文 / 劉慶輝
專利權(quán)利要求的明顯錯(cuò)誤修正機(jī)制兼評(píng)“層積型光電變換裝置”發(fā)明專利無(wú)效行政糾紛案
文 / 劉慶輝
專利權(quán)利要求中的明顯錯(cuò)誤是本領(lǐng)域技術(shù)人員容易識(shí)別并能得出唯一正確答案的錯(cuò)誤,從利益平衡的角度考慮,一方面應(yīng)當(dāng)給予專利權(quán)人修正的機(jī)會(huì),另一方面應(yīng)當(dāng)限制修正時(shí)機(jī)。我國(guó)目前司法實(shí)踐中,允許專利權(quán)人修正,這一做法具有一定的合理性,但是由于缺乏公示措施,也會(huì)有一定的負(fù)面效果。理想的做法是,在今后修訂專利法時(shí)明確規(guī)定給予修正機(jī)會(huì)但限制修正時(shí)機(jī)。
專利權(quán)利要求;明顯錯(cuò)誤;修正機(jī)制
專利權(quán)利要求書(shū)是以語(yǔ)言文字的形式表達(dá)要求保護(hù)的技術(shù)方案。由于語(yǔ)言文字的特點(diǎn),有時(shí)候難免存在各種類型的撰寫錯(cuò)誤,在我國(guó)由于專利撰寫水平參差不齊,撰寫錯(cuò)誤更是難以避免。因此,我們面臨如何對(duì)待專利權(quán)利要求書(shū)中技術(shù)特征表達(dá)明顯錯(cuò)誤的問(wèn)題。如果我們堅(jiān)守權(quán)利要求的公示價(jià)值,從社會(huì)公眾利益的角度出發(fā),似乎不應(yīng)當(dāng)允許更正權(quán)利要求書(shū)中的撰寫錯(cuò)誤,專利權(quán)人應(yīng)當(dāng)自行承擔(dān)其撰寫錯(cuò)誤帶來(lái)的后果。但是,從另一方面考慮,專利權(quán)人做出了發(fā)明創(chuàng)造,為社會(huì)貢獻(xiàn)了技術(shù)知識(shí),對(duì)于其權(quán)利要求書(shū)中的撰寫錯(cuò)誤不給予任何修正機(jī)會(huì),似乎對(duì)專利權(quán)人不公平,與專利法上“權(quán)利與貢獻(xiàn)相一致”1. 權(quán)利與貢獻(xiàn)相一致,是指專利權(quán)人享有的權(quán)利大小應(yīng)與其作出的專利貢獻(xiàn)大小相一致。的法理不符,故允許專利權(quán)人進(jìn)行修正,似乎更加公平。上述兩種觀點(diǎn),代表了兩種思路。第一種觀點(diǎn)基于權(quán)利要求的公示價(jià)值,是親社會(huì)公眾的立場(chǎng)。第二種觀點(diǎn)基于“權(quán)利與貢獻(xiàn)相一致”的專利法理,是親專利權(quán)人的立場(chǎng)。兩種觀點(diǎn)均不無(wú)道理。最高人民法院在洪亮訴國(guó)家專利復(fù)審委員會(huì)及宋章根“精密旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器”實(shí)用新型專利權(quán)無(wú)效行政糾紛案2. 參見(jiàn)最高人民法院(2011)行提字第13號(hào)行政判決書(shū)。(簡(jiǎn)稱“精密旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器”案)中,明確闡述了其支持對(duì)權(quán)利要求書(shū)中的明顯錯(cuò)誤進(jìn)行修正性理解的立場(chǎng)。3. 根據(jù)我國(guó)2010版《專利審查指南》的規(guī)定和專利法實(shí)踐情況,我國(guó)目前沒(méi)有為專利權(quán)利要求書(shū)中的明顯錯(cuò)誤提供修正機(jī)會(huì),最高法院的判決只是確認(rèn)應(yīng)當(dāng)予以修正性理解或解釋,修正性理解雖然接近于修正,但畢竟不同于修正。在北京市第一中級(jí)人民法院和北京市高級(jí)人民法院審結(jié)的“層積型光電變換裝置”發(fā)明專利無(wú)效行政糾紛案4. 參見(jiàn)北京市第一中級(jí)人民法院(2013)一中知行初字第1096號(hào)行政判決書(shū),北京市高級(jí)人民法院(2014)高行終字第1811號(hào)行政判決書(shū)。(簡(jiǎn)稱“層積型光電變換裝置”案)中,上述兩家法院也堅(jiān)持了與最高法院一致的立場(chǎng)。上述兩案的裁判自有道理,但是亦可能具有負(fù)面影響,要克服其不利影響,關(guān)鍵在于如何在上述兩種觀點(diǎn)之間取得平衡,既保護(hù)專利權(quán)人的利益,又避免帶來(lái)過(guò)多不利影響,這就需要進(jìn)行利益平衡的考量。