光刻機(jī)
- 光刻機(jī)龍頭的沉浮變遷（上）
特爾也有自己的光刻機(jī)部門，買一些零部件便能自己組裝。1961年，美國(guó)GCA造出了第一臺(tái)重復(fù)曝光光刻機(jī)，能夠定位到1微米的精度，遠(yuǎn)超當(dāng)時(shí)25微米的精度。光刻機(jī)從此開(kāi)始邁入專業(yè)化，GCA在20世紀(jì)60年代占據(jù)了60%-70%的市場(chǎng)份額。飛利浦以3萬(wàn)美元一臺(tái)購(gòu)買GCA的設(shè)備為起點(diǎn)，開(kāi)始研究光刻機(jī)，飛利浦那時(shí)是一家著名的芯片制造廠，諾基亞和愛(ài)立信等都是其客戶。飛利浦對(duì)市場(chǎng)上的鏡頭開(kāi)始檢測(cè)，發(fā)現(xiàn)德國(guó)蔡司的鏡頭質(zhì)量最好，但蔡司對(duì)這么小的訂單并不感興趣，飛利浦退而求次找
證券市場(chǎng)周刊 2024年3期2024-01-25
- 解剖“中國(guó)蔡司”
心設(shè)備EUV 光刻機(jī)。但無(wú)論麒麟芯片是用什么類型的光刻機(jī)制造，工藝如何，激動(dòng)人心且令人期待的是一直攔在國(guó)內(nèi)芯片制造產(chǎn)業(yè)發(fā)展航線上的那座巨型冰山，已經(jīng)開(kāi)始出現(xiàn)了裂縫。最近的資本市場(chǎng)，在華為產(chǎn)業(yè)鏈帶動(dòng)下，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)概念又被重新市場(chǎng)關(guān)注。光刻機(jī)，被譽(yù)為是目前人類制造出的“最精密的儀器”，也是芯片半導(dǎo)體設(shè)備中最昂貴、最關(guān)鍵、國(guó)產(chǎn)化率最低的環(huán)節(jié)，全球光刻機(jī)市場(chǎng)長(zhǎng)期荷蘭ASML、日本佳能、尼康三大巨頭壟斷，而目前最先進(jìn)的具有波長(zhǎng)為13.5nm 的極紫外光刻系統(tǒng)的EUV
英才 2023年6期2024-01-10
- 別把刻蝕機(jī)和光刻機(jī)混為一談
分布圖刻蝕機(jī)和光刻機(jī)大不同在 5G、AIoT 等新興技術(shù)合力推動(dòng)下，產(chǎn)業(yè)智能化進(jìn)程加速，下游應(yīng)用市場(chǎng)需求迸發(fā)，拉動(dòng)著全球半導(dǎo)體需求放量上漲，反向驅(qū)動(dòng)上游半導(dǎo)體制造設(shè)備需求和技術(shù)更迭。據(jù)方正證券報(bào)告預(yù)計(jì)，全球晶圓制造設(shè)備（WFE）市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)到850 億美元量級(jí)。SEMI 預(yù)測(cè)2025 年全球刻蝕設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模將增長(zhǎng)至155 億美元（約合超1000 億元），CAGR 約為5%。在這樣的背景之下，網(wǎng)絡(luò)上出現(xiàn)一些內(nèi)容，報(bào)道中微發(fā)布了最新的EUV 光刻機(jī)，這是真的嗎
電腦報(bào) 2023年24期2023-06-28
- 基于文獻(xiàn)計(jì)量的全球光刻機(jī)領(lǐng)域發(fā)展態(tài)勢(shì)研究
，楊夢(mèng)雨，王茜光刻機(jī)又名掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)、曝光系統(tǒng)、光刻系統(tǒng)等，是大規(guī)模半導(dǎo)體制造的核心設(shè)備，它的精度決定了芯片制程的精度，被譽(yù)為半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠。全球高精度半導(dǎo)體用光刻機(jī)主要來(lái)自荷蘭的ASML以及日本的Nikon和Canon這三家公司，而最頂級(jí)的EUV光刻機(jī)僅有ASML公司能夠生產(chǎn)，最高能支持2nm芯片的制造，而我國(guó)光刻機(jī)領(lǐng)域最為領(lǐng)先的上海微電子裝備公司目前僅能生產(chǎn)90nm工藝制程的光刻機(jī)。我國(guó)在光刻機(jī)領(lǐng)域與國(guó)外存在較大差距，因此，對(duì)于光刻機(jī)領(lǐng)域的全
華東科技 2022年12期2023-01-10
- 向中國(guó)出口光刻機(jī) 荷蘭阿斯麥力抗美國(guó)
出口禁令影響，光刻機(jī)巨頭荷蘭阿斯麥（ASML）第三季度訂單減少，在阿姆斯特丹證交所的股價(jià)近期大跌。彭博社稱，華盛頓近日公布多項(xiàng)芯片禁令，限制向中國(guó)出售先進(jìn)半導(dǎo)體和芯片制造設(shè)備，禁止美國(guó)人幫助中國(guó)發(fā)展芯片技術(shù)，并試圖拉攏包括ASML在內(nèi)的歐洲企業(yè)共同制裁中國(guó)。美國(guó)CNBC網(wǎng)站透露，美國(guó)正在游說(shuō)荷蘭刻政府 止ASML機(jī)禁對(duì)華出售一些舊款光，但該公司始終沒(méi)有同意這一要求。面對(duì)美國(guó)的無(wú)理施壓，ASML為何有底氣向華盛質(zhì)說(shuō)不？阿斯麥的分量美國(guó)商務(wù)部負(fù)責(zé)出口管制的工業(yè)
環(huán)球時(shí)報(bào) 2022-10-312022-10-31
- ASML全新光刻機(jī)準(zhǔn)備中：沖擊2nm工藝
芯片廠商而言，光刻機(jī)顯得至關(guān)重要，而ASML也在積極布局新的技術(shù)。截至 2022 年第一季度，ASML已出貨136個(gè)EUV系統(tǒng)，約7000萬(wàn)個(gè)晶圓已曝光。按照官方的說(shuō)法，新型號(hào)的EUV光刻機(jī)系統(tǒng) NXE：3600D將能達(dá)到93%的可用性，這將讓其進(jìn)一步接近DUV光刻機(jī)（95%的可用性）。數(shù)據(jù)顯示，NXE：3600D系統(tǒng)每小時(shí)可生產(chǎn)160個(gè)晶圓 （wph），速度為30mJ/cm，這比 NXE：3400C高18%。正在開(kāi)發(fā)的 NXE：3800E系統(tǒng)最初將以30
電腦報(bào) 2022年26期2022-07-12
- 中國(guó)技術(shù)生態(tài)鏈在美重壓下快速形成
要求荃球最大的光刻機(jī)生產(chǎn)企業(yè)阿斯麥公司(ASML）禁止向申國(guó)出售深紫外線光刻機(jī)(DUV),從而把對(duì)中國(guó)光刻機(jī)的禁售范圍從先進(jìn)制程的極紫外線光刻機(jī)(EUV)擴(kuò)大到普遍使用的DUV,目的就是全力遏制正在崛起的中國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)。短期而言，一旦ASML真的作出禁售決定，將對(duì)中國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)發(fā)展產(chǎn)生一定阻礙。今天先進(jìn)制程5nm、3nm的芯片生產(chǎn)需要EUV，這樣才能進(jìn)行大規(guī)模先進(jìn)制程芯片的生產(chǎn)，以往美國(guó)也把EUV作為主要限制對(duì)象。但是在日常生活中，大部分產(chǎn)品需要的不是7nm以
