吳春光,何四華,潘玉純
(92941部隊(duì),葫蘆島 125000)
傳統(tǒng)的角反射器由于其在較寬的角度范圍內(nèi)具有很強(qiáng)的后向RCS而被廣泛用作RCS增強(qiáng)器和定標(biāo)體。可是,在進(jìn)行目標(biāo)特性設(shè)計(jì)時(shí),不僅希望作為靶標(biāo)單元的角反射器具有很強(qiáng)的RCS,同時(shí)還希望能調(diào)節(jié)靶標(biāo)單元后向RCS的主瓣寬度和主瓣方向,為此,本文研究帶有活動(dòng)板一類角反射器的RCS計(jì)算問題。
盡管二面角和三面角反射器的高頻RCS計(jì)算不是一個(gè)新問題[1-7],但是,對帶有活動(dòng)板一類角反射器的RCS計(jì)算卻很少見公開報(bào)道。本文利用幾何光學(xué)(GO)和物理光學(xué)(PO)的方法,即中間反射過程采用GO法,最后一次散射采用PO法計(jì)算帶有活動(dòng)板一類角反射器的高頻散射,雖然與Knott[2]和Anderson[4]在求解非正交二面角反射器的后向RCS時(shí)采用的方法類似,但是本文工作更側(cè)重于針對多次反射的一般性考慮,以使本文計(jì)算方法具有通用性。
利用GO+PO方法計(jì)算帶有活動(dòng)板類角反射器的RCS,關(guān)鍵問題是如何處理任意面元對之間的多次反射和遮擋判斷問題。基于一般性,考慮圖1所示由多塊平板構(gòu)成的腔體目標(biāo)的多次反射問題。多次反射中電磁波可以照射到的面稱為照射面,位于入射照明區(qū)的照射面稱為可見面,位于入射陰影區(qū)的照射面稱為不可見面。一束平面波照射該目標(biāo),兩條虛線中間的區(qū)域表示腔體內(nèi)部的入射照明區(qū),照明區(qū)內(nèi)一條射線入射到腔體發(fā)生多次反射,其中二次反射和三次反射的照射面位于入射陰影區(qū),對目標(biāo)后向散射無貢獻(xiàn)??梢钥闯觯谌肷洳ǖ乃拇畏瓷渲?,僅第一次反射和第四次反射的照射區(qū)域?qū)δ繕?biāo)的后向散射有貢獻(xiàn),并且貢獻(xiàn)最強(qiáng)的是第四次反射照射區(qū)域的散射貢獻(xiàn)。因此,在多次反射分析中,不僅要考慮可見面的反射,還應(yīng)該考慮不可見面的反射。
圖1 平板腔體目標(biāo)多次反射示意圖
從圖中還可以看出,二次反射的照射面位于入射陰影區(qū),其二次反射對目標(biāo)后向散射無貢獻(xiàn)。當(dāng)僅考慮到二次反射時(shí),也就是忽略三次以及三次以上多次反射貢獻(xiàn)時(shí),對不可見面元進(jìn)行二次反射面元對的判斷是無意義的??紤]三次以及三次以上多次反射時(shí),由于不可見面的多次反射不能忽略,應(yīng)該在整個(gè)區(qū)域?qū)λ忻嫫M(jìn)行多次反射面元對的判斷。通過上面的討論,可以得到以下結(jié)論:
(1)反射到可見面上的多次反射對目標(biāo)后向散射產(chǎn)生貢獻(xiàn);
(2)與目標(biāo)不相交的反射線將不會(huì)再產(chǎn)生多次反射;
(3)在復(fù)雜目標(biāo)的多次反射中,每次反射都需要進(jìn)行多次反射的遮擋處理、多次反射面元對的判斷以及多次反射照射面的確定;
(4)多次反射照射面需要進(jìn)行可見和不可見的判斷,對于部分可見的多次反射照射面應(yīng)當(dāng)進(jìn)行裁剪以獲得照射面中的可見部分。
對于給定的目標(biāo),首先根據(jù)入射波方向?qū)δ繕?biāo)進(jìn)行遮擋處理,處理后得到的面片分類成一次入射的可見面和不可見面。每一個(gè)面與一次入射可見面之間發(fā)生的多次反射對后向散射有貢獻(xiàn),與一次入射不可見面之間發(fā)生的多次反射對后向散射無貢獻(xiàn)。因此,這樣就不必進(jìn)行多次反射照射面的可見和不可見的判斷,同時(shí)也不存在部分可見面的情況。采用可見面和不可見面表示原始模型,雖然表示模型的平面數(shù)會(huì)有所增加,但問題的處理大大簡化。
在計(jì)算第M次反射貢獻(xiàn)時(shí)需要根據(jù)第M-1次反射中的照射面和幾何光學(xué)反射場方向確定發(fā)生第M次反射的照射面,并將照射面分為第M次反射可見面和不可見面。對所有第M次反射可見面進(jìn)行物理光學(xué)積分可以得到第M次反射的后向散射貢獻(xiàn)。在計(jì)算第M次反射時(shí),第M次反射照射面的判斷是比較復(fù)雜的過程,其步驟如下:
(1)選擇第M-1次反射照射面中一個(gè)照射面O,根據(jù)平面O的多邊形形狀、位置以及第M-1次幾何光學(xué)反射方向確定與一次可見面可以發(fā)生第M次反射的所有面Pi(i=1,2,…,p);