本文旨在從利益平衡的視角來(lái)探討如何對(duì)待授權(quán)公告的專利權(quán)利要求書(shū)中的明顯錯(cuò)誤。本文對(duì)是否應(yīng)當(dāng)允許修正權(quán)利要求書(shū)中的明顯錯(cuò)誤的兩種立場(chǎng)進(jìn)行了剖析,分析了兩種立場(chǎng)的利弊,并主張應(yīng)當(dāng)采取利益平衡的方法對(duì)待權(quán)利要求書(shū)中的明顯錯(cuò)誤。本文認(rèn)為,考慮到“保護(hù)和貢獻(xiàn)相一致”的專利法理,應(yīng)當(dāng)給予專利權(quán)人修正權(quán)利要求書(shū)中明顯錯(cuò)誤的機(jī)會(huì),但是為了克服修正所可能帶來(lái)的不利影響,應(yīng)當(dāng)對(duì)修正時(shí)機(jī)予以限定,可以借鑒美國(guó)專利法上的再頒程序,在我國(guó)專利法中增加類似的程序設(shè)計(jì),給予專利權(quán)人在專利授權(quán)后一定期限內(nèi)主動(dòng)修正專利要求書(shū)中明顯錯(cuò)誤的機(jī)會(huì),錯(cuò)過(guò)這個(gè)機(jī)會(huì)就不再允許其修正。
在“層積型光電變換裝置”案中,涉案專利為“層積型光電變換裝置”,專利權(quán)人為株式會(huì)社鐘化,授權(quán)公告的權(quán)利要求1為:“一種層積型光電變換裝置,其特征在于,在襯底(1)上從光入射側(cè)順序?qū)臃e一導(dǎo)電型層(31、51)、實(shí)質(zhì)本征半導(dǎo)體的光電變換層(32、52)及含有反向?qū)щ娦蛯樱?3、53)的多個(gè)光電變換單元(3、5),相對(duì)地配置于光入射側(cè)的前方光電變換單元(3)內(nèi)的反向?qū)щ娦蛯樱?3)和鄰接該前方光電變換單元(3)配置的后方光電變換單元(5)內(nèi)的所述一導(dǎo)電型層(51)中的至少一者至少在其一部分具有硅復(fù)合層(4),所述硅復(fù)合層(4)具有20nm~130nm的厚度和25原子%~60原子%的氧濃度,在硅和氧的非晶質(zhì)合金相中含有富硅相”(以下簡(jiǎn)稱修正前的權(quán)利要求1)。
根據(jù)權(quán)利要求1前半段的文字記載,導(dǎo)電型層(31、51)和光電變換單元(3、5)似乎是并列的關(guān)系,亦即導(dǎo)電型層(51)和光電變換單元(5)是并列部件的關(guān)系。但由上述加粗字體的文字記載來(lái)判斷,“所述一導(dǎo)電型層(51)”與前文中的導(dǎo)電型層(31、51)中的51應(yīng)為同一部件,這樣的話,光電變換單元(5)與導(dǎo)電型層(51)是整體與部件的關(guān)系,而不是并列部件的關(guān)系。由上觀察,權(quán)利要求1的前后兩段文字存在明顯矛盾。
根據(jù)說(shuō)明書(shū)的記載,現(xiàn)有技術(shù)中的層積型光電變換裝置主要由三部分構(gòu)成:前方光電變換單元、中間反射層、后方光電變換單元?,F(xiàn)有技術(shù)中的中間反射層存在一些技術(shù)問(wèn)題,涉案專利為了解決這些技術(shù)問(wèn)題,作出了技術(shù)改進(jìn):在兩個(gè)光電變換單元之間設(shè)置硅復(fù)合層,取代現(xiàn)有技術(shù)中的中間反射層。結(jié)合涉案專利說(shuō)明書(shū)及附圖10可以確定,涉案專利中的層積型光電變換裝置主要由三部分構(gòu)成:前方光電變換單元(3)、后方光電變換單元(5)及設(shè)置于二者中間的硅復(fù)合層(4)。其中,前方光電變換單元(3)由一導(dǎo)電型層(31)、實(shí)質(zhì)本征半導(dǎo)體的光電變換層(32)及含有反向?qū)щ娦蛯樱?3)構(gòu)成;后方光電變換單元(5)由一導(dǎo)電型層(51)、實(shí)質(zhì)本征半導(dǎo)體的光電變換層(52)及含有反向?qū)щ娦蛯樱?3)構(gòu)成。
因此,涉案專利權(quán)利要求1真正要限定的技術(shù)方案是:“一種層積型光電變換裝置,其特征在于,在襯底(1)上從光入射側(cè)順序?qū)臃e含有一導(dǎo)電型層(31、51)、實(shí)質(zhì)本征半導(dǎo)體的光電變換層(32、52)及反向?qū)щ娦蛯樱?3、53)的多個(gè)光電變換單元(3、5),相對(duì)地配置于光入射側(cè)的前方光電變換單元(3)內(nèi)的反向?qū)щ娦蛯樱?3)和鄰接該前方光電變換單元(3)配置的后方光電變換單元(5)內(nèi)的所述一導(dǎo)電型層(51)中的至少一者至少在其一部分具有硅復(fù)合層(4),所述硅復(fù)合層(4)具有20nm~130nm的厚度和25原子%~60原子%的氧濃度,在硅和氧的非晶質(zhì)合金相中含有富硅相”(以下簡(jiǎn)稱修正后的權(quán)利要求1)。對(duì)比修正前及修正后的權(quán)利要求1,二者的區(qū)別是其中“含有”二字的位置不同。