環(huán)球時(shí)報(bào) 2022-07-082022-07-08
- 今天能否像研制“兩彈一星”那樣攻克光刻機(jī)？
訂購(gòu)一款極紫外光刻機(jī)，之后因?yàn)槊婪阶钃隙豢傻?。這一“半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”的重要性由此凸顯。極紫外光刻機(jī)（EUV）能完成7納米以下先進(jìn)工藝的雕刻，荷蘭的阿斯麥公司是這一類型光刻機(jī)的全球獨(dú)家生產(chǎn)商。沒(méi)有先進(jìn)光刻機(jī)，就意味著華為先進(jìn)制程的手機(jī)芯片難以制造。而目前，國(guó)內(nèi)能量產(chǎn)的是90納米工藝節(jié)點(diǎn)的光刻機(jī)，較國(guó)外落后了數(shù)個(gè)技術(shù)代。整個(gè)芯片制造過(guò)程，可能需要數(shù)十次光刻，光刻工藝成本約為整個(gè)芯片制造工藝的30%，耗時(shí)占整個(gè)芯片生產(chǎn)環(huán)節(jié)的 40%～50%。光刻機(jī)是芯
中國(guó)新聞周刊 2022年20期2022-06-14
- Intel擴(kuò)建廠房安裝ASML下一代EUV光刻機(jī)
NA）EUV光刻機(jī)TWINSCAN EXE：5200 EUV創(chuàng)造必要條件。和服務(wù)Intel 3/4工藝的NXE 3000系列EUV光刻機(jī)相比，EXE 5200大了很多，突破了D1X原“天花板”?；氐?8A工藝制程，提速后最快可以在2024年第三季度登場(chǎng)。其實(shí)按照Intel之前多年“老實(shí)”的命名習(xí)慣，其對(duì)應(yīng)5nm+。外界傾向于認(rèn)為，18A對(duì)應(yīng)18埃米，也就是1.8nm，對(duì)標(biāo)的是臺(tái)積電2nm。今年開(kāi)始到2024年，Intel的制程迭代將會(huì)非常緊湊，下半年會(huì)有
電腦報(bào) 2022年15期2022-04-28
- 你知道嗎
面實(shí)現(xiàn)碳中和。光刻機(jī)提到芯片，大家都不陌生。電腦、手機(jī)和科幻電影中未來(lái)人工智能的大腦，其核心零件都是芯片。芯片上那些幾十納米的線條是用刀刻還是用手工做？都不是，它們是用光線刻出來(lái)的?？茖W(xué)家找到一種見(jiàn)光“易溶解”的特殊膠片，在芯片上涂上這種特殊膠片，拿一個(gè)圓圈光照上去，再經(jīng)過(guò)后續(xù)處理，這個(gè)芯片上就有了一個(gè)圓圈。光刻機(jī)就是用這種膠片刻圖形的。一種特定圖形如何打到膠片上？其原理與皮影戲一樣：一個(gè)剪紙被燈光一照，就映在幕布上;光刻機(jī)里做這樣的“剪紙”，拿光源一照，
初中生學(xué)習(xí)指導(dǎo)·提升版 2022年3期2022-03-19
- 國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)企業(yè)官宣年產(chǎn)150臺(tái)？從0到1的艱難破局路
國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)企業(yè)官宣年產(chǎn)150臺(tái)光刻機(jī)，聽(tīng)著有些像“天方夜譚”的事情卻是來(lái)自企業(yè)官方的消息。前不久，源卓微電子裝備有限公司舉辦了DiSS系列數(shù)字光刻機(jī)投產(chǎn)儀式，其將在湖南常德啟動(dòng)總投資2億元的生產(chǎn)線項(xiàng)目，主要投產(chǎn)自主研發(fā)的DiSS數(shù)字步進(jìn)掃描光刻機(jī)，2022年預(yù)計(jì)年產(chǎn)150臺(tái)設(shè)備。熟悉或者留心光刻機(jī)市場(chǎng)的小伙伴一定清楚，即便是ASML一年的產(chǎn)量也達(dá)不到150臺(tái)，可為何一家不甚知名的國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)企業(yè)能做到呢？冷靜下來(lái)仔細(xì)分析會(huì)發(fā)現(xiàn)，這150臺(tái)國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)總價(jià)值2億
電腦報(bào) 2022年5期2022-02-15
- 光刻機(jī)之王登峰之路
導(dǎo)體設(shè)備公司—光刻機(jī)設(shè)備制造商ASML（阿斯麥）。這家公司的成長(zhǎng)經(jīng)歷頗為傳奇，成立初期便遇上半導(dǎo)體低谷期，一臺(tái)設(shè)備都賣不出去，虧損近10年，一度徘徊在生死邊緣，在老東家飛利浦眼里食之無(wú)味，棄之可惜。但頑強(qiáng)的ASML最終挺了過(guò)來(lái)，逆襲成為當(dāng)下光刻機(jī)領(lǐng)域的絕對(duì)王者，目前在高端光刻機(jī)市場(chǎng)占據(jù)90%以上份額，成為現(xiàn)在EUV光刻機(jī)唯一的供應(yīng)商。本文將結(jié)合光刻機(jī)發(fā)展歷程，呈現(xiàn)如今38歲的ASML是如何一步步登峰的。芯片產(chǎn)業(yè)是信息時(shí)代的基石產(chǎn)業(yè)。有了更先進(jìn)的光刻機(jī)，人類
商界評(píng)論 2022年8期2022-02-10
- 全球缺芯影響幾何？
工藝一直受制于光刻機(jī)，全球光刻機(jī)制造巨頭阿斯麥中芯表示，中芯國(guó)際只能買DUV光刻機(jī)，而與極端紫外線光刻機(jī)（EUV）無(wú)關(guān)。當(dāng)下之際，阿斯麥獨(dú)家壟斷EUV光刻機(jī)，7nm以下的光刻機(jī)的芯片需要EUV光刻機(jī)。汽車所使用的芯片重視的是成熟度，并不是高精尖的7nm的芯片。當(dāng)前將中芯國(guó)際所擁有的14nm芯片制造工藝用于生產(chǎn)汽車芯片，并沒(méi)有多大的壓力，所以外界一般認(rèn)為在這一場(chǎng)汽車芯片緊缺中，中芯國(guó)際將會(huì)有很大的受益。從中美博弈的角度看，由于自己的經(jīng)濟(jì)利益受損美國(guó)已經(jīng)放開(kāi)了
福建輕紡 2021年3期2021-12-04
- 電子制造裝備領(lǐng)域及其行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)者專利分析
間。本文針對(duì)以光刻機(jī)、化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備、離子注入機(jī)及濕法設(shè)備為代表的電子制造裝備，依托Incopat專利數(shù)據(jù)庫(kù)開(kāi)展分析，包括電子制造裝備領(lǐng)域?qū)＠麘B(tài)勢(shì)、行業(yè)主要競(jìng)爭(zhēng)者分析，提出關(guān)于我國(guó)電子制造裝備領(lǐng)域的未來(lái)發(fā)展方向的建議。關(guān)鍵詞：電子制造裝備? 光刻機(jī)? 化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備? 離子注入機(jī)? 專利分析 競(jìng)爭(zhēng)者分析中圖分類號(hào)：F273 文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼：A 文章編號(hào)：1674-098X（2021）07（a）-0055-05Patent Analysis of Elect
