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      叔丁基二硅氧烷(tBu2SiX-O-SiXtBu2,X=H,Br)的合成及表征

      2014-03-20 02:13:56徐金舟效旭瓊李志芳
      關鍵詞:氯硅烷硅氧烷丁基

      趙 卉,徐金舟,效旭瓊,李志芳

      (杭州師范大學有機硅化學及材料技術教育部重點實驗室,浙江 杭州311121)

      有機硅材料具有一系列其它合成材料不可比擬的優(yōu)良性能,在工業(yè)、農業(yè)、國防、科技、衛(wèi)生以及人們的日常生活中都有廣泛應用[1].有機硅材料研究中,聚硅氧烷是非常重要的一類化合物,以其為原料可以合成硅油、硅橡膠及硅樹脂等許多性能優(yōu)良的衍生物.Si—O—Si鍵是構成聚硅氧烷的基本鍵型,含有一個Si—O—Si鍵的二硅氧烷就成了研究聚硅氧烷的模型化合物[2].此外,二硅氧烷也是一類重要的化工原料.四甲基二氫二硅氧烷就是其中一種,通常被稱作含氫雙封頭劑.由于分子結構中含有活潑氫原子,可通過硅氫加成反應與帶有乙烯基或乙炔基的其他有機物加成,從而合成共聚物高分子.合成四甲基二氫二硅氧烷的主要方法,目前主要是通過二甲基氯硅烷(Me2SiHCl)水解縮聚等反應制得(圖1,方程1)[3].近期,我們對大位阻取代的二硅氧烷的合成產生了興趣.文獻調研發(fā)現,有關叔丁基取代的二硅氧烷的研究甚少.然而,由于叔丁基大的位阻效應影響,這類化合物呈現出特殊的物理和化學性質.比如,二叔丁基氫氯硅烷(tBu2SiHCl)水解只能停留在生成硅醇(tBu2HSiOH)的步驟,叔丁基的位阻效應阻止了其進一步縮聚形成二硅氧烷.Weidenbruch等利用tBu2SiHCl與AgNO3反應制備了羥基取代的二硅氧烷化合物1,但是,其產率只有11%(圖1,方程2)[4-6].最近,Lerner等使用tBu2SiH(OH)與CF3SO2Cl的反應成功地制備了四叔丁基二硅氧烷化合物2(圖1,方程3)[7],雖然這個反應的產率較之前的方法有所提升(60%),但反應生成了一個較難分離的單邊羥基取代的副產物,二硅氧烷化合物3.此外,該反應的弊端還在于需要使用大量化學性質活潑的三氟甲磺酰氯.

      圖1 幾種二硅氧烷化合物的合成Fig.1 The synthesis of some disiloxanes

      本文以叔丁基鋰和硅氯仿作為初始原料合成了二叔丁基氯硅烷4.該氯硅烷在堿性條件下水解得到硅醇5,硅醇5在氫化鈉作用下與二叔丁基氯硅烷4反應得到大位阻取代的二硅氧烷2,化合物2可以用液溴溴化為溴代二硅氧烷6(圖2).本實驗所設計的叔丁基二硅氧烷的合成路線,反應條件溫和,產物收率高,方法可靠.

      圖2 叔丁基二硅氧烷的合成及其溴化反應Fig.2 The synthesis and bromination of tert-butyl substituted disiloxane

      1 實驗部分

      1.1 主要試劑及儀器

      叔丁基鋰(1.3Min pentane),薩恩化學技術(上海)有限公司;三氯硅烷,分析純,上海晶純生化科技股份有限公司;氫氧化鈉溶液,自制,濃度為2%;氫化鈉,分析純,國藥集團化學試劑有限公司;液溴,化學純,上海強順化學試劑有限公司.

      核磁共振儀,AVANCE,400 MHz,德國布魯克公司;氣相色譜-質譜聯用儀(GC-MS),安捷倫7890a氣相色譜儀和5975c質譜儀.