葉洋針對(duì)授權(quán)公告的權(quán)利要求1(實(shí)際上還包括從屬權(quán)利要求,此處略去),向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局專利復(fù)審委員會(huì)(以下簡(jiǎn)稱專利復(fù)審委員會(huì))提出無(wú)效宣告請(qǐng)求,理由之一是專利權(quán)利要求得不到說(shuō)明書(shū)支持,不符合《專利法》第二十六條第四款的規(guī)定。專利復(fù)審委員會(huì)經(jīng)審查作出第19358號(hào)無(wú)效宣告請(qǐng)求審查決定(簡(jiǎn)稱第19358號(hào)決定),認(rèn)定涉案專利權(quán)利要求1得不到說(shuō)明書(shū)的支持,宣告涉案專利權(quán)無(wú)效。株式會(huì)社鐘化不服,提起行政訴訟。
一審法院經(jīng)審理認(rèn)為:本領(lǐng)域技術(shù)人員在閱讀修正前的權(quán)利要求1的技術(shù)方案時(shí),能夠認(rèn)識(shí)到其中的技術(shù)特征存在明顯矛盾,必將進(jìn)一步閱讀涉案專利說(shuō)明書(shū)及附圖,并借助其中的相關(guān)記載對(duì)修正前的權(quán)利要求1作出正確的解釋,亦即將其更正性地理解為修正后的權(quán)利要求1限定的技術(shù)方案。涉案專利的PCT/JP2004/010115國(guó)際公開(kāi)文本(中文譯文)的權(quán)利要求1記載的內(nèi)容也能佐證修正前的權(quán)利要求1的記載存在明顯錯(cuò)誤。一審法院遂判決撤銷第
根據(jù)“保護(hù)和貢獻(xiàn)相一致”的專利法理,應(yīng)當(dāng)給予專利權(quán)人修正權(quán)利要求書(shū)中明顯錯(cuò)誤的機(jī)會(huì),但應(yīng)對(duì)修正時(shí)機(jī)予以限定。19358號(hào)決定。葉洋不服一審判決,提起上訴。二審法院判決維持一審判決。
本案揭示的問(wèn)題是:如何判斷權(quán)利要求書(shū)中的明顯錯(cuò)誤?是否應(yīng)當(dāng)允許修正專利權(quán)利要求中的明顯錯(cuò)誤或者予以修正性解釋。一、二審裁判的要旨是:如果本領(lǐng)域技術(shù)人員閱讀權(quán)利要求書(shū)時(shí)能夠認(rèn)識(shí)到其中存在明顯錯(cuò)誤,就應(yīng)當(dāng)準(zhǔn)許對(duì)權(quán)利要求進(jìn)行修正性解釋。本案的裁判與前述“精密旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器”案的裁判保持了一致。法院的裁判顯然是親專利權(quán)人的立場(chǎng),認(rèn)為專利權(quán)人做出了發(fā)明創(chuàng)造,應(yīng)當(dāng)獲得與其貢獻(xiàn)相匹配的保護(hù)范圍,不能僅僅因?yàn)闄?quán)利要求書(shū)中的明顯錯(cuò)誤而懲罰專利權(quán)人。但是,法院的裁判亦可能產(chǎn)生一定的負(fù)面影響,后文將進(jìn)行論述。
(一)什么是明顯錯(cuò)誤
權(quán)利要求書(shū)由語(yǔ)言文字構(gòu)成,表達(dá)要求保護(hù)的技術(shù)方案,由于語(yǔ)言文字的特點(diǎn)以及撰寫人的疏忽,權(quán)利要求書(shū)的文字表達(dá)與專利權(quán)人作出的技術(shù)方案難免存在不一致的地方,這種不一致可能構(gòu)成權(quán)利要求書(shū)中的明顯錯(cuò)誤。本文所謂明顯錯(cuò)誤,是指專利權(quán)利要求技術(shù)特征表達(dá)中所存在的明顯錯(cuò)誤,所屬領(lǐng)域技術(shù)人員基于其所具有的普通技術(shù)知識(shí),在閱讀權(quán)利要求后能夠發(fā)現(xiàn)其可能存在技術(shù)特征表達(dá)錯(cuò)誤,在進(jìn)一步閱讀說(shuō)明書(shū)及附圖的相關(guān)內(nèi)容后能夠確定出該技術(shù)特征的唯一正確答案5. 羅霞:《專利授權(quán)確權(quán)中如何看待存在的明顯錯(cuò)誤》,載《電子知識(shí)產(chǎn)權(quán)》2012年第6期。。由于明顯錯(cuò)誤的存在,導(dǎo)致權(quán)利要求書(shū)限定的技術(shù)方案與說(shuō)明書(shū)披露的技術(shù)方案不一致,這種不一致導(dǎo)致前者無(wú)法實(shí)現(xiàn)專利的發(fā)明目的。