科技創(chuàng)新導(dǎo)報(bào) 2021年19期2021-11-23
- 光刻巨人：ASML崛起之路
80年代，美國(guó)光刻機(jī)巨頭Perkin-Elmer和GCA在芯片光刻市場(chǎng)上遭到了日本競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手佳能和尼康的猛烈攻擊。結(jié)果，美國(guó)失去了對(duì)這項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)長(zhǎng)達(dá)20年的壟斷地位，而這正是摩爾定律背后的驅(qū)動(dòng)力。與此同時(shí)，一家默默無(wú)聞、無(wú)足輕重的光刻機(jī)小公司在荷蘭剛剛起步。這家公司就是ASML，它在今天獲得了無(wú)與倫比的成功。作為世界上很大和很賺錢的光刻機(jī)制造商，ASML取得了70%—80%的光刻市場(chǎng)份額，并多年來(lái)在光刻技術(shù)上一騎絕塵，將佳能和尼康遠(yuǎn)遠(yuǎn)甩在后面。在《光刻巨人：
華東科技 2021年11期2021-11-23
- 日本為何弄丟了高端光刻機(jī)市場(chǎng)
世紀(jì)初還占據(jù)了光刻機(jī)的大部分市場(chǎng)，而阿斯麥爾在1988年才正式獨(dú)立。歷史這么短的阿斯麥爾卻在2010年占到了80%的市場(chǎng)份額，把日本公司退逼到了17%。當(dāng)然，日本公司還沒(méi)被完全趕出市場(chǎng)，還在制造中低端光刻機(jī)。但光刻機(jī)行業(yè)的利潤(rùn)主要集中在兩種最先進(jìn)的機(jī)種上。之所以發(fā)生了這么大的逆轉(zhuǎn)并不是因?yàn)榘⑺果湢栒莆樟耸裁春诳萍迹窃陬櫩?、企業(yè)體制和企業(yè)文化等技術(shù)外因素上。2005～2010年，英特爾的進(jìn)貨量占尼康銷售額的半數(shù)以上，東芝占了20%，阿斯麥爾的顧客則依次為
領(lǐng)導(dǎo)文萃 2021年19期2021-11-05
- 布局光刻機(jī)到底需要補(bǔ)齊哪些短板？
，被認(rèn)為是布局光刻機(jī)的一步邁進(jìn);而諸如SMEE（上海微電子裝備）的進(jìn)度、整個(gè)光刻機(jī)領(lǐng)域目前存在的短板，也成為焦點(diǎn)中的焦點(diǎn)。“半導(dǎo)體皇冠上的明珠”在當(dāng)下，“光刻機(jī)”作為關(guān)鍵詞出現(xiàn)時(shí)，往往自帶各種前綴，比如“半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠”，再比如“卡住中國(guó)芯片脖子的關(guān)鍵”。這些修飾語(yǔ)無(wú)不展示了光刻機(jī)在芯片領(lǐng)域的地位之高，而因?yàn)轭^部效應(yīng)，占得先機(jī)的大佬對(duì)于后來(lái)者的壓制可以說(shuō)是壓倒性的。光刻機(jī)原文“Mask Aligner”，直譯為掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，在半導(dǎo)體生產(chǎn)中占據(jù)無(wú)可
新潮電子 2021年7期2021-08-14
- 日本為何弄丟了高端光刻機(jī)市場(chǎng)
還在制造中低端光刻機(jī)。但光刻機(jī)行業(yè)的利潤(rùn)主要集中在兩種最先進(jìn)的機(jī)種上。之所以發(fā)生了這么大的逆轉(zhuǎn)并不是因?yàn)榘⑺果湢栒莆樟耸裁春诳萍迹窃陬櫩?、企業(yè)體制和企業(yè)文化等技術(shù)外因素上。2005～2010年，英特爾的進(jìn)貨量占尼康銷售額的半數(shù)以上，東芝占了20%，阿斯麥爾的顧客則依次為三星、海力士和臺(tái)積電。尼康客戶主打復(fù)雜度高、需要在生產(chǎn)時(shí)進(jìn)行微調(diào)的微處理器這樣的專用產(chǎn)品，阿斯麥爾用戶則主打閃存這樣的更注重操作性和統(tǒng)一性的通用產(chǎn)品。尼康和阿斯麥爾采用的系統(tǒng)結(jié)構(gòu)也不同，
中國(guó)新聞周刊 2021年25期2021-07-21
- 戰(zhàn)略投入與制造業(yè)生態(tài)體系：ASML光刻機(jī)崛起的啟示
息產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)，光刻機(jī)是用來(lái)制造芯片的關(guān)鍵設(shè)備。近年來(lái)，中國(guó)的信息技術(shù)產(chǎn)業(yè)得到長(zhǎng)足發(fā)展，華為等公司已經(jīng)具備較強(qiáng)的芯片設(shè)計(jì)能力，但中國(guó)的制造業(yè)尚無(wú)法將芯片設(shè)計(jì)有效轉(zhuǎn)化為產(chǎn)品，其中的困難就包括缺乏光刻機(jī)等核心設(shè)備。目前，全球的高端光刻機(jī)幾乎被荷蘭ASML（阿斯麥）公司所壟斷。ASML光刻機(jī)的禁止出口，給中國(guó)的芯片生產(chǎn)造成了極大的障礙。為了解決“卡脖子”問(wèn)題，中國(guó)工業(yè)必須攻克光刻機(jī)等關(guān)鍵設(shè)備的制造，而ASML本身的崛起歷程，仍是一場(chǎng)典型的制造業(yè)“工匠革命”，提供了
中國(guó)信息化 2021年4期2021-05-07
- EUV光刻機(jī)：在微妙之間競(jìng)賽
導(dǎo)體巨頭、全球光刻機(jī)領(lǐng)頭企業(yè)阿斯麥（ASML）首席財(cái)務(wù)官羅杰·達(dá)森對(duì)向中國(guó)出口光刻機(jī)的問(wèn)題作出了表態(tài)。他表示，阿斯麥可以從荷蘭向中國(guó)出口DUV（深紫外）光刻機(jī)，無(wú)需美國(guó)許可。但講話并未提到更先進(jìn)的EUV（極紫外）光刻機(jī)。芯片競(jìng)賽的火熱，帶著背后低調(diào)的光刻機(jī)也頻頻出圏。小小的芯片，不過(guò)拇指蓋大小，卻能在幾十平方毫米的空間里，運(yùn)行幾十億個(gè)晶體管。其中之精妙，令人驚嘆。在芯片制造中，光刻機(jī)是無(wú)法繞開(kāi)的核心設(shè)備。我們可以將光刻機(jī)理解成一個(gè)成像設(shè)備，它將光源照射到設(shè)
風(fēng)流一代·經(jīng)典文摘 2021年4期2021-04-23
- 芯片荒令半導(dǎo)體制造商利潤(rùn)大增
