗萍，名譽理事長蒲嘉陵，副理事長楊建文、鄒應全，榮譽理事洪嘯吟，秘書長汪鵬飛、常務副秘書長任俊，難題撰寫作者梁紅波，工業(yè)和信息化部、國家自然科學基金委員會、科技部高新技術司有關領導，高校、科研院所和行業(yè)企業(yè)專家代表共60余人參加了座談會。張麗萍理事長主持會議。

張麗萍理事長首先介紹了中國感光學會提出的難題提案—“如何突破光刻技術難題”入選2020年十大重大工程技術難題的相關情況和中國科協(xié)對入選問題難題的后續(xù)工作要求。

而后，難題撰寫作者南昌航空大學梁紅波教授匯報了工作進展，詳細介紹了“如何突破光刻技術難題”的問題背景、重要意義、最新進展、主要難點及其相關政策建議等。楊建文副理事長對工作進展進行了補充。

在研討環(huán)節(jié)，與會專家圍繞突破光刻技術難題的進展情況、光刻技術面臨的主要問題、光刻技術應用情況以及突破難題的技術與政策建議等進行了熱烈討論，為進一步完善專題建議報告—《科技工作者建議》提出了很多寶貴的意見和建議。會后，學會將及時總結材料，形成《科技工作者建議》，呈報相關部門決策參考使用。

本次座談會旨在跟蹤了解難題研究進展，分析難點與挑戰(zhàn)，提出技術與政策建議，形成難題研究專項報告—《科技工作者建議》，使入選問題難題服務國家科技決策、納入國家規(guī)劃、與國家重大工程項目結合，推動關鍵技術聯(lián)合攻堅、促進應用推廣，為我國光刻技術跨越發(fā)展，解決微電子制造的“卡脖子”技術難題做出貢獻。