(二)明顯錯(cuò)誤的判斷
權(quán)利要求書(shū)中的錯(cuò)誤是否明顯,如何判斷?首先,是判斷主體。閱讀權(quán)利要求書(shū)的人員是本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員,不是普通的社會(huì)公眾,權(quán)利要求書(shū)中明顯錯(cuò)誤的判斷主體是本領(lǐng)域普通技術(shù)人員。本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員,是指一種假設(shè)的人,假定他知曉申請(qǐng)日或者優(yōu)先權(quán)日之前發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域所有的普通技術(shù)知識(shí),能夠獲知該領(lǐng)域中所有的現(xiàn)有技術(shù),并且具有應(yīng)用該日期之前常規(guī)實(shí)驗(yàn)手段的能力,但他不具有創(chuàng)造能力。6. 《專利審查指南》2010版第170-171頁(yè)。其次,判斷方法和過(guò)程。第一,閱讀權(quán)利要求書(shū),確定權(quán)利要求書(shū)的技術(shù)特征表達(dá)是否前后一致,技術(shù)方案是否能夠?qū)嵤?;第二,進(jìn)一步閱讀專利說(shuō)明書(shū)及附圖,確定權(quán)利要求書(shū)限定的技術(shù)方案與說(shuō)明書(shū)披露的技術(shù)方案是否一致,如果不一致,則可能存在明顯錯(cuò)誤。第三,看權(quán)利要求書(shū)限定的技術(shù)方案能否實(shí)現(xiàn)發(fā)明的目的。如果本領(lǐng)域技術(shù)人員通過(guò)閱讀專利權(quán)利要求書(shū)和說(shuō)明書(shū),能夠明確地認(rèn)識(shí)到權(quán)利要求書(shū)中存在明顯錯(cuò)誤,而且基于專利的發(fā)明目的,本領(lǐng)域技術(shù)人員完全能夠?qū)?quán)利要求書(shū)進(jìn)行修正性的理解,則應(yīng)當(dāng)確認(rèn)權(quán)利要求書(shū)中存在明顯錯(cuò)誤。
(一)不允許修正權(quán)利要求書(shū)中的明顯錯(cuò)誤
如果確認(rèn)權(quán)利要求書(shū)中存在明顯的錯(cuò)誤,應(yīng)當(dāng)如何處理?一種觀點(diǎn)是,基于權(quán)利要求的公示價(jià)值和責(zé)任自負(fù)原理,應(yīng)當(dāng)由專利權(quán)人承擔(dān)撰寫錯(cuò)誤的后果,拒絕給予修正的機(jī)會(huì)。
早期的專利制度中,只有專利說(shuō)明書(shū),沒(méi)有權(quán)利要求書(shū)7. 尹新天:《中國(guó)專利法詳解》,知識(shí)產(chǎn)權(quán)出版社2011年版,第362-363頁(yè)。。專利的保護(hù)范圍通過(guò)識(shí)別說(shuō)明書(shū)披露的技術(shù)方案來(lái)確定,其弊端是權(quán)利保護(hù)范圍不確定,閱讀專利文件的信息處理成本高。為了提高權(quán)利保護(hù)范圍的確定性,減少信息處理成本,后來(lái)出現(xiàn)了權(quán)利要求書(shū)。權(quán)利要求書(shū),通過(guò)簡(jiǎn)練的文字表達(dá),限定要求保護(hù)的權(quán)利范圍。首先,權(quán)利要求書(shū)具有確定性,社會(huì)公眾只要閱讀權(quán)利要求書(shū)就可以確定專利的保護(hù)范圍。其次,權(quán)利要求書(shū)具有公示作用,是權(quán)利范圍的公示。它公示了權(quán)利邊界,以此告誡社會(huì)公眾勿擅入權(quán)利范圍。再次,權(quán)利要求書(shū)節(jié)省了信息處理成本。社會(huì)公眾無(wú)需深入閱讀復(fù)雜的專利說(shuō)明書(shū),就能知道專利權(quán)利要求的邊界,因此可以大大減少信息處理成本。正是因?yàn)?/p>