(3)確定面O反射場在面Qi(i=1,2,…,q)中的照射區(qū)域,得到第M次反射的照射面Ri(i=1,2,…,r);
(4)對所有的M-1次反射照射面重復(fù)以上操作得到所有M次反射照射面中的可見面;
(5)對所有M-1次反射照射面和一次不可見面進(jìn)行類似于上面的判斷,可以得到所有M次反射照射面中的不可見面。
當(dāng)不存在多次反射照射面或多次反射的次數(shù)已達(dá)到預(yù)先設(shè)定的最大多次反射次數(shù)時(shí)停止運(yùn)算。整個(gè)計(jì)算過程中需要反復(fù)進(jìn)行的就是多次反射遮擋處理和多次反射照射面的確定。多次反射的遮擋處理同一次入射的遮擋處理方法類似,不同的僅僅是入射波方向的選取。遮擋處理包括多邊形的相交判斷和多邊形平面的裁剪運(yùn)算兩部分[8]。
對尺寸與入射波波長相比較大的目標(biāo),可以利用PO近似計(jì)算目標(biāo)的遠(yuǎn)區(qū)散射場。略去時(shí)諧因子為ejωt,物理光學(xué)目標(biāo)遠(yuǎn)區(qū)散射場為:
若設(shè)入射電場具有幅度E0和極化矢量,選擇入射波在坐標(biāo)原點(diǎn)處相位為零相位,則入射場可以表示為:
圖2 多次反射示意圖
如圖2所示,p板和q板之間發(fā)生多次反射,入射波在p板發(fā)生第v-1次反射,p板上的反射場在q板上發(fā)生第 p次反射??梢钥闯?,第 p次反射的入射場恰好是第 p-1 次反射場,即 E?iv=E?r(v-1),iv=rv-1(v=1,2,…,N),其中 N 表示給定最大的多次反射次數(shù)。對一次反射,E?i1=E?i0,i1=i0。則第v次幾何光學(xué)反射場可以表示為:
式中,rv表示第 p次反射方向的單位矢量,Pv表示反射場極化方向單位矢量,φv表示參考相位。
當(dāng)?shù)趘次反射的平面位于照明區(qū)時(shí),將產(chǎn)生第v次反射的入射場代入(1)可得第v次反射照射區(qū)域的遠(yuǎn)區(qū)散射場。對給定的散射方向,s是常量,而入射場隨著多次反射的發(fā)生不斷變化。單站情況下,則第 v 次反射照射區(qū)域的遠(yuǎn)區(qū)后向散射場為:
最后,目標(biāo)的RCS為:
式中,N表示所計(jì)算的多次散射的次數(shù),num(v)表示第v次散射中的可見面的數(shù)目,Pr表示雷達(dá)接收極化方向,對于同極化接收,Pr=P0。由于所有面元都采用凸多邊形平面單元,因此公式(4)的計(jì)算可以采用Gordon[9]的方法將面元積分簡化為頂點(diǎn)求和的運(yùn)算。
以常規(guī)正方形三面角反射器和兩種帶活動(dòng)板的三面角反射器為例,利用上述方法進(jìn)行數(shù)值計(jì)算,如圖3所示,(a)為常規(guī)正方形三面角反射器,三個(gè)反射面由三個(gè)邊長為lm的正方形導(dǎo)體板相互垂直拼接而成;(b)為側(cè)翻板型三面角反射器,在常規(guī)三面角反射器兩側(cè)增加兩個(gè)邊長為lm的正方形側(cè)翻板,兩板都與底板垂直,兩個(gè)側(cè)翻板與垂直板之間夾角為δ,并且夾角可調(diào)整;(c)為在常規(guī)三面角反射器上方增加一個(gè)邊長為lm的正方形板,其中上翻板和角反射器一個(gè)角點(diǎn)在上頂點(diǎn)固定,翻板仰角為β,且仰角可調(diào)節(jié)。
三類角反射器邊長均為lm=50cm;對側(cè)翻板型角反射器,側(cè)板夾角δ=135°;對上翻板型角反射器,翻板仰角 β=35.26°;入射波頻率 f=15GHz,極化為VV。
為了驗(yàn)證本文計(jì)算方法的正確性,圖4給出了俯仰角θ=62°時(shí),圖3(b)所示側(cè)翻板型三面角反射器在方位角內(nèi)的后向RCS計(jì)算值和測量值??梢钥闯鲇?jì)算值和測量值吻合的非常好,從而驗(yàn)證了本文方法在計(jì)算多次反射中的有效性和正確性。
圖3 三面角反射器的幾何結(jié)構(gòu)
圖4 帶側(cè)板型角反射器后向RCS
為了驗(yàn)證帶有活動(dòng)板三面角反射器對三面角反射器后向散射波束角度范圍的調(diào)節(jié)作用,需要分別比較常規(guī)型角反射器同側(cè)翻板型角反射器以及常規(guī)型角反射器同上翻板型角反射器的后向RCS。圖5給出了圖3(a)所示常規(guī)型角反射器和圖3(b)所示側(cè)翻板型角反射器在俯仰角θ=54.74°時(shí)的后向RCS。通過比較可知,常規(guī)型角反射器加上側(cè)翻板后,對相同的俯仰角沿方位向的后向散射主瓣寬度變窄。因此,通過適當(dāng)調(diào)整側(cè)翻板夾角可以調(diào)整沿方位角方向的后向散射主瓣寬度。
圖5 常規(guī)三面角反射器的后向RCS
圖6 帶側(cè)翻板型三面角反射器的后向RCS