時(shí)，全球最大的光刻機(jī)制造商阿斯麥（ASML）發(fā)布的最新財(cái)報(bào)顯示，該公司2021年第一季度的利潤(rùn)大漲近八成。財(cái)報(bào)顯示，阿斯麥一季度營(yíng)收43.64億歐元，去年同期為24.41億歐元，同比增長(zhǎng)79%。當(dāng)季凈利潤(rùn)13.31億歐元，是去年同期的三倍多。阿斯麥第一季度售出73臺(tái)新光刻機(jī)系統(tǒng)，訂單金額為47億歐元。阿斯麥總裁兼首席執(zhí)行官彼得·溫寧克表示，主要原因是當(dāng)前全球芯片短缺導(dǎo)致客戶需求不斷擴(kuò)大?！昂腿齻€(gè)月前相比，我們發(fā)現(xiàn)所有細(xì)分市場(chǎng)和產(chǎn)品組合的需求都顯著增加，預(yù)計(jì)
環(huán)球時(shí)報(bào) 2021-04-222021-04-22
- 成功的前夜總是漆黑和漫長(zhǎng)的
許多人初次聽(tīng)說(shuō)光刻機(jī)，是從華為、中興、?？低暤葒?guó)內(nèi)科技龍頭企業(yè)遭遇川普政府“絕命鎖喉拳”開(kāi)始的。也是自那時(shí)起，腦補(bǔ)“阿斯麥”——一家與光刻機(jī)有關(guān)的荷蘭企業(yè)的相關(guān)信息在最近幾年尉成風(fēng)氣。本書(shū)作者瑞尼·雷吉梅克是名科技記者。從2003年第一次采訪阿斯麥員工起，瑞尼花了整整7年的時(shí)間寫(xiě)這本書(shū)，僅采訪錄音就積累了300小時(shí)。這是一本描述科技企業(yè)的創(chuàng)業(yè)創(chuàng)新史，雖然光刻知識(shí)的專業(yè)門檻甚高，但奮斗的故事是相通的。透過(guò)本書(shū)，讀者能夠真切感受到光刻機(jī)市場(chǎng)的波譎云詭：阿斯麥
產(chǎn)權(quán)導(dǎo)刊 2021年3期2021-04-20
- 2021年了國(guó)產(chǎn)芯片制造還難嗎？
不開(kāi)的關(guān)鍵設(shè)備光刻機(jī)，我國(guó)同樣是在1979年成功研發(fā)了國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)JKG-2。但是依靠逆向工程和有限研發(fā)，很難形成有規(guī)模的產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)。到了20世紀(jì)80年代，產(chǎn)量持續(xù)低迷、內(nèi)需不高，都讓我國(guó)的芯片制造迭代升級(jí)不足。進(jìn)入20世紀(jì)90年代，中國(guó)的計(jì)算機(jī)企業(yè)雖然已經(jīng)形成了一定數(shù)量規(guī)模，但多數(shù)還是以銷售、服務(wù)為主，真正擁有硬件生產(chǎn)能力的企業(yè)還不到5%。顯然在電子行業(yè)中，我國(guó)在過(guò)去幾十年里，并沒(méi)有意識(shí)到芯片制造的重要性。盡管有了龐大的市場(chǎng)規(guī)模，以及逐漸成熟的商業(yè)機(jī)制，但我
微型計(jì)算機(jī)·Geek 2021年3期2021-04-18
- 中國(guó)芯：道阻且長(zhǎng)，行則將至
言，“器”就是光刻機(jī)。時(shí)下，全球能夠生產(chǎn)高端光刻機(jī)的，唯有荷蘭阿斯麥獨(dú)占鰲頭。EUV光刻機(jī)一臺(tái)報(bào)價(jià)高達(dá)10億美元！還因國(guó)家而異，商賈選邊下菜碟，不賣給你想要的貨。世人皆知，當(dāng)今世界沒(méi)有任何一個(gè)國(guó)家可以獨(dú)立制造芯片，芯片產(chǎn)業(yè)是各國(guó)先進(jìn)技術(shù)集智集優(yōu)的結(jié)晶。即使美國(guó)在芯片業(yè)占主導(dǎo)地位，也無(wú)法獨(dú)立造出。在芯片生產(chǎn)中，光刻機(jī)必不可少。盡管目前荷蘭阿斯麥（ASML）是世界上唯一有能力生產(chǎn)高端紫外光刻機(jī)的公司，但在其17家核心供應(yīng)商中，一半源自美國(guó)，其余為德國(guó)、瑞典、法
中關(guān)村 2021年2期2021-03-15
- 解密光刻機(jī)巨頭ASML的崛起之路
L不僅將昔日的光刻機(jī)大國(guó)美國(guó)、日本拉下神壇，還壟斷了全球7nm及以下工藝的EUV光刻機(jī)技術(shù)。ASML如何實(shí)現(xiàn)一路反超？為何如今只有它擁有先進(jìn)的光刻機(jī)技術(shù)？ ASML的成功能否被復(fù)制？荷蘭Techwatch媒體公司CEO、荷蘭高科技學(xué)院董事總經(jīng)理瑞尼·雷吉梅克歷經(jīng)7年采訪整理出的《光刻巨人：ASML的崛起之路》一書(shū)，揭開(kāi)了ASML秘密的一角。在接受《中國(guó)經(jīng)濟(jì)周刊》記者采訪時(shí)，雷吉梅克表示，中國(guó)可能需要很長(zhǎng)時(shí)間才能制造出晶圓步進(jìn)器。但中國(guó)擁有足夠的資金和知識(shí)儲(chǔ)
中國(guó)經(jīng)濟(jì)周刊 2021年4期2021-03-09
- 雷吉梅克：如果沒(méi)有限制，中國(guó)肯定能在5至10年內(nèi)完成追趕
代EUV或芯片光刻機(jī)?！吨袊?guó)經(jīng)濟(jì)周刊》：ASML在世界各地都有供應(yīng)商，甚至有人認(rèn)為ASML所做的只是集成各種設(shè)備。您認(rèn)為，使ASML成為全球領(lǐng)導(dǎo)者的核心競(jìng)爭(zhēng)力是什么？在其與世界各地供應(yīng)商合作的背景下，為什么其他公司不能生產(chǎn)先進(jìn)的光刻機(jī)？雷吉梅克：ASML“只是集成各種設(shè)備”是一個(gè)謬論。ASML最初只是一家小公司，除了外包生產(chǎn)（如精密零件和鏡片）和購(gòu)買標(biāo)準(zhǔn)零件（如激光器、傳感器等）外，別無(wú)選擇。它的核心競(jìng)爭(zhēng)力是其發(fā)明、設(shè)計(jì)和生產(chǎn)非常復(fù)雜的系統(tǒng)的能力。集成所有
中國(guó)經(jīng)濟(jì)周刊 2021年4期2021-03-09
- 芯片制造為什么難
。芯片制造，“光刻機(jī)”是繞不開(kāi)的終極神器。可以說(shuō)，沒(méi)有光刻機(jī)就沒(méi)有芯片。若干年來(lái)，依賴無(wú)數(shù)人才的奮力追趕，中國(guó)的芯片設(shè)計(jì)和制作工藝，發(fā)展得并不慢。芯片之難，實(shí)則難于芯片制造。制造光刻機(jī)有多難？因?yàn)榫戎?，所以要以“光”為刀進(jìn)行雕刻，目前的7nm（納米）精度，相當(dāng)于把一根頭發(fā)絲劈成幾萬(wàn)份。有資料顯示，1臺(tái)光刻機(jī)包含13個(gè)分系統(tǒng)，3萬(wàn)個(gè)機(jī)械件，200多個(gè)傳感器。光源產(chǎn)生極紫外光EUV的難度相當(dāng)于在颶風(fēng)中心，以每秒5萬(wàn)次的頻率用乒乓球擊中同一只蒼蠅兩次。光刻機(jī)
意林 2021年1期2021-02-08
- 光刻機(jī) 信息時(shí)代的制造之王