基于專利發(fā)明的目的,本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠認(rèn)識(shí)到專利權(quán)利要求書(shū)中存在明顯錯(cuò)誤并能進(jìn)行修正性的理解,則應(yīng)當(dāng)認(rèn)定權(quán)利要求書(shū)存在明顯錯(cuò)誤。權(quán)利要求書(shū)具有重要的公示作用,無(wú)論是在專利授權(quán)、確權(quán)還是侵權(quán)案件中,權(quán)利要求書(shū)都是案件審理工作的中心。
不允許修正權(quán)利要求書(shū)中明顯錯(cuò)誤的主要理由如下:
首先,權(quán)利要求書(shū)具有公示作用,為了確保權(quán)利要求的公示作用不動(dòng)搖,應(yīng)當(dāng)確保權(quán)利要求書(shū)的確定性,不應(yīng)當(dāng)允許修正。如果允許修正,無(wú)疑會(huì)動(dòng)搖權(quán)利要求的公示作用,損害社會(huì)公眾的信賴?yán)妗?/p>
其次,如果允許對(duì)權(quán)利要求進(jìn)行修正,也與責(zé)任自負(fù)的法理不符。權(quán)利要求書(shū)是權(quán)利人撰寫的,作為理性人,權(quán)利人應(yīng)當(dāng)預(yù)見(jiàn)到權(quán)利要求書(shū)撰寫錯(cuò)誤的后果,謹(jǐn)慎對(duì)待撰寫工作,如果粗心大意、不夠謹(jǐn)慎,應(yīng)當(dāng)承擔(dān)由此帶來(lái)的后果。
再次,如果允許權(quán)利人在授權(quán)后修正權(quán)利要求書(shū),無(wú)疑會(huì)縱容權(quán)利人粗心大意,無(wú)法正面激勵(lì)權(quán)利人認(rèn)真對(duì)待權(quán)利要求書(shū)撰寫工作。反之,則可以對(duì)權(quán)利要求書(shū)的撰寫工作形成正面激勵(lì),有利于提升權(quán)利要求書(shū)的撰寫質(zhì)量,盡量避免錯(cuò)誤的出現(xiàn)。
(二)允許修正權(quán)利要求書(shū)中的明顯錯(cuò)誤
另一種觀點(diǎn)是應(yīng)當(dāng)給予修正明顯錯(cuò)誤的機(jī)會(huì),理由大致如下:
首先,給予專利權(quán)人修正錯(cuò)誤的機(jī)會(huì),符合“權(quán)利與貢獻(xiàn)一致”的專利法理。專利權(quán)人做出了發(fā)明創(chuàng)造,向社會(huì)貢獻(xiàn)了技術(shù)知識(shí),應(yīng)當(dāng)享有與貢獻(xiàn)相一致的權(quán)利,否則就違背了專利法中“權(quán)利與貢獻(xiàn)一致”的法理。專利權(quán)人雖然犯了撰寫錯(cuò)誤,但應(yīng)當(dāng)給予其修正錯(cuò)誤的機(jī)會(huì),讓其保有一定的權(quán)利,而不應(yīng)當(dāng)因撰寫錯(cuò)誤而完全剝奪其專利權(quán)。
其次,修正權(quán)利要求書(shū)中的明顯錯(cuò)誤不會(huì)破壞社會(huì)公眾的信賴。專利文檔包括權(quán)利要求書(shū)、說(shuō)明書(shū)及附圖,專利技術(shù)方案由整個(gè)專利文檔體現(xiàn)出來(lái),社會(huì)公眾信賴的是整個(gè)專利文檔,而不僅僅是權(quán)利要求書(shū),過(guò)分強(qiáng)調(diào)權(quán)利要求書(shū)的公示價(jià)值缺乏客觀依據(jù)。社會(huì)公眾在生產(chǎn)經(jīng)營(yíng)中,如果查看專利文檔,絕不會(huì)僅僅閱讀權(quán)利要求書(shū),而是一并閱讀說(shuō)明書(shū)及附圖,當(dāng)他們閱讀權(quán)利要求書(shū)并意識(shí)到當(dāng)中可能存在錯(cuò)誤時(shí),一定會(huì)結(jié)合說(shuō)明書(shū)及附圖對(duì)權(quán)利要求書(shū)進(jìn)行修正性理解。從這個(gè)角度出發(fā),與其讓社會(huì)公眾每次都作修正性理解,不如給予權(quán)利人修正的機(jī)會(huì),以節(jié)省社會(huì)公眾的閱讀和信息處理成本。
再次,由于語(yǔ)言文字表達(dá)的特點(diǎn),權(quán)利要求書(shū)中出現(xiàn)撰寫錯(cuò)誤在所難免,拒絕給予專利權(quán)人修正權(quán)利要求書(shū)中明顯錯(cuò)誤的機(jī)會(huì),將使專利權(quán)人喪失整個(gè)專利權(quán),這是對(duì)專利權(quán)人撰寫錯(cuò)誤的過(guò)度懲罰,顯失公平。