      1.2 合成方法

      1.2.1 二叔丁基氯硅烷4的合成

      在裝配有恒壓滴液漏斗的三口燒瓶中(500mL)加入tBuLi(107mmol)的正戊烷溶液(注意:叔丁基鋰易自燃),在冰水浴的條件下,由恒壓滴液漏斗逐滴加入HSiCl3(50mmol,6.78g)的正己烷(20mL)溶液,約30min后滴加完畢.將反應混合物緩慢升溫至40 ℃,繼續(xù)攪拌過夜.反應結束后,冷卻至室溫,過濾生成的鋰鹽,收集濾液,旋轉蒸發(fā)除去溶劑.常壓蒸餾,收集170~175℃的餾分,得到無色液體即為化合物4.產率:70%.GC-MS(m/z):178(M+).

      1.2.2 二叔丁基硅醇5的合成

      在250mL的錐形瓶中加入20mL化合物4(60mmol,10.7g)的四氫呋喃溶液和100mL 2%的氫氧化鈉溶液,室溫攪拌30min.反應后的混合物用20mL 正己烷萃取3次,收集有機相并用無水MgSO4干燥10min.過濾,旋轉蒸發(fā)除去溶劑,得到白色固體,即為化合物5.產率:80%.GC-MS(m/z):159(M+-1)

      1.2.3 四叔丁基二硅氧烷2的合成

      在100mL Schlenk瓶中加入NaH (100mmol,240mg),隨后20mL化合物5(100mmol,160mg)的正己烷溶液緩慢導入,反應30min后,加入20mL化合物4(100mmol,178mg)的正己烷溶液,以上混合物在室溫下反應3h.反應完畢后將反應混合物轉移至分液漏斗中,用蒸餾水洗滌3次,收集有機相,用無水MgSO4干燥后旋干溶劑,減壓條件下收集90~92 ℃的餾分,得到無色液體,即為化合物2.產率:70%.GC-MS(m/z):302(M+),1H NMR(CDCl3,400 MHz,ppm):δ1.03(s,36H,C(CH3)3),4.32(s,1H,SiH);13C NMR(CDCl3,100MHz,ppm):δ19.6(C(CH3)3),27.40(CH3);29Si NMR(CDCl3,80 MHz,ppm):δ6.8.

      1.2.4 四叔丁基二溴二硅氧烷6的合成

      在裝配有恒壓滴液漏斗的100mL的反應瓶中加入20mL二氯甲烷和化合物2(5.0g,16.5mmol),攪拌使之完全溶解.將反應瓶液置于冰水浴中,逐滴加入液溴,反應放出大量的熱,待溶液的顏色不再發(fā)生明顯變化時,停止滴加,此時液溴用量約為10mL.升溫至室溫繼續(xù)反應1h后,將反應液轉入分液漏斗中,用飽和的亞硫酸鈉溶液洗滌3次,除去過量的溴.收集有機相,用無水MgSO4干燥后旋干溶劑,得到白色粉末狀固體,即為化合物6.產率:6g(75%).GC-MS(m/z):459(M++1)1H NMR(CDCl3,400 MHz,ppm):δ1.17(s,36H,C(CH3)3);13C NMR(CDCl3,100 MHz,ppm):δ24.23(C(CH3)3),27.77(CH3);29Si NMR(CDCl3,80 MHz,ppm):δ11.28.

      2 結果和討論

      文獻報道中,二叔丁基氯硅烷4的合成很多都是用格氏反應法,即利用叔丁基氯(溴)化鎂與三氯硅烷(硅氯仿)反應.我們也嘗試了這種方法,但是發(fā)現產率較低,于是選用如圖2所示的方法作為制備化合物4的步驟.在冰水浴的條件下,將三氯硅烷的正己烷溶液緩慢滴入到叔丁基鋰的正戊烷溶液中,隨著反應的進行,有極細的黃色顆粒狀LiCl鹽沉淀出現.反應完畢處理后,在常壓下蒸餾,收集170~175 ℃的餾分,產率在70%左右.經過GC-MS檢測,其分子離子峰出現在m/z=178處.該方法產率較高,反應后處理簡單,其缺點是要用到對空氣和水敏感的叔丁基鋰試劑,此外原料價格較貴.

