劉德祥,譚曉蘭,周文博,班 翔,王月欽
(北方工業(yè)大學 機械與材料工程學院,北京100144)
相比較傳統(tǒng)器件而言,微機電系統(tǒng)(MEMS)[1]器件具有體積小、重量輕、耗能低以及響應時間短等諸多優(yōu)點[2]。目前為人熟知的有微驅(qū)動器、微傳感器、能量采集器及射頻器件等。其中,就微驅(qū)動器而言,壓電式驅(qū)動器比較受關(guān)注[3]。隨著科技進步,相關(guān)行業(yè)對其要求日益提高,但因其質(zhì)量和穩(wěn)定性極易受到設(shè)計、制造等各環(huán)節(jié)中變差影響,故將穩(wěn)健設(shè)計方法理論與壓電式MEMS驅(qū)動器的設(shè)計相結(jié)合就極為必要且有意義。
本文所分析的L型梁壓電式MEMS驅(qū)動器模型[4]如圖1所示,該壓電驅(qū)動器是在邊長為3 mm的正方形硅(Si)基底梁上面鋪設(shè)一層壓電陶瓷(PZT)壓電薄膜,在壓電薄膜的上下兩面各濺射一層金屬電極(厚度忽略不計)。上下電極分別接引線為驅(qū)動器供電,Si基底的每條邊向內(nèi)延伸一條L型梁,4根梁的末端分別與基底中心平臺的頂角相接,形成一個微型振動臺。
圖1 壓電式驅(qū)動器結(jié)構(gòu)示意
此驅(qū)動器的設(shè)計原理主要利用了壓電材料(PZT—4)的逆壓電效應[5],即壓電材料在電場中會發(fā)生極化現(xiàn)象,繼而產(chǎn)生機械形變
S=dT·E
(1)
如圖2所示,當電極電壓上正下負時,敏感材料伸長;當電極電壓下正上負時,敏感材料縮短[6]。在電場空間中施加交變電壓,微驅(qū)動器的壓電層隨著電壓方向的改變從而進行上下往復彎曲變形,由于壓電片與Si基底粘合,所以會帶動Si基底L型梁產(chǎn)生同樣的運動效果,進而帶動中心振動臺上下往復振蕩,即為其所要達到的驅(qū)動效果[7],如圖3所示。
圖2 壓電片極化變形示意
圖3 壓電式驅(qū)動器受力形變示意
通過原理分析以及根據(jù)Smits模型可知,壓電材料在電場中的受力情況如圖3所示,壓電層所受到的橫向力為
(2)
其中
(3)
式中hSi為Si基底厚度,hP為PZT為壓電層厚度,L為梁的長度,E3為施加電壓大小。
根據(jù)撓曲線方程[8]
δ=-MSiL2/2ESiISi
(4)
經(jīng)整理,得到以Si基底L型梁變形撓度為設(shè)計指標的目標函數(shù)表達式
(5)
影響產(chǎn)品質(zhì)量的因素有兩類:一類是可控因素x,如設(shè)計變量、容差等;另一類是噪聲因素z,如原材料品質(zhì),制造環(huán)境等。因為各種影響因素的隨機不確定性,使得產(chǎn)品最終輸出的質(zhì)量特性極易產(chǎn)生較大的不穩(wěn)定性,甚至嚴重偏離目標值。在此,采用隨機穩(wěn)健設(shè)計方法,在考慮可控與不可控因素的隨機性同時存在的原因,通過調(diào)整設(shè)計變量并同時控制其容差(允許存在最大偏差)的方法來獲得穩(wěn)健設(shè)計問題的最優(yōu)解[9]。
本文以壓電式驅(qū)動器因受到外部電場作用而產(chǎn)生的撓度變化量Δδ作為其設(shè)計特性,為了提高產(chǎn)品的質(zhì)量穩(wěn)定性,需要使其波動也盡可能地小。因此,以撓度變化量Δδ倒數(shù)的均值和方差的望小特性作為產(chǎn)品的質(zhì)量特性,求其最小值[10],即
(6)
其中,w1,w2為加權(quán)系數(shù)
(7)
參考質(zhì)量特性表達式,取Si基底厚度、壓電薄膜厚度、梁的長度、電壓以及各自容差為可控因素x,即
x=(hSi,hP,L,E3,ΔhSi,ΔhP,ΔL,ΔE3)T
=(x1,x2,x3,x4,x5,x6,x7,x8)T
(8)
(9)
通過查閱文獻[11]確定它們各自遵循的隨機分布的類型和參數(shù)如表1[12]。
表1 噪聲因素所遵循的概率分布類型和參數(shù)
確定考慮容差在內(nèi)的設(shè)計變量初值及上、下界值如表2。
表2 設(shè)計變量的初值與上、下界值