(三)法院的立場(chǎng)
以上兩種立場(chǎng)各有依據(jù),選擇何種立場(chǎng)實(shí)際上是一個(gè)法律政策的問(wèn)題。最高人民法院和北京法院的裁判與上述兩種立場(chǎng)均有差別,是對(duì)權(quán)利要求作修正性理解或解釋的立場(chǎng)。這一裁判立場(chǎng)當(dāng)然有其邏輯道理,但是,在我國(guó)目前的專利法實(shí)踐中,此種裁判也可能產(chǎn)生一些負(fù)面影響,應(yīng)當(dāng)認(rèn)真對(duì)待。
首先,我們目前的做法并不是修正,而是所謂修正性理解或解釋。根據(jù)2010年版的《專利審查指南》的規(guī)定,在無(wú)效程序中,對(duì)于專利權(quán)利要求書(shū)中的明顯錯(cuò)誤是不允許修改的。最高法院和北京法院在上述兩案中均強(qiáng)調(diào)應(yīng)當(dāng)對(duì)權(quán)利要求進(jìn)行修正性理解或解釋,而不是真正的修正。上述兩案經(jīng)過(guò)法院裁判確認(rèn)后,并沒(méi)有一個(gè)修正權(quán)利要求書(shū)并予以公示的程序,專利復(fù)審委員會(huì)并不會(huì)給予專利權(quán)人修正錯(cuò)誤的機(jī)會(huì)并對(duì)權(quán)利要求書(shū)重新予以公示,法院的裁判文書(shū)也不會(huì)作為專利文檔一并公示。對(duì)于社會(huì)公眾而言,他們看到的仍然是授權(quán)公告的具有明顯錯(cuò)誤的權(quán)利要求書(shū),但是該權(quán)利要求書(shū)不是其本身記載的含義了,而是法院確認(rèn)之后的含義。面對(duì)該權(quán)利要求書(shū),社會(huì)公眾的閱讀和信息處理成本并沒(méi)有降低,爭(zhēng)訟可能還會(huì)存在。法院的裁判雖然保護(hù)了專利權(quán)人的利益,但是卻減損了權(quán)利要求書(shū)的公示價(jià)值,忽略了授權(quán)公告的權(quán)利要求書(shū)與法院確認(rèn)的權(quán)利要求書(shū)的含義不一致所帶來(lái)的成本問(wèn)題,這一成本完全由社會(huì)公眾承擔(dān),專利權(quán)人只享受利益,沒(méi)有承擔(dān)任何成本,這實(shí)際上是一種不公平。專利權(quán)人犯了撰寫錯(cuò)誤,為什么要由社會(huì)公眾來(lái)承擔(dān)全部成本?因此,如果國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局缺乏配套的公示程序,法院目前的裁判具有一定的負(fù)面效應(yīng),除非法院責(zé)令國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局采取配套措施,對(duì)修正后的權(quán)利要求書(shū)重新予以公示。
其次,以“層積型光電變換裝置”案為例,在專利授權(quán)階段,審查員沒(méi)有發(fā)現(xiàn)權(quán)利要求書(shū)中的明顯錯(cuò)誤,意味著審查員可能是按照權(quán)利要求書(shū)字面記載的含義檢索現(xiàn)有技術(shù),并進(jìn)行新穎性、創(chuàng)造性判斷。在無(wú)效程序階段,法院賦予了權(quán)利要求修正后的含義。授權(quán)程序中審查的權(quán)利要求和法院賦予修正后含義的權(quán)利要求極有可能是不同的技術(shù)方案,這樣審查員在授權(quán)階段針對(duì)修正前的權(quán)利要求所做的新穎性、創(chuàng)造性判斷可能就不適用于法院賦予修正后含義的權(quán)利要求。這就意味著法院賦予修正后含義的權(quán)利要求是否具備新穎性、創(chuàng)造性,值得懷疑。
(四)對(duì)上述立場(chǎng)的評(píng)價(jià)
不允許修正權(quán)利要求書(shū)中明顯錯(cuò)誤的立場(chǎng),側(cè)重維護(hù)權(quán)利要求的公示價(jià)值,保護(hù)社會(huì)公眾的信賴?yán)妫灿欣诩?lì)專利申請(qǐng)人提升權(quán)利要求書(shū)的撰寫水平,就此而言,此種立場(chǎng)具有強(qiáng)大的說(shuō)服力。但是,如果不提供任何修正錯(cuò)誤的機(jī)會(huì),實(shí)際上就是對(duì)專利權(quán)人撰寫錯(cuò)誤的懲罰,這種懲罰完全沒(méi)有考慮專利權(quán)人做出的技術(shù)貢獻(xiàn),超出了必要的限度,并不公平。
