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問:隨著功能性墨水的廣泛應(yīng)用,負(fù)離子墨水在陶瓷行業(yè)中得到了較多地應(yīng)用,負(fù)離子磚產(chǎn)生的負(fù)離子的原理是什么?其作用有哪些?負(fù)離子墨水的性能指標(biāo)有哪些?其應(yīng)用又如何?
答:1 負(fù)離子磚產(chǎn)生負(fù)離子原理
1.1 負(fù)離子產(chǎn)生的原理
原子失去或獲得電子后所形成的帶電粒子叫離子,而負(fù)離子就是帶一個或多個負(fù)電荷的離子。如,氧的離子狀態(tài)為陰離子,也叫負(fù)氧離子。在自然狀態(tài)下,空氣分子的極性呈中性,即不帶電荷。但在宇宙射線、紫外線、微量元素輻射、雷擊閃電、放電、光合作用的光電效應(yīng)等作用下,空氣分子會失去部分圍繞原子核旋轉(zhuǎn)的最外層電子,使空氣發(fā)生電離,逃逸原子核束縛的電子稱為自由電子,帶負(fù)電荷。當(dāng)自由電子與其它中性氣體分子結(jié)合后,就形成帶負(fù)電荷的空氣負(fù)離子。
1.2 負(fù)離子磚產(chǎn)生負(fù)離子的原理
所謂負(fù)離子磚就是使用數(shù)碼噴墨打印技術(shù)將負(fù)離子材料打印在磚面上,再經(jīng)燒成得到的功能陶瓷磚。磚面上的負(fù)離子材料通過微元素的輻射和放電作用,使得空氣發(fā)生電離產(chǎn)生自由離子,自由電子與其它中性氣體分子結(jié)合后,就形成帶負(fù)電荷的空氣負(fù)離子。磚面上的負(fù)離子材料通過高溫熔入到磚面,通過技術(shù)處理后,不會被磨掉,并且具有永久激發(fā)空氣產(chǎn)生負(fù)離子的功效??瞻讟悠芬材軝z測到能釋放一些負(fù)離子的原因是因為陶瓷磚配方本身就有一些能夠釋放負(fù)離子的材料。
2 負(fù)離子磚的作用
2)負(fù)離子磚所釋放出的負(fù)離子能讓人精力充沛,提高人們的工作效率。在不同地區(qū),空氣中存在的負(fù)離子數(shù)目差距相當(dāng)大,經(jīng)研究工作者測定,按每立方厘米空氣中所含負(fù)離子的個數(shù)計算,農(nóng)村有1 000個左右,海濱有4 000個,噴泉、瀑布附近則可達(dá)5 000以上。由于這些地方空氣中負(fù)離子的含量較高,所以使人感到精力充沛。而在一些人口稠密的大城市,由于空氣污染比較嚴(yán)重,負(fù)離子濃度就比較低。據(jù)環(huán)境部門進(jìn)行檢測,在城市中,每立方厘米含有的負(fù)離子在室外也不超過1 000個,室內(nèi)則更少,特別是在電視機(jī)和計算機(jī)旁邊幾乎沒有什么負(fù)離子,長期在這種環(huán)境中學(xué)習(xí)和工作,往往比較疲勞,不利于健康。
3)負(fù)離子磚產(chǎn)生的負(fù)離子還可以改善神經(jīng)衰弱、失眠,通暢心腦血管,降低血液粘稠度,提高人體免疫力,對改善失眠、哮喘,緩解高血壓、糖尿病等頑疾具有顯著療效,相關(guān)研究在許多文獻(xiàn)中都有詳細(xì)報道。
4)負(fù)離子磚產(chǎn)生的負(fù)離子還可以凈化空氣,它通過還原來自大氣的污染物質(zhì)、氮氧化物、香煙等產(chǎn)生的活性氧(氧自由基)、減少過多活性氧對人體的危害;中和帶正電的空氣飄塵無電荷后沉降,使空氣得到凈化。
3 負(fù)離子墨水的性能指標(biāo)
負(fù)離子墨水是將負(fù)離子材料與溶劑、分散劑、助劑等原料按照一定的配比,經(jīng)研磨達(dá)到合適性能的墨水。負(fù)離子陶瓷墨水能夠兼容不同型號的打印機(jī)與噴頭,不會影響釉的性能,產(chǎn)品燒成后無色、無痕。同時,也不會影響其他顏色的發(fā)色,及圖案的設(shè)計。在使用過程中不會堵塞噴頭,具有負(fù)壓穩(wěn)定、不滴墨、不滲墨、不掛墨、不飛墨等優(yōu)點。
細(xì)度D10: 大于0.005 μm,表面張力:25~35 mN/m;細(xì)度D50:0.01~0.03 μm;比重:1.10~1.19 g/cm3;
細(xì)度D100:小于1 μm;粘度(40 ℃):20~30 cp;燒成溫度:1000~1200℃;打印發(fā)生量:>1 500個/scm
同樣,針對“示例1”的情況,若采用部分納入的方案,此時,取樣、分析、計算(A、B、C)的這一過程在DCS中完成。ACC接收計算結(jié)果,將其轉(zhuǎn)化為指令a、b、c并下達(dá)至各終端設(shè)備。且在DCS故障或新的計算結(jié)果未到達(dá)之前,ACC系統(tǒng)仍可保持上一個工況連續(xù)運(yùn)行,保證生產(chǎn)運(yùn)營,其流程見圖4。
4 負(fù)離子墨水的上機(jī)應(yīng)用
由于負(fù)離子墨水的特色之一就在于打印在磚的表面上達(dá)到負(fù)離子高發(fā)生量且能有效降低成本。所以,負(fù)離子墨水要在瓷磚上完圖案后才噴印,有6通道以上的可以直接在最后一個通道上墨水。如果只有4通道的,可以把不常用的粉色通道或者黑色通道讓出來上負(fù)離子墨水。負(fù)離子墨水不一定只用在噴墨磚上,采用輥筒或者網(wǎng)版印花的磚,也可以用噴墨機(jī)把負(fù)離子墨水噴上去。 目前,負(fù)離子墨水已經(jīng)在賽爾噴頭、柯尼卡噴頭、北極星、精工、東芝、星光等噴頭上應(yīng)用,打印效果不受影響。使用Kerajet、System、希望、泰威、精陶、新景泰、美嘉等機(jī)器上打印效果也不受影響。
問:影響拋光磚表面不平整的原因有哪些?其解決措施是什么?