經(jīng)分析可知,微驅(qū)動器工作時L梁所受應力最大值在梁根部位置。因此,除上表尺寸約束之外還應該要求Si基底極限彎曲應力小于Si的許用應力[13]
σmax≤[σ]
(10)
由于微驅(qū)動器工作時的最大位移在與中心振動臺的連接處,其形變撓度大于它厚度,故采用大撓度彎曲理論來約束Si基底的彎曲變形,且要求其形變撓度大于它厚度的30%
δmax≥0.3x1
(11)
此處使用質(zhì)量設(shè)計準則中的約束可行性準則:當x與z發(fā)生變差Δx和Δz時,隨機約束同樣發(fā)生變差Δg,此時仍滿足設(shè)計要求。約束變差Δgj可按最壞情況近似計算
(12)
因此,可以得到性能約束表達式如下
g1(x,z)=0.3x1-δmax≤0
g2(x,z)=σmax-[σ]≤0
(13)
邊界約束如下
15≤hSi≤35,5≤hP≤40,2 000≤L≤3 000,10≤E3≤25
(14)
以質(zhì)量損失函數(shù)望小特性為最終目標函數(shù),以可行性準則為概率約束,以容差為邊界約束建立隨機穩(wěn)健數(shù)學模型如下
(15)
式中 (Ω,P,E)為概率空間,gi為約束條件,βj為預先規(guī)定應當滿足的概率值,βj∈[0,1],該值越大可行穩(wěn)健性越好,本文取β為1,即滿足約束條件的概率為100%。
利用Compad Visual Fortran 6.5軟件,將模型寫入已編譯完成的MZOD程序,進行二次開發(fā):目標函數(shù)與約束條件寫入模型文件,可控因素與不可控因素寫入數(shù)據(jù)文件。運行程序后求得穩(wěn)健設(shè)計解,程序模塊示意如圖4。
圖4 穩(wěn)健程序示意
調(diào)用隨機模擬計算程序,獲得穩(wěn)健設(shè)計實驗數(shù)據(jù)結(jié)果。經(jīng)過穩(wěn)健程序的7次循環(huán)442次迭代計算,最終得到穩(wěn)健設(shè)計解,其中設(shè)計變量即微驅(qū)動器的結(jié)構(gòu)參數(shù)經(jīng)表格形式給出,并同時將穩(wěn)健設(shè)計所得結(jié)構(gòu)參數(shù)與原方案參數(shù)進行比較,如表3。
表3 原方案與隨機模型穩(wěn)健解對比
通過表3對比可以發(fā)現(xiàn),經(jīng)穩(wěn)健設(shè)計之后的微驅(qū)動器減小了梁的長度、PZT壓電層與Si基底的厚度,以及降低了驅(qū)動電壓:從原來的25 V驅(qū)動降低到16.6 V驅(qū)動,從而使得微驅(qū)動器在較小電壓環(huán)境下就可以產(chǎn)生更大的驅(qū)動位移,提高了微驅(qū)動器的靈敏度;并且,經(jīng)過穩(wěn)健設(shè)計之后的輸出位移相比原方案提高了15.66 μm。
其他實驗數(shù)據(jù)方面:質(zhì)量特性的方差為2.78×10-5,波動程度極小;望小特性的均值為5.38×10-2;L型梁受到的側(cè)向力最大值為3.16×10-6N,且在微驅(qū)動器發(fā)生最大位移時,其根部位置最大彎曲應力為63.78 MPa,與極限應力之間存在足夠的安全范圍。
本文提出了一種以單晶Si為基底以PZT—4為敏感材料的MEMS壓電式驅(qū)動器的隨機模型穩(wěn)健設(shè)計研究方法,并求得穩(wěn)健設(shè)計解。結(jié)果表明:1)在設(shè)計變量和噪聲因素的變差允許范圍內(nèi),隨機模型的穩(wěn)健設(shè)計結(jié)果可以保證其對加工中存在的變差不敏感,提高了壓電式MEMS驅(qū)動器性能的穩(wěn)定性進而提高了成品率;2)經(jīng)過穩(wěn)健設(shè)計的壓電式MEMS驅(qū)動器的輸出最大位移相較初始設(shè)計提高了33.2 %,而且其靈敏度以及受力情況同樣優(yōu)于原方案,此次設(shè)計為后續(xù)樣品制作以及更深一步的探索提供了理論依據(jù)。綜上所述,本文對該壓電式驅(qū)動器進行的穩(wěn)健設(shè)計研究,結(jié)果證明可行。