允許修正權(quán)利要求書(shū)中明顯錯(cuò)誤的立場(chǎng),側(cè)重考慮專利權(quán)人做出的技術(shù)貢獻(xiàn),保護(hù)專利權(quán)人的合法利益,不主張過(guò)度懲罰專利權(quán)人的撰寫錯(cuò)誤,符合“權(quán)利與貢獻(xiàn)一致”的專利法理,更加貼近我國(guó)專利申請(qǐng)制度運(yùn)作情況,是一種務(wù)實(shí)的態(tài)度。但是,允許修正應(yīng)當(dāng)要附條件,如果不附任何條件,則會(huì)過(guò)度減損權(quán)利要求的公示價(jià)值,損害社會(huì)公眾的信賴?yán)妗?/p>
法院在上述兩案中持修正性解釋權(quán)利要求的立場(chǎng),這一立場(chǎng)的利弊已如上述,不再贅述。
綜上,從兼顧專利權(quán)人利益和社會(huì)公眾利益的立場(chǎng)出發(fā),最好的辦法是給予專利權(quán)人修正錯(cuò)誤的機(jī)會(huì),同時(shí)也附加一定的條件,以最大限度地維護(hù)權(quán)利要求的公示價(jià)值,保護(hù)社會(huì)公眾的信賴?yán)妗_@個(gè)附加條件就是限制修正錯(cuò)誤的時(shí)機(jī)。
(一)無(wú)效程序中的修正
如前所述,在“層積型光電變換裝置”案中,法院目前的做法是對(duì)權(quán)利要求作修正性的理解,這可能會(huì)帶來(lái)一些問(wèn)題。因此,我們可以采取的措施是修正《專利審查指南》的規(guī)定,允許在無(wú)效程序中對(duì)權(quán)利要求書(shū)中的明顯錯(cuò)誤予以修正,并對(duì)修正后的權(quán)利要求書(shū)重新予以公示。這是在未修訂專利法的情況下,可以采取的辦法。
但是,允許專利權(quán)人修正權(quán)利要求書(shū)還面臨一個(gè)問(wèn)題,就是要對(duì)權(quán)利要求重新進(jìn)行可專利性判斷,主要是新穎性、創(chuàng)造性判斷。修正后和修正前的權(quán)利要求可能是兩個(gè)技術(shù)方案,授權(quán)階段是對(duì)修正前的權(quán)利要求作的可專利性判斷,無(wú)效程序中則還要對(duì)修正后的權(quán)利要求作一次可專利性判斷。這可能會(huì)使無(wú)效程序復(fù)雜化。無(wú)效程序可能至少要分為兩步:第一步是給予專利權(quán)人修正機(jī)會(huì),對(duì)權(quán)利要求進(jìn)行修正;第二步是在修正后的權(quán)利要求的基礎(chǔ)上,重新進(jìn)行可專利性判斷。這兩個(gè)步驟都需要無(wú)效請(qǐng)求人、專利權(quán)人和專利復(fù)審委員會(huì)的參與、配合。程序上是否能有效銜接,存在問(wèn)題。例如,在修正權(quán)利要求書(shū)后,是暫停無(wú)效程序,等待無(wú)效請(qǐng)求人針對(duì)修正后的權(quán)利要求提出新的無(wú)效理由?還是由專利復(fù)審委員會(huì)主動(dòng)對(duì)修正后的權(quán)利要求進(jìn)行可專利性判斷?這涉及到程序上的安排、銜接。這是無(wú)效程序中修正權(quán)利要求所可能帶來(lái)的問(wèn)題。另外,允許無(wú)效程序中的修正,確實(shí)會(huì)減損授權(quán)之后到修正之前的權(quán)利要求書(shū)的公示價(jià)值,這是一個(gè)客觀的問(wèn)題。在這一期間,社會(huì)公眾信賴權(quán)利要求書(shū)并采取相應(yīng)的行為,允許修正權(quán)利要求書(shū)則在一定程度上破壞了社會(huì)公眾的信賴和預(yù)期。再者,允許無(wú)效程序中的修正,確實(shí)不利于激勵(lì)專利權(quán)人提升撰寫水平。因此,在無(wú)效程序中給予修正機(jī)會(huì),并不是最理想的辦法。
(二)再頒程序中的修正
對(duì)于專利權(quán)利要求書(shū)中的非文字、標(biāo)點(diǎn)符號(hào)類的撰寫錯(cuò)誤,美國(guó)專利法設(shè)置了再頒程序,允許在專利授權(quán)之后兩年內(nèi),由專利權(quán)人啟動(dòng)再頒程序以修正權(quán)利要求書(shū)中的錯(cuò)誤8. [美]J.M.穆勒:《專利法》,沈超等譯,知識(shí)產(chǎn)權(quán)出版社2013年版,第280-292頁(yè)。。再頒程序具有很大合理性,它兼顧了權(quán)利要求書(shū)的公示價(jià)值和專利權(quán)人的利益,在社會(huì)公眾和專利權(quán)人之間實(shí)現(xiàn)了較好的平衡,值得借鑒。