答:1 影響拋光磚表面不平整的原因
由于采用彈性軟質(zhì)模塊進(jìn)行拋光工序生產(chǎn),在整個拋光過程中的拋削量非常小,如表面透明釉層不平則會出現(xiàn)拋磨后的水波紋、表面波浪形等缺陷。瓷磚表面不平整,在整體鋪貼使用時,會影響裝飾美觀性和整體感。而瓷磚存在波浪形在凸凹部位會產(chǎn)生不同的光線折射,進(jìn)而使得花紋立體感減弱,不夠統(tǒng)一和諧。另外,產(chǎn)品在燒制過程中會產(chǎn)生輥棒印,進(jìn)而影響到磚的平整度,最終使得拋磨時產(chǎn)生點接觸、線接觸而非面接觸,從而導(dǎo)致軟拋后釉表面凹凸不平整。
2 拋光磚表面平整的解決措施
2.1 調(diào)整壓機(jī)工序
由于水波紋的凹坑在方格紋的經(jīng)上,采用經(jīng)緯紋底模后可減少水波紋的深度從而減少因輥棒印所引起的表面拋磨后不平現(xiàn)象。另外,由于方格紋的筋致密度低,導(dǎo)致凹坑,為了減少筋與格子致密度差的問題,可將壓機(jī)壓力稍微降低,從而改善表面平整度。
2.2 調(diào)整釉線工序
在拋釉量較少的情況下,當(dāng)透明釉配方為偏高溫時,會在釉層內(nèi)產(chǎn)生較多毛孔,因而無法生產(chǎn)深色產(chǎn)品。在生產(chǎn)中可以采用更換低溫透明釉,并采取增加拋釉量的方法加大拋光壓力,減少毛孔與水波紋,增加磚面平整度。
2.3 調(diào)整釉線工序
當(dāng)窯爐前溫排煙管粗、抽熱量大、前溫高、正壓小時,磚氧化效果好,側(cè)邊針孔少,進(jìn)而磚面平整度高,拋光后不易產(chǎn)生波浪紋。另一方面,可以優(yōu)化燒成窯爐燒成曲線,提高窯爐前溫,拉長窯爐氧化時間,降低最高溫度,從而減少輥棒印,以提高磚面平整度。
2.4 調(diào)整拋光工序
更換粗拋硬質(zhì)磨塊,加大磨盤壓力,可以解決水波紋問題。但同時需要增加施釉量,避免出現(xiàn)過拋現(xiàn)象。由于淋釉量較厚,透明釉需經(jīng)過兩次淋釉而成,并且兩次淋釉過程中都有干燥步驟,因而透明釉層能夠完全干燥,在燒制過程中不會產(chǎn)生裂痕,燒制后經(jīng)非彈性模塊拋磨后能夠保證拋釉磚的表面平整度,不會產(chǎn)生波浪紋。
2.5 透明釉配方改進(jìn)
在高溫?zé)蓵r,坯釉中的有機(jī)物氧化會釋放出氣體,如果在釉熔化之前氣體沒有排除干凈,釉面就會產(chǎn)生許多毛孔;如果釉熔化后,表面張力過大,也會導(dǎo)致釉面產(chǎn)生水波紋或橘皮狀,影響美觀。因而調(diào)節(jié)釉料配方使之與坯體膨脹系數(shù)相適應(yīng),并通過改善透明釉層的性能,從而對提高瓷磚表面平整度是非常必要的。如在透明釉配方中加入微晶細(xì)粉,或者降低配方中熔劑的含量并提高氧化鋁的含量,這樣可以調(diào)節(jié)釉的始熔溫度,便于氣體完全排除。
2.6 增加保護(hù)釉層
增加一層始熔點比透明釉始熔點低的保護(hù)釉后,保護(hù)釉在燒制過程中先熔融,產(chǎn)生玻璃相壓制住磚坯燒成過程中分解產(chǎn)生的氣體,使得透明釉層無法形成針孔及小氣泡等缺陷,進(jìn)而提高釉面的平整度。另外就是增加一層高溫粘度大的保護(hù)釉,由于高溫下黏度大,因而可以阻止底層氣體排出,從而解決釉面針孔凹釉等缺陷,并在淋保護(hù)釉后通過素?zé)沟么u坯釉面更好地吸收釉料和減少釉層氣泡。在素?zé)倪^程中水分有機(jī)物揮發(fā),結(jié)合保護(hù)釉在燒制過程中對底層氣體的壓制作用,避免坯體氣體蒸發(fā)形成氣孔,并降低坯體水分,也可防止在燒成過程中產(chǎn)生裂紋甚至炸坯。另外,在淋透明釉過程中磚面對釉的吸收更充分,也能減少釉層凹釉,從而解決系列生產(chǎn)工藝穩(wěn)定性問題,并且保證釉面的平整,燒制后的產(chǎn)品由于印花層上的保護(hù)釉層與透明釉層厚度較厚和平整,因而可以采用非彈性模塊進(jìn)行拋磨,從而保證其表面的超平和鏡面效果。