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      貼片式電阻器滾鍍工藝影響因素分析及改進(jìn)

      2022-04-13 06:17:26孫杰孫學(xué)亮崔浩冉楊博
      電鍍與涂飾 2022年5期
      關(guān)鍵詞:電阻器鋼球鍍層

      孫杰,孫學(xué)亮,崔浩冉,楊博

      (北京七一八友晟電子有限公司,北京 101200)

      隨著工業(yè)技術(shù)和信息技術(shù)的不斷發(fā)展,貼片式電阻器、電容器等微小器件被廣泛應(yīng)用。貼片式電阻器以體積小、質(zhì)輕、節(jié)省原材料、組裝密度高、易實(shí)現(xiàn)標(biāo)準(zhǔn)化、性能優(yōu)良、綜合成本低以及有利于提高電子設(shè)備的可靠性等優(yōu)點(diǎn),成為SMT(表面貼裝)工藝中使用最廣泛的元器件。電阻器產(chǎn)品一般以器件兩端作為引出端,中間部位被絕緣保護(hù)層覆蓋,兩個(gè)引出端表面先涂一層銀漿料,烘干固化后形成導(dǎo)電層,再電鍍鎳和錫,鎳鍍層用作阻擋層,錫鍍層則用于焊接。由于產(chǎn)品尺寸小,只能采用滾鍍。

      滾鍍是將待鍍工件與陪鍍物一起裝入專用滾筒內(nèi),按照生產(chǎn)工藝要求進(jìn)行堿洗、酸洗、清洗等前處理后再電鍍。滾鍍過程中滾筒不停地旋轉(zhuǎn),使得滾筒內(nèi)的溶液、工件、陪鍍物等持續(xù)得到攪拌,通過滾筒內(nèi)陰極頭的間接導(dǎo)電,在工件表面沉積得到單金屬或合金鍍層。滾筒的結(jié)構(gòu)、尺寸、體積、轉(zhuǎn)速、導(dǎo)電結(jié)構(gòu)、開孔率等諸多因素都影響著滾鍍的生產(chǎn)效率和鍍層性能。尤其對(duì)于貼片式電阻器這種微小器件,滾筒內(nèi)的導(dǎo)電狀態(tài)對(duì)鍍層性能的影響更加明顯。本文分析了貼片式電阻器滾鍍工藝的影響因素,對(duì)滾筒導(dǎo)電結(jié)構(gòu)、陪鍍球種類和比例進(jìn)行了優(yōu)化,為微小器件電鍍生產(chǎn)提供參考。

      1 貼片式電阻器滾鍍的主要影響因素

      1.1 滾筒導(dǎo)電結(jié)構(gòu)

      在貼片式電阻器滾鍍過程中,直流電通過滾筒內(nèi)的陰極導(dǎo)電頭與工件和陪鍍物連接,但并非所有工件都能與直流電直接連通。多數(shù)情況下,直流電先通過陰極導(dǎo)電頭將電流輸送給與其直接接觸的工件或陪鍍物,再由這些工件或陪鍍物傳遞給其他工件或陪鍍物。因此,在滾鍍過程中,多數(shù)工件是通過間接導(dǎo)電方式實(shí)現(xiàn)電流導(dǎo)通。間接導(dǎo)電是否連續(xù)和穩(wěn)定直接影響電流效率和鍍層性能,滾筒的陰極導(dǎo)電結(jié)構(gòu)以及陪鍍物種類和比例則直接影響導(dǎo)電過程的連續(xù)性和穩(wěn)定性。

      常見的滾筒導(dǎo)電結(jié)構(gòu)有圓盤式、側(cè)鈕式、棒狀式、“象鼻”式等,如圖1所示。

      圖1 幾種滾筒陰極導(dǎo)電結(jié)構(gòu) Figure 1 Several structures for electric conduction of cathode in barrel