我國(guó)現(xiàn)行專利法沒(méi)有設(shè)置再頒程序,在今后修訂專利法時(shí)可以借鑒美國(guó)專利法上的再頒程序,設(shè)置類似的糾錯(cuò)程序。專利法設(shè)置糾錯(cuò)程序之后,專利權(quán)人可以在專利授權(quán)之后一定期限內(nèi)(一年或兩年)主動(dòng)修正權(quán)利要求書(shū)中的錯(cuò)誤。如果專利權(quán)人放棄了這個(gè)權(quán)利和機(jī)會(huì),則將永遠(yuǎn)喪失修正權(quán)利要求書(shū)的機(jī)會(huì)。這種制度設(shè)計(jì),既考慮到了專利權(quán)人的利益,又兼顧了權(quán)利要求的公示價(jià)值,在權(quán)利人和社會(huì)公眾之間實(shí)現(xiàn)了較好的平衡,符合利益平衡的法理。
我國(guó)現(xiàn)行專利法沒(méi)有提供修正專利權(quán)利要求書(shū)中明顯錯(cuò)誤的機(jī)會(huì),法院在“精密旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器”案及“層積型光電變換裝置”案中確認(rèn)了可以對(duì)專利權(quán)利要求書(shū)中的明顯錯(cuò)誤進(jìn)行修正性解釋的規(guī)則,這種做法顧及了專利權(quán)人的利益,但可能減損權(quán)利要求書(shū)的公示價(jià)值,忽略了社會(huì)公眾閱讀權(quán)利要求書(shū)的信息處理成本,還忽略了對(duì)權(quán)利要求進(jìn)行修正性解釋可能帶來(lái)的可專利性問(wèn)題。因此,法院的這種立場(chǎng)并非完美無(wú)缺,是否還應(yīng)當(dāng)堅(jiān)持下去,是一個(gè)值得研究的問(wèn)題。理想的做法是從立法上進(jìn)行改變。一是修改《專利審查指南》的規(guī)定,允許在無(wú)效程序中修正。二是在專利法中增設(shè)類似于美國(guó)專利法上再頒程序的制度,只允許專利權(quán)人通過(guò)再頒程序修正權(quán)利要求書(shū)中的明顯錯(cuò)誤。二者比較,增設(shè)再頒程序的做法更值得稱道,它兼顧了社會(huì)公眾利益與專利權(quán)人利益,將修正錯(cuò)誤的負(fù)面效應(yīng)降到了最低。
對(duì)于專利權(quán)利要求的明顯錯(cuò)誤的修正機(jī)制,我國(guó)可以考慮修改《專利審查指南》的規(guī)定,允許在無(wú)效程序中修正,或增設(shè)再頒程序。
Correction Mechanism for Obvious Errors in Patent Claims
Obvious errors in patent claims can be identified easily by persons skilled in the art and their correct answers can be determined exclusively. Taking the balance of interests into account, on one hand, a correction opportunity should be provided to the patentee, and on the other hand, the correction timing should be restricted. Under current legal practice in China, it is somewhat reasonable to permit the patentee to make corrections, but lack of public-notice measures will cause some negative effects. An ideal approach is to expressly provide the correction opportunity and restrict the correction timing in later amendment of the patent law.
Patent claims; Obvious error; Correction mechanism
劉慶輝,北京師范大學(xué)法學(xué)院博士研究生,北京市高級(jí)人民法院知識(shí)產(chǎn)權(quán)庭法官。
電子知識(shí)產(chǎn)權(quán)2015年7期