圖6給出了方位角φ=0°時(shí)圖3(a)所示常規(guī)三面角和圖3(c)所示上翻板型三面角反射器后向RCS。比較兩條曲線可以看出,通過增加上翻板,在相同的方位角上沿俯仰方向的后向散射主瓣寬度在低俯仰區(qū)域壓縮變窄,高俯仰區(qū)域散射基本不發(fā)生變化。因此,通過調(diào)整上翻板的俯仰角可以調(diào)整沿俯仰方向低俯仰角區(qū)域的后向散射主瓣寬度。
本文利用幾何光學(xué)(PO)+物理光學(xué)(PO)的方法計(jì)算帶有活動(dòng)板的角反射器的高頻散射,給出了用于計(jì)算由任意平板構(gòu)成的復(fù)雜目標(biāo)多次反射的通用方法,可以準(zhǔn)確地完成平板目標(biāo)內(nèi)可能存在的多達(dá)上百次的多次反射計(jì)算。對帶側(cè)翻板型和帶上翻板型的兩種三面角反射器的RCS計(jì)算結(jié)果獲得與測量結(jié)果較好的一致性。
研究表明,帶側(cè)翻板和上翻板的角反射器對常規(guī)三面角反射器后向散射主瓣寬度具有較好的調(diào)節(jié)作用,即側(cè)翻板調(diào)節(jié)沿方位角的后向散射主瓣寬度,上翻板調(diào)節(jié)沿俯仰角的后向散射主瓣寬度。利用本文的計(jì)算方法,可以完成反射器的優(yōu)化設(shè)計(jì),對給定的極化和頻率,在預(yù)定的一些空間姿態(tài)角上獲得所希望的RCS方向圖。
[1]Andrsde L A,Nohara E L.Backscattering analysis of flat plate and dihedral corner reflectors using PO and comparison with RCS measurements in anechoic chamber[J].IEEE MTT-S IMOC,2003:719-724.
[2]Knott E F.RCS reduction of dihedral corners[J].IEEE Trans.Antennas and Propagat,1977,25(3):406-409.
[3]Xia Dongyu,Qin Kaibing,Pan Yingfeng.An improved hybrid technique for computing the RCS of dihedral corner reflector with a protrusion[J].IEEE Microwave,Antenna,Propagation and EMC Technologies for Wireless Communications,2009:900-902.
[4]Anderson W C.Consequences of nonorthogonality on the scattering properties ofdihedralreflectors[J].IEEE Trans.Antennas and Propagat,1987,35(10):1154-1159.
[5]Balanis C A,Polka L A,Polycarpou A C.High-frequency Techniques for RCS prediction of plate geometries and a physicaloptics/equivalentcurrents model for the rcs of trihedral corner reflectors[R].NASA-CR-195140 NO:TRC-EM-CAB-9402,1994.
[6]Ferrara G,Mattia F,Posa F.Backscattering study on non-orthogonaltrihedralcorner reflectors[J].IEEE Porp.-Microw.,Antennas Propagat.,1995,142(6):441-446.
[7]Li Chengfan,Zhao Junjuan.Analysis of RCS characteristic of dihedral corner and triangular trihedral corner reflectors[J].IEEE Computer Science and Education(ICCSE),2010:40-43.
[8]孫家廣.計(jì)算機(jī)圖形學(xué)[M].北京:清華大學(xué)出版社,1998.
[9]Gordon W B.Far-Field Approximation to the Kirchoff-helmholtz Representation ofscattered Field[J].IEEE Transaction on Antennas and Propagate,1975,23(7):590-592.