一層均需要使用光刻機(jī)進(jìn)行圖形轉(zhuǎn)移套刻曝光，以便形成原始圖形。其中，第一層需要將掩模版圖形與基片外形對(duì)準(zhǔn)曝光，其后的各塊掩模版需要與基片上前面已完成的圖形或結(jié)構(gòu)對(duì)準(zhǔn)套刻曝光。此外，每一層所需要的掩模版也是由光刻機(jī)制造的，所以，光刻機(jī)是芯片制造的母機(jī)。也可以說(shuō)，光刻機(jī)是信息時(shí)代的制造母機(jī)，對(duì)芯片制造具有極大的影響。芯片前道工藝不僅需要光刻機(jī)，還需要?jiǎng)蚰z機(jī)、烘烤設(shè)備、清洗設(shè)備、薄膜設(shè)備（PVD、CVD、EVD、PECVD、MOCVD等）、刻蝕設(shè)備（反應(yīng)離子刻蝕、
百科知識(shí) 2020年22期2020-12-04
- 光刻機(jī)機(jī)箱EMC電磁兼容解決方案
廣領(lǐng)摘? 要：光刻機(jī)是一種高度精密、高度集成，包含很多電力電子器件的設(shè)備。其主要控制器件幾乎全部集成在各種機(jī)箱里。因?yàn)楦鞣N元器件安裝密集度很高，導(dǎo)致各種電力電子器件之間的電磁干擾問(wèn)題越來(lái)越突出，嚴(yán)重影響光刻機(jī)整臺(tái)設(shè)備的性能和MTBF指標(biāo)。因此，光刻機(jī)的機(jī)箱必須具有較高水平的電磁兼容能力，才能保證整臺(tái)設(shè)備的EMC性能，所以解決光刻機(jī)各種機(jī)箱電磁兼容性是刻不容緩的一個(gè)課題。關(guān)鍵詞：光刻機(jī);EMC;EMI;屏蔽;濾波;接地中圖分類號(hào)：TN03? ? ? ? 文獻(xiàn)
科技創(chuàng)新與應(yīng)用 2020年33期2020-11-23
- 光刻機(jī)巔峰對(duì)決
，在摘取EUV光刻機(jī)這顆寶石的道路上狂奔。而一代霸主尼康，自此徹底零落在光刻機(jī)制造史的塵埃之中。在芯片領(lǐng)域，有一種叫光刻機(jī)的設(shè)備，不是印鈔機(jī)，卻比印鈔機(jī)還金貴。歷數(shù)全球，也只有荷蘭一家叫做阿斯麥（ASML）的公司集全球高端制造業(yè)之大成，一年時(shí)間造得出二十臺(tái)高端設(shè)備，臺(tái)積電與三星每年搶破了頭，中芯國(guó)際足足等了三年，也沒(méi)能將首臺(tái)EUV光刻機(jī)迎娶進(jìn)門。其實(shí)，早在上世紀(jì)80年代，阿斯麥還只是飛利浦旗下的一家合資小公司。全司上下算上老板共31位員工，只能擠在飛利浦總
中國(guó)工業(yè)和信息化 2020年7期2020-11-09
- 中國(guó)光刻機(jī)崛起之路
李瑤什么是光刻機(jī)簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，光刻機(jī)就是以光作為刀片，在晶圓上刻畫(huà)芯片圖紙的機(jī)器，是芯片生產(chǎn)加工最基礎(chǔ)也最關(guān)鍵的一環(huán)。中國(guó)光刻機(jī)崛起的故事，則要回到20年前。2001年2月27日，中科院院士、北京大學(xué)微電子研究院院長(zhǎng)王陽(yáng)元作了一場(chǎng)關(guān)于“微電子科學(xué)技術(shù)和集成電路產(chǎn)業(yè)”的報(bào)告，分析我國(guó)發(fā)展微電子和集成電路產(chǎn)業(yè)的必要性、緊迫性、措施和建議。當(dāng)時(shí)主持會(huì)議的國(guó)務(wù)院領(lǐng)導(dǎo)在聽(tīng)取報(bào)告后，隨即提出：集成電路是電子產(chǎn)品的“心臟”，是信息產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)，必須高度重視。很快，光刻機(jī)成為“
華聲文萃 2020年10期2020-10-21
- 光刻機(jī)工件臺(tái)定位平臺(tái)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)
錦凱摘要：針對(duì)光刻機(jī)工件臺(tái)易受到微小震動(dòng)而引起圖像偏差的問(wèn)題，對(duì)工件臺(tái)定位平臺(tái)的結(jié)構(gòu)進(jìn)行了優(yōu)化設(shè)計(jì)，同時(shí)改進(jìn)了工作臺(tái)的調(diào)節(jié)方式，對(duì)今后光刻機(jī)工件臺(tái)的研究與改進(jìn)具有良好的借鑒意義。關(guān)鍵詞：光刻機(jī);定位臺(tái);三軸聯(lián)動(dòng)0 引言本文針對(duì)光刻機(jī)自動(dòng)修改定位存在誤差的問(wèn)題，以光刻機(jī)工件臺(tái)定位平臺(tái)為研究對(duì)象，以接觸式光刻理論、1：1全反射投影光刻技術(shù)、反射投影技術(shù)、電子光刻技術(shù)等作為理論與技術(shù)支撐，在此基礎(chǔ)上完成了光刻機(jī)工件臺(tái)定位平臺(tái)的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)。結(jié)合測(cè)量反饋系統(tǒng)，本設(shè)計(jì)主
機(jī)電信息 2020年8期2020-10-21
- 光刻機(jī)打破ASML壟斷還要多久？
者得天下”，而光刻機(jī)對(duì)芯片制造工藝的進(jìn)步至關(guān)重要。光刻機(jī)被譽(yù)為半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠，其研發(fā)成本和制造難度巨大，高端的EUV光刻機(jī)更是光刻機(jī)中技術(shù)含量最高的設(shè)備。目前，全世界只有ASML（阿斯麥）一家廠商可生產(chǎn)EUV光刻機(jī)，EUV光刻機(jī)全球出貨量已達(dá)57臺(tái)。這種一家獨(dú)大的情況是否正常？其他廠商距離打破ASML高端光刻機(jī)的市場(chǎng)壟斷還有多遠(yuǎn)的路要走？ASML在高端光刻機(jī)市場(chǎng)“一家獨(dú)大”目前市場(chǎng)上主流的半導(dǎo)體光刻機(jī)供應(yīng)商有荷蘭的ASML、日本的Nikon（尼康）
中國(guó)電子報(bào) 2020年56期2020-09-13
- 中國(guó)光刻機(jī)崛起之路
性工具——國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)，也被成功推上了科技圈的熱搜榜。什么是光刻機(jī)簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，光刻機(jī)就是以光作為刀片，在晶圓上刻畫(huà)芯片圖紙的機(jī)器，是芯片生產(chǎn)加工最基礎(chǔ)也最關(guān)鍵的一環(huán)。中國(guó)光刻機(jī)崛起的故事，則要回到20年前。2001年2月27日，中科院院士、北京大學(xué)微電子研究院院長(zhǎng)王陽(yáng)元作了一場(chǎng)關(guān)于“微電子科學(xué)技術(shù)和集成電路產(chǎn)業(yè)”的報(bào)告，分析我國(guó)發(fā)展微電子和集成電路產(chǎn)業(yè)的必要性、緊迫性、措施和建議。當(dāng)時(shí)主持會(huì)議的國(guó)務(wù)院領(lǐng)導(dǎo)在聽(tīng)取報(bào)告后，隨即提出：集成電路是電子產(chǎn)品的“心臟”，是
文萃報(bào)·周五版 2020年31期2020-08-19
- 核桃上雕船不稀奇頭發(fā)絲上能刻一個(gè)足球場(chǎng)!