      貼片式電阻器滾鍍一般使用“象鼻”式。“象鼻”式陰極導(dǎo)電結(jié)構(gòu)是將絕緣的軟銅線從滾筒兩端的中心孔穿入滾筒內(nèi)部,銅線端頭焊接銅頭,另一端用螺絲壓緊或用錫焊焊牢,電鍍時(shí)工件和陪鍍物要完全覆蓋陰極頭,方能實(shí)現(xiàn)導(dǎo)電。

      “象鼻”式陰極導(dǎo)電結(jié)構(gòu)制作和維護(hù)簡(jiǎn)單,成本低。但陰極由軟線連接,在滾鍍過程中陰極線來(lái)回?cái)[動(dòng),容易纏繞變形,導(dǎo)電頭甚至被甩出產(chǎn)品接觸面,致使工件完全脫電,電鍍過程受阻,如圖2所示。此外,暴露在產(chǎn)品外的陰極頭與鍍液接觸時(shí),金屬離子直接沉積在陰極頭表面,使電流效率降低。

      圖2 滾筒滾動(dòng)過程中陰極導(dǎo)電頭的位置 Figure 2 Position of cathode head during rotation of barrel

      對(duì)于貼片式電阻器而言,陪鍍物一般為鋼球,鋼球的密度較大,所以滾鍍過程中大部分貼片式電阻器位于陪鍍物上表面,通過間接導(dǎo)電在產(chǎn)品引出端電鍍鎳和錫。但在生產(chǎn)過程中使用“象鼻”式陰極導(dǎo)電結(jié)構(gòu)的滾筒時(shí),由于陰極頭的不確定性,當(dāng)陰極頭翻出至表層與表層產(chǎn)品直接接觸時(shí),可能會(huì)使產(chǎn)品表面瞬時(shí)電流密度過大而出現(xiàn)鍍層燒焦現(xiàn)象,從而影響鍍層的連續(xù)性。

      1.2 陪鍍物

      1.2.1 種類

      陪鍍物應(yīng)具備良好的導(dǎo)電性,并且不會(huì)對(duì)器件表面產(chǎn)生機(jī)械損傷。業(yè)內(nèi)通常選用直徑為0.4 ~ 1.0 mm的鍍鎳鋼球作為微小器件電鍍的陪鍍物。然而在實(shí)際生產(chǎn)中發(fā)現(xiàn),如果只是將鍍鎳鋼球和器件一起裝入滾筒電鍍,鍍層厚度往往不均勻,并且極易出現(xiàn)“雙片”現(xiàn)象(指2個(gè)產(chǎn)品貼在一起)。

      1.2.2 比例

      在電鍍過程中陪鍍物參與導(dǎo)電,金屬離子也會(huì)直接沉積在陪鍍物表面。因此,如果陪鍍物太多,會(huì)有大量金屬離子沉積在陪鍍物表面,造成原材料被嚴(yán)重浪費(fèi);如果陪鍍物過少,則不能保證滾筒內(nèi)部導(dǎo)電過程的連續(xù)性和穩(wěn)定性。在實(shí)際生產(chǎn)中還發(fā)現(xiàn),陪鍍物的比例若控制不當(dāng),鍍層內(nèi)部容易出現(xiàn)分層。

      2 滾鍍工藝改進(jìn)

      2.1 滾筒導(dǎo)電結(jié)構(gòu)的優(yōu)化

      如圖3所示,將軟質(zhì)銅線改為硬質(zhì)銅桿,用耐腐蝕的絕緣材料包封,通過螺紋緊固方式在銅桿一端安裝陰極頭。當(dāng)陰極頭表面的鍍層較厚時(shí),可直接將陰極頭擰下,更換新的陰極頭。

      圖3 硬質(zhì)陰極桿結(jié)構(gòu) Figure 3 Structure of hard cathode rod

      如圖4所示,改用硬質(zhì)銅桿后,陰極頭位置固定,在滾鍍過程中始終埋于工件內(nèi)部,避免了因陰極頭翻至上表層引起的電流效率降低和鍍層燒焦現(xiàn)象。