      化合物4在堿性條件下水解,室溫下攪拌30min即可完全反應,GC-MS檢測轉化率在95%以上.產物的分離方法也很簡單,用正己烷/蒸餾水洗滌3次,有機相干燥旋干后即得到硅醇5的白色固體.GCMS檢測其M+-1的碎片離子峰出現在m/z=159處.

      在氮氣保護下,在反應瓶中加入硅醇5和氫化鈉,攪拌30min后形成硅醇鈉鹽.隨后緩慢加入氯硅烷4,室溫下反應3h后GC-MS檢測顯示,化合物2的轉化率能夠達到90%.延長反應時間或者升高反應溫度并不能提高化合物2的轉化率.減壓蒸餾收集90~92 ℃的餾分,可以得到無色液狀化合物2.經過GCMS分析,其分子離子峰出現在m/z=302處.在該化合物的核磁氫譜中,化學位移為1.03ppm 處的尖銳單峰可以歸屬為4個叔丁基上的甲基;而化學位移為4.32ppm 處的單峰為Si—H 的振動峰.在其核磁硅譜中,Si的振動峰出現在6.8ppm 處.盡管文獻中已有化合物2的合成,但有的產率較低,有的分離困難.我們利用硅醇鈉鹽與氯硅烷的反應,可以高產率地得到二硅氧烷,且后處理方便.

      文獻中硅氫鍵的溴化一般在甲苯或苯中進行,實驗發(fā)現,該二硅氧烷的溴化在二氯甲烷中也能順利進行,而且不影響其產率.該反應劇烈放熱.加入液溴后,紅色很快消失,持續(xù)滴加,待溶液的顏色呈微紅色時,停止滴加并撤去冰水浴.后處理后得到白色固體化合物6.其分子離子峰出現在m/z=459處.在核磁氫譜中,Si—H 振動峰消失.而其核磁硅譜中,由于溴的電負性,其硅譜與化合物2 比向低場移動,在11.28ppm 附近.

      3 結 論

      二叔丁代氯硅烷在水解合成二硅氧烷時,由于大位阻取代基的存在,反應只能進行到硅醇步驟,不能繼續(xù)縮聚形成二硅氧烷.本文介紹了一種大位阻二硅氧烷的合成方法.該方法先形成硅醇鈉鹽,隨后與氯硅烷繼續(xù)反應得到目標產物.該方法反應底物簡單易得,反應條件溫和易控制,產率較高.

      [1]來國橋.有機硅化學與工藝[M].北京:化學工業(yè)出版社,2011.

      [2]來國橋,幸松民.有機硅產品合成工藝及應用[M].北京:化學工業(yè)出版社,2010.

      [3]Weidenbruch M,Pesel H,Vanhieu D.Silicon-compounds with strong intramolecular steric interactions.tert-butyl substituted disiloxanes and trisiloxanes[J].Z Naturforsch,1980(35b):31-34.

      [4]Sommer L H,Tyler L J.Steric effects of the t-butyl group in organosilicon compounds[J].J Am Chem Soc,1953(76):1030-1033.

      [5]Bartel L S,Burgi H B.Structure of tri-tert-butylmethane.Inferences combining electron diffraction,spectroscopy,and molecular mechanics[J].J Am Chem Soc,1972,94(15):5239-5246.

      [6]Mahoney L R,Mendenhall G D,Ingold K U.Calorimetric and equilibrium studies on some stable nitroxide and iminoxy radicals.Approximate O-H bond dissociation energies in hydroxylamines and oximes[J].J Am Chem Soc,1973,95(26):8610-8614.

      [7]Lerner H W,Scholz S,Wiberg N,etal.Syntheses and crystal structures oftBu-substituted disiloxanestBu2SiX-O-SiYtBu2(X=Y=OH,Br;X=OH,Y=OH)and of the adductstBu3SiOH·(HO3SCF3)0.5·H2O andtBu3SiOLi·(LiO3SCF3)2·(H2O)2[J].Z Anorg Allg Chem,2005,631(10):1863-1870.

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