光刻機(jī)，顧名思義，以光為媒，刻化微納于方寸之間。利用光刻手段能刻畫(huà)出頭發(fā)絲直徑1/5000的線條。古代人類通過(guò)手工方式在核桃上雕刻出一葉扁舟已屬精妙絕倫，而利用信息時(shí)代的制造工具光刻機(jī)，我們能夠在一根頭發(fā)絲上刻畫(huà)出一座足球場(chǎng)。光刻機(jī)這種“高精尖”的設(shè)備是不是曲高和寡，和我們離得很遙遠(yuǎn)了？其實(shí)不然，光刻機(jī)與我們生活息息相關(guān)，已經(jīng)滲入我們生活的方方面面。我們用的電腦、電視顯示屏之所以能夠顯示出色彩斑斕的各種圖形，得益于光刻機(jī)在面板上加工的一個(gè)個(gè)像素圖形;家用L
學(xué)生導(dǎo)報(bào)·東方少年 2020年5期2020-07-16
- 芯片之源
心設(shè)備之一——光刻機(jī)，也許你能從中窺斑見(jiàn)豹。還記得小時(shí)候我們?cè)?jīng)愛(ài)不釋手的激光筆玩具嗎？那時(shí)候?yàn)榱艘恢膬x已久的激光筆，放學(xué)后可能要瞞著爸爸媽媽，偷偷摸摸地在學(xué)校附近的文具店里挑來(lái)挑去，最終將其藏在書(shū)包里層的口袋里，趁爸爸媽媽睡著的時(shí)候，悄悄地掏出來(lái)對(duì)著關(guān)了燈的小臥室的墻壁，展示著一個(gè)個(gè)光罩所變幻出的炫目圖案！現(xiàn)在我們可以從簡(jiǎn)單的激光筆玩具開(kāi)始，認(rèn)識(shí)一下時(shí)下風(fēng)頭正勁的光刻機(jī)這種高大上的設(shè)備。光刻機(jī)又叫掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)、曝光系統(tǒng)、光刻系統(tǒng)等，光刻的意思是用光來(lái)
第二課堂(初中版) 2019年11期2019-12-09
- 你愿意成為世界頂級(jí)光刻機(jī)的制造者嗎？
時(shí)下風(fēng)頭正勁的光刻機(jī)。光刻機(jī)發(fā)出的光通過(guò)具有圖形的光罩后，不是像我們的激光筆玩具那樣照射到地面或者墻壁上顯示出各種圖案，而是對(duì)涂有一種對(duì)光線高度敏感的光刻膠的薄片曝光，光刻膠見(jiàn)光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化，將光罩上的圖形復(fù)印到薄片上?？雌饋?lái)光刻機(jī)的作用，類似照相機(jī)照相。照相機(jī)拍攝的照片是印在底片上，而光刻機(jī)刻的不是照片，是大規(guī)模集成電路的電路圖。光刻機(jī)的原理看似簡(jiǎn)單，但實(shí)現(xiàn)起來(lái)非常困難。就拿光刻機(jī)的反射鏡來(lái)說(shuō)，它的制造工藝就是一個(gè)難以攀登的高峰。它的誤差大小僅能以皮
高中生之友(中旬刊) 2019年9期2019-10-23
- 7nm+EUV工藝大規(guī)模量產(chǎn)EUV光刻機(jī)能否走出一波行情
三代工藝EUV光刻機(jī)在5nm及以下工藝具有不可替代性，在未來(lái)較長(zhǎng)時(shí)間內(nèi)應(yīng)用EUV技術(shù)都將成為實(shí)現(xiàn)摩爾定律發(fā)展的重要方向。光刻是集成電路生產(chǎn)過(guò)程中最復(fù)雜、難度最大也是最為關(guān)鍵的工藝，它對(duì)芯片的工藝制程起著決定性作用。193nm浸沒(méi)式光刻技術(shù)自2004年年底由臺(tái)積電和IBM公司應(yīng)用以來(lái)，從90hm節(jié)點(diǎn)一直延伸到10nm節(jié)點(diǎn)，經(jīng)歷了12年時(shí)間，是目前主流的光刻工藝。但是進(jìn)入7nm工藝后，它的制約也越來(lái)越明顯，因此EUV工藝堂而皇之走上舞臺(tái)。全球E13V光刻技術(shù)的
中國(guó)電子報(bào) 2019年72期2019-09-26
- “半導(dǎo)體制造業(yè)皇冠上的明珠”——光刻機(jī)
及很多設(shè)備，而光刻機(jī)是核心設(shè)備之一。光刻機(jī)將光束透射過(guò)畫(huà)著電路圖的掩模，經(jīng)物鏡糾正各種光學(xué)誤差，將電路圖成比例縮小后映射到硅片上，然后通過(guò)化學(xué)方法顯影，得到刻在硅片上的電路圖。小杰最近學(xué)習(xí)很用功?。∫?yàn)槲易隽艘粋€(gè)重要的決定。什么決定呀？我要好好學(xué)習(xí)，以后為中國(guó)的科技進(jìn)步貢獻(xiàn)力量！真棒，我為你點(diǎn)贊！你知道嗎1.把小到幾十納米乃至幾納米的電路圖刻到幾平方厘米的硅片上需要超精密的儀器，其中最重要的是光刻機(jī)和刻蝕機(jī)。2.光刻機(jī)是制造芯片第一步需要的設(shè)備，刻蝕機(jī)是第
少兒科技 2019年10期2019-09-10
- 工欲善其事 必先利其器
必先利其器”。光刻機(jī)的故事從產(chǎn)業(yè)鏈來(lái)看，芯片生產(chǎn)主要分為設(shè)計(jì)、制造、封測(cè)三大環(huán)節(jié)。 制造工藝包括光刻、刻蝕、離子注入、薄膜沉積、化學(xué)機(jī)械研磨等。在芯片制造流程中，光刻是最復(fù)雜、最關(guān)鍵的工藝步驟，耗時(shí)長(zhǎng)、成本高。芯片制造的難點(diǎn)和關(guān)鍵點(diǎn)在于將電路圖從掩模上轉(zhuǎn)移至硅片上，這一過(guò)程是通過(guò)光刻來(lái)實(shí)現(xiàn)的， 光刻的工藝水平直接決定芯片的制程水平和性能水平。據(jù)專家介紹，芯片在生產(chǎn)中需要進(jìn)行 20次?30 次的光刻，耗時(shí)占到集成電路制造環(huán)節(jié)的 50%左右，占芯片生產(chǎn)成本的
中國(guó)新時(shí)代 2019年3期2019-07-08
- 全球光刻機(jī)發(fā)展概況以及光刻機(jī)裝備國(guó)產(chǎn)化
201620）光刻機(jī)，被譽(yù)為人類20世紀(jì)的發(fā)明奇跡之一，是集成電路產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠，研發(fā)的技術(shù)門檻和資金門檻非常高。光刻機(jī)是一種夸張類型的單反相機(jī)，將該層次光掩膜版上的事實(shí)圖形縮小幾百萬(wàn)倍，并實(shí)際制造出來(lái)。最核心的是鏡頭，這個(gè)不是一般的鏡頭，可以達(dá)到高2 m、直徑1 m，甚至更大。光刻機(jī)是集成電路制造中最龐大、最精密復(fù)雜、難度最大、價(jià)格最昂貴的設(shè)備。光刻機(jī)就是將光掩膜版上的設(shè)計(jì)好的集成電路圖形（宏觀）通過(guò)光線的曝光印制到硅襯底的光感材料（微觀）上，實(shí)現(xiàn)圖形
無(wú)線互聯(lián)科技 2018年19期2018-10-25
- 科技芯痛