      圖4 改進(jìn)后滾筒滾動(dòng)過程中陰極頭的位置 Figure 4 Position of cathode head during the rotation of barrel after being modified

      2.2 陪鍍物種類的優(yōu)化

      滾鍍時(shí)滾筒內(nèi)的電阻器和陪鍍鋼球堆積在一起,部分電阻器會(huì)被陪鍍鋼球包圍。由于滾鍍的特殊性,電阻器處于鋼球表層時(shí)才能與鍍液充分接觸,從而保證有足夠多的金屬離子在其表面還原沉積。而被小鋼球圍住的電阻器與鍍液接觸少,表面只有電流通過,幾乎沒有金屬離子在其表面沉積。因此,進(jìn)一步添加直徑5 ~ 7 mm的大鋼球作為陪鍍物,在滾鍍時(shí)利用大鋼球的慣性作用對(duì)器件和小鋼球進(jìn)行攪拌,不僅能夠保證所有器件均勻受鍍,還能降低器件粘在一起的概率。

      2.3 陪鍍物比例的優(yōu)化

      用于陪鍍的鋼球總體積相同時(shí),鋼球直徑越小,其比表面積就越大。因此,小尺寸鋼球占比越高,滾鍍時(shí)原材料浪費(fèi)越嚴(yán)重,滾筒內(nèi)部攪拌效果就越差,但電流傳輸?shù)姆€(wěn)定性會(huì)越高。相反,大尺寸鋼球占比越高,滾筒內(nèi)部攪拌效果越好,原材料利用率提高,但電流傳輸?shù)姆€(wěn)定性會(huì)降低。

      經(jīng)過多次試驗(yàn),綜合考慮原材料利用率、電流傳導(dǎo)穩(wěn)定性、滾筒內(nèi)部攪拌均勻性等因素后,最終確定參數(shù)如下:陪鍍球與器件總體積占滾筒容積的1/3,小鋼球與大鋼球的體積比1.2∶1,電阻器與陪鍍球的體積比1∶8。

      3 改進(jìn)效果

      為了確定工藝優(yōu)化后能否顯著改善產(chǎn)品性能,在同一條電鍍生產(chǎn)線選取相同規(guī)格的貼片式電阻器進(jìn)行電鍍鎳和電鍍錫,并使用Fischer XULM型X射線膜層測(cè)厚儀測(cè)量鍍鎳層厚度,結(jié)果見表1。在優(yōu)化的工藝條件下電鍍時(shí),貼片式電阻器表面鎳鍍層厚度明顯增大,電流效率大幅提高。

      表1 優(yōu)化前后滾鍍鎳層厚度 Table 1 Thickness of nickel coating obtained by barrel plating under the conditions optimized or not

      為了確定鍍層的連續(xù)性和均勻性,對(duì)電鍍產(chǎn)品進(jìn)行DPA(破壞性物理分析),結(jié)果見圖5。從中可知,采用改進(jìn)的工藝后,鍍層結(jié)構(gòu)完整,厚度分布均勻。

      圖5 優(yōu)化前、后滾鍍鎳層的分布 Figure 5 Distribution of nickel coatings obtained by barrel plating before and after the optimization of conditions

      4 結(jié)語(yǔ)

      對(duì)貼片式電阻器這類微小器件滾鍍加工時(shí),影響因素較多,其中滾筒內(nèi)陰極導(dǎo)電結(jié)構(gòu)以及陪鍍物種類和 比例的影響最為明顯。因此,在實(shí)際生產(chǎn)中必須及時(shí)對(duì)設(shè)備進(jìn)行優(yōu)化改進(jìn),嚴(yán)格控制陪鍍物種類和比例,以保證產(chǎn)品性能。

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