面的，如芯片、光刻機(jī)、光刻膠等。眾所周知，芯片研發(fā)周期長(zhǎng)，而生命周期短，起步晚的話，研發(fā)速度可能連摩爾定律都跟不上。芯片的制造更是涉及到設(shè)計(jì)和生產(chǎn)兩個(gè)環(huán)節(jié)，生產(chǎn)環(huán)節(jié)還有晶圓和光刻機(jī)等諸多因素。上世紀(jì)90年代，國(guó)內(nèi)曾投入數(shù)十億元打造新的半導(dǎo)體制造線，這些“晶圓廠”耗時(shí)兩年建造，結(jié)果剛建成就過(guò)時(shí)了。而光刻機(jī)更是不容小覷，這一芯片制造中的核心精密設(shè)備的科技含量可以與航空發(fā)動(dòng)機(jī)并列，代表了科技發(fā)展的頂級(jí)水平，甚至被譽(yù)為集成電路產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠。光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)目前處于高
中國(guó)信息技術(shù)教育 2018年17期2018-09-28
- 精密事業(yè)
最大障礙就是以光刻機(jī)為代表的集成電路制造的高端裝備。光刻機(jī)，這個(gè)被周光召先生譽(yù)為新時(shí)代“兩彈一星”的“神器”，以其極高的精度被業(yè)界看作是微細(xì)加工的“珠穆朗瑪”，是實(shí)現(xiàn)《中國(guó)制造2025》計(jì)劃“新一代信息技術(shù)產(chǎn)業(yè)”這一重點(diǎn)領(lǐng)域突破的大國(guó)重器。光刻機(jī)中最關(guān)鍵的兩個(gè)子系統(tǒng)是超精密曝光光學(xué)系統(tǒng)和超精密工件臺(tái)系統(tǒng)，它們分別代表了超精密光學(xué)和超精密機(jī)械的技術(shù)最高峰。光刻機(jī)的研制能力，不僅反映出一個(gè)國(guó)家的科技實(shí)力，也代表了一個(gè)國(guó)家的精密制造水平。國(guó)外業(yè)界曾認(rèn)為，中國(guó)人現(xiàn)
科學(xué)中國(guó)人 2017年6期2017-07-31
- 磨砥刻厲，擎“皇冠明珠”國(guó)產(chǎn)化大旗
的高端設(shè)備——光刻機(jī)。為保障這批設(shè)備的運(yùn)輸，英特爾公司動(dòng)用了6架包機(jī)，貨運(yùn)公司調(diào)用了6臺(tái)減震車和數(shù)控溫床，操作時(shí)的小心謹(jǐn)慎不亞于對(duì)待一級(jí)文物。你或許要問(wèn)，光刻機(jī)是何方神物竟要如此“厚待”？這要從第一只晶體管說(shuō)起……1947年，世界上第一只晶體管在貝爾實(shí)驗(yàn)室誕生，人類自此進(jìn)入電子時(shí)代。此后，芯片被喻為這個(gè)信息時(shí)代的“發(fā)動(dòng)機(jī)”，而光刻機(jī)就是制造“發(fā)動(dòng)機(jī)”最核心的裝備，每顆芯片的誕生，都要經(jīng)過(guò)光刻技術(shù)的精雕細(xì)琢。光刻機(jī)的用途非常廣泛，除了有用于芯片封裝的后道光刻
科技創(chuàng)新與品牌 2017年2期2017-03-24
- 上海微電子：“智”造中國(guó)芯
中國(guó)芯宋 杰在光刻機(jī)領(lǐng)域，上海微電子裝備有限公司不僅在先進(jìn)封裝光刻機(jī)產(chǎn)品方面形成了系列化和量產(chǎn)化，而且還實(shí)現(xiàn)了光刻機(jī)海外市場(chǎng)的銷售突破隨著信息產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，集成電路（也就是常說(shuō)的“芯片”）成為手機(jī)、平板電腦等電子移動(dòng)終端離不開(kāi)的設(shè)備，而光刻機(jī)是半導(dǎo)體芯片制造業(yè)中的最核心設(shè)備。以光刻機(jī)為代表的高端半導(dǎo)體裝備支撐著集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展，芯片越做越小，集成的電路越來(lái)越多，能使終端變得小巧玲瓏。在光刻機(jī)領(lǐng)域，上海微電子裝備有限公司（簡(jiǎn)稱“SMEE”）取得了重要突破，并在
中國(guó)品牌 2016年4期2016-08-19
- 基于分?jǐn)?shù)階PID及內(nèi)模原理的長(zhǎng)行程直線電機(jī)控制系統(tǒng)設(shè)計(jì)
直線電機(jī)驅(qū)動(dòng)的光刻機(jī)掩模臺(tái)宏動(dòng)臺(tái)進(jìn)行了仿真驗(yàn)證，驗(yàn)證了所提出的控制策略的有效性.關(guān)鍵詞：分?jǐn)?shù)階PID控制；內(nèi)模控制；控制系統(tǒng)設(shè)計(jì)；直線電機(jī)；光刻機(jī)長(zhǎng)行程直線電機(jī)由于其驅(qū)動(dòng)能力強(qiáng)、工作行程大的特點(diǎn)而被廣泛應(yīng)用于許多領(lǐng)域當(dāng)中，其控制策略的研究也成為了一個(gè)研究熱點(diǎn)[1-3].作為生產(chǎn)制造集成電路的最主要設(shè)備，光刻機(jī)是光、機(jī)、電一體化的尖端精密運(yùn)動(dòng)平臺(tái)的代表，其中光刻機(jī)掩模臺(tái)宏動(dòng)部分在直線電機(jī)的驅(qū)動(dòng)下實(shí)現(xiàn)承載硅片大行程運(yùn)動(dòng)，其精度要求需要達(dá)到微米級(jí).為了達(dá)到要求精
天津工業(yè)大學(xué)學(xué)報(bào) 2016年1期2016-04-05
- 我國(guó)有了光刻機(jī)核心技術(shù)
?我國(guó)有了光刻機(jī)核心技術(shù)對(duì)于普通人來(lái)說(shuō)，光刻機(jī)或許是一個(gè)陌生的名詞，但它卻是制造大規(guī)模集成電路的核心裝備，每顆芯片誕生之初，都要經(jīng)過(guò)光刻技術(shù)的鍛造。從清華大學(xué)獲悉，國(guó)家科技重大專項(xiàng)“光刻機(jī)雙工件臺(tái)系統(tǒng)樣機(jī)研發(fā)”通過(guò)驗(yàn)收，使我國(guó)成為少數(shù)能研制光刻機(jī)雙工件臺(tái)這一超精密機(jī)械與測(cè)控技術(shù)領(lǐng)域尖端系統(tǒng)的國(guó)家之一?！昂?jiǎn)單地說(shuō)，光刻機(jī)就是把工程師的設(shè)計(jì)‘印入’基底材料，其核心技術(shù)長(zhǎng)期被荷蘭、日本、德國(guó)等把持”?！扒擞?jì)劃”專家、從事密碼芯片研發(fā)的九州華興集成電路設(shè)計(jì)公司首
電子工業(yè)專用設(shè)備 2016年5期2016-03-12
- 《中國(guó)制造2025》設(shè)定集成電路設(shè)備國(guó)產(chǎn)化目標(biāo)
實(shí)現(xiàn)90 nm光刻機(jī)國(guó)產(chǎn)化，封測(cè)關(guān)鍵設(shè)備國(guó)產(chǎn)化率達(dá)到50%。在2025年之前，20～14 nm工藝設(shè)備國(guó)產(chǎn)化率達(dá)到30%，實(shí)現(xiàn)浸沒(méi)式光刻機(jī)國(guó)產(chǎn)化。到2030年，實(shí)現(xiàn)450 mm工藝設(shè)備、EUV光刻機(jī)、封測(cè)設(shè)備的國(guó)產(chǎn)化。從產(chǎn)業(yè)鏈各環(huán)節(jié)國(guó)產(chǎn)化的難度來(lái)看，設(shè)備＞制造＞封裝＞設(shè)計(jì)是不爭(zhēng)的事實(shí)。不過(guò)，近期國(guó)內(nèi)各地已刮起一陣大規(guī)模集成電路晶圓制造生產(chǎn)線的東風(fēng)。我國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備制造業(yè)要抓住這難得的契機(jī)，一舉實(shí)現(xiàn)《中國(guó)制造2025》的既定目標(biāo)。（來(lái)自：中國(guó)電子報(bào)）
電子工業(yè)專用設(shè)備 2016年8期2016-03-10
- 上海微電子“智”造中國(guó)芯
不開(kāi)的設(shè)備，而光刻機(jī)是半導(dǎo)體芯片制造業(yè)中的最核心設(shè)備。以光刻機(jī)為代表的高端半導(dǎo)體裝備支撐著集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展，芯片越做越小，集成的電路越來(lái)越多，能使終端變得小巧玲瓏。在光刻機(jī)領(lǐng)域，上海微電子裝備有限公司（下稱“SMEE”）取得了重要突破，并在先進(jìn)封裝光刻機(jī)產(chǎn)品方面形成了系列化和量產(chǎn)化，在國(guó)際同類產(chǎn)品中處于先進(jìn)水平，還實(shí)現(xiàn)了光刻機(jī)海外市場(chǎng)的銷售突破。SMEE也被列入國(guó)家發(fā)改委2016年1月底公布的國(guó)家認(rèn)定企業(yè)技術(shù)中心名單。在微觀世界里“造房子”近日，在浦東張江
中國(guó)經(jīng)濟(jì)周刊 2016年8期2016-03-02
- 光刻機(jī)雙面對(duì)準(zhǔn)精度測(cè)量系統(tǒng)
100176)光刻機(jī)雙面對(duì)準(zhǔn)精度測(cè)量系統(tǒng)李 霖，賈亞飛，張?jiān)迄i，楊建章(中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第四十五研究所，北京100176)雙面對(duì)準(zhǔn)精度是接觸接近式光刻機(jī)的關(guān)鍵性能指標(biāo)，介紹了一種檢測(cè)此項(xiàng)指標(biāo)的測(cè)量原理及應(yīng)用該原理研制的雙面對(duì)準(zhǔn)精度測(cè)量系統(tǒng)，并對(duì)設(shè)備的部件構(gòu)成及控制流程作了敘述。設(shè)備實(shí)際驗(yàn)證了檢測(cè)原理，對(duì)50、75、100及150 mm圓形基片均可適用。測(cè)試測(cè)量技術(shù)；光刻機(jī)；雙面對(duì)準(zhǔn)精度；雙面對(duì)準(zhǔn)精度測(cè)量系統(tǒng)接觸接近式光刻機(jī)主要用于功率電子器件、傳感器、
電子工業(yè)專用設(shè)備 2015年3期2015-07-18
- 光刻機(jī)工件臺(tái)宏微電機(jī)的非線性復(fù)合控制
150001)光刻機(jī)工件臺(tái)宏微電機(jī)的非線性復(fù)合控制孫永倩1，陳德運(yùn)1，劉川2(1.哈爾濱理工大學(xué) 計(jì)算機(jī)科學(xué)與技術(shù)學(xué)院，黑龍江 哈爾濱 150080; 2.哈爾濱工業(yè)大學(xué) 航天學(xué)院, 黑龍江 哈爾濱 150001)摘要：針對(duì)光刻機(jī)工件臺(tái)長(zhǎng)行程直線電機(jī)宏動(dòng)和平面電機(jī)高精密微動(dòng)的耦合運(yùn)動(dòng)特點(diǎn)，提出一種宏動(dòng)跟蹤微動(dòng)的變?cè)鲆娣蔷€性復(fù)合控制方法，實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)高動(dòng)態(tài)納米級(jí)精度的跟蹤定位。宏動(dòng)長(zhǎng)行程直線電機(jī)采用零相位跟蹤前饋控制和雙環(huán)控制，實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)無(wú)靜差跟蹤加速度指令；利用
哈爾濱工程大學(xué)學(xué)報(bào) 2015年12期2015-02-18
- 基于人機(jī)工程學(xué)的光刻機(jī)嵌入式控制面板界面設(shè)計(jì)
611731)光刻機(jī)是一種典型的微電子設(shè)備，集成了光、機(jī)、電、算等多個(gè)學(xué)科領(lǐng)域，主要應(yīng)用于集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件等的研發(fā)和制造［1］。光刻機(jī)控制面板所傳遞出的信息能否可靠地被使用者接受并被準(zhǔn)確地反饋，直接影響光刻機(jī)的工作效率和使用者操作的舒適性。隨著機(jī)械化、自動(dòng)化和電子化的高度發(fā)展，人的因素在生產(chǎn)中的影響越來(lái)越大［2］，設(shè)計(jì)師們也越來(lái)越重視人、機(jī)、環(huán)境三方的和諧統(tǒng)一，設(shè)計(jì)適應(yīng)光刻機(jī)使用者思維和行為方式且具有引導(dǎo)功能的光刻機(jī)控制面板顯得非常重要。
機(jī)械設(shè)計(jì)與制造工程 2014年1期2014-09-06
- 上海卓晶半導(dǎo)體科技有限公司
Nikon二手光刻機(jī)的翻新改造業(yè)務(wù)，擁有原廠的核心技術(shù)，技術(shù)能力涵蓋0.13～0.8μm的全系列光刻機(jī)，技術(shù)精良、服務(wù)快速高效，在國(guó)內(nèi)的LED、IC等廠家已有多臺(tái)銷售和高端設(shè)備調(diào)試，以高品質(zhì)受到市場(chǎng)好評(píng)，是目前國(guó)內(nèi)pss以及高端Nikon光刻機(jī)翻新的首選廠家。上海卓晶半導(dǎo)體科技有限公司堅(jiān)持技術(shù)創(chuàng)新，誠(chéng)信，卓越的經(jīng)營(yíng)理念，努力為客戶提供最適合的超值的產(chǎn)品和服務(wù)。
電子工業(yè)專用設(shè)備 2013年2期2013-08-15
- 投影光刻機(jī)在先進(jìn)封裝中的應(yīng)用
有接近/接觸式光刻機(jī)和1X步進(jìn)投影式光刻機(jī)，它們都采用了寬波帶曝光及基于機(jī)器視覺(jué)的對(duì)準(zhǔn)技術(shù)，而步進(jìn)投影式光刻機(jī)在CD均勻性、套刻精度、生產(chǎn)效率、成品率等方面的優(yōu)勢(shì)使其在先進(jìn)封裝工藝中扮演著越來(lái)越重要的角色。尤其當(dāng)硅片尺寸逐漸增大到200 mm乃至300 mm時(shí)，步進(jìn)投影式光刻機(jī)將更具吸引力，良好的全片一致性將大幅度提高封裝器件在電氣、機(jī)械等方面的可靠性。同時(shí)，步進(jìn)投影式光刻機(jī)同樣可用于一些MEMS、生物芯片等特殊的先進(jìn)封裝工藝，以滿足先進(jìn)封裝技術(shù)革新要求。
電子工業(yè)專用設(shè)備 2010年3期